Waiting
Login-Verarbeitung ...

Trial ends in Request Full Access Tell Your Colleague About Jove
JoVE Journal
Engineering

Ein Abonnement für JoVE ist erforderlich, um diesen Inhalt ansehen zu können. Melden Sie sich an oder starten Sie Ihre kostenlose Testversion.

Селективный Площадь Модификация поверхности кремния смачиваемости импульсным УФ лазерного облучения в жидкой среде
 
Click here for the English version

Селективный Площадь Модификация поверхности кремния смачиваемости импульсным УФ лазерного облучения в жидкой среде

Article DOI: 10.3791/52720-v 08:48 min November 9th, 2015
November 9th, 2015

Kapitel

Summary

Please note that all translations are automatically generated.

Click here for the English version.

Мы сообщаем о процессе в Ситу изменение HF лечение Si (001) в гидрофильной или гидрофобной государства путем облучения образцов в микрофлюидных камерах, наполненных H 2 O 2 / H 2 O раствор (0,01% -0,5%) или метанол решения с помощью импульсного УФ лазер относительно низкой плотности энергии импульса.

Tags

Инженерная выпуск 105 кремний поверхность смачивания лазерной поверхность взаимодействия селективное обработка площадь эксимер-лазерная рентген фотоэлектронной спектроскопии контактный угол
Read Article

Get cutting-edge science videos from JoVE sent straight to your inbox every month.

Waiting X
Simple Hit Counter