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JoVE Journal Engineering
InAlN 장벽 높은 전자 이동도 트랜지스터 N-극성 플라즈마를 이용한 분자 빔 에피 택시
A Cost-effective and Reliable Method to Predict Mechanical Stress in Single-use and Standard Pumps
Journal (Engineering)
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Design and Fabrication of an Optical Fiber Made of Water
Journal (Engineering)
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InAlN 장벽 높은 전자 이동도 트랜지스터 N-극성 플라즈마를 이용한 분자 빔 에피 택시

Article DOI: 10.3791/54775-v • 10:31 min • November 24th, 2016
November 24th, 2016 •
1, 2, 2, 2, 2, 2
1NRC Postdoctoral Scholar, Naval Research Laboratory, 2Electronics Science and Technology Division, Naval Research Laboratory

Kapitel

Summary
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분자 빔 에피 택시는 N 극성 InAlN 장벽이 높은 전자 이동도 트랜지스터 (HEMT들)을 성장하는 데 사용됩니다. 1,750cm 2 / V ∙ 초만큼 높은 이동성을 가진 부드러운 구조적으로 균질 InAlN 층 및 HEMT들에서 웨이퍼 제조 관리, 층 성장 조건 및 에피 택셜 구조의 결과.

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공학 판 (117) 분자 빔 에피 택시 GaN으로 III-질화물 InAlN 고 전자 이동도 트랜지스터 반도체 성장
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