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Investigación capa de emisión espectroscópica de límites durante el ablativo de Ensayo de Materiales en Plasmatron
Monolayer Contact Doping of Silicon Surfaces and Nanowires Using Organophosphorus Compounds
Journal (Engineering)
Monolayer Contact Doping of Silicon Surfaces and Nanowires Using Organophosphorus Compounds
Use of Sacrificial Nanoparticles to Remove the Effects of Shot-noise in Contact Holes Fabricated by E-beam Lithography
Journal (Engineering)
Use of Sacrificial Nanoparticles to Remove the Effects of Shot-noise in Contact Holes Fabricated by E-beam Lithography
 
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Investigación capa de emisión espectroscópica de límites durante el ablativo de Ensayo de Materiales en Plasmatron

Article DOI: 10.3791/53742-v • 09:41 min • June 9th, 2016
June 9th, 2016 •
1,2, 1, 2, 1
1Aeronautics and Aerospace Department, von Karman Institute for Fluid Dynamics, 2Research Group Electrochemical and Surface Engineering, Vrije Universiteit Brussel

Capítulos

Tags

Ingeniería Número 112 la ingeniería aeroespacial Termofísica la ablación los materiales compuestos la espectroscopia de emisión transición de fase propiedades de alta temperatura química análisis microescala diagnóstico óptico
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