Name: Electrospray Deposizione di uniformità di spessore Ge 23 Sb 7 S 70 E As 40 S 60 calcogenuri vetro Cinema (Video) | JoVE Journal
Uploaded: 2016-08-19T14:00:00.000+00:00
Duration: 8 min 38 s
Description: Impara la deposizione elettrospray di vetri calcogenuri per applicazioni fotoniche nel medio infrarosso. Questo metodo consente deposizione localizzata e profili di spessore controllati per sensori chimici avanzati.

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Il finanziamento per questo lavoro è stato fornito dai contratti della Defense Threat Reduction Agency HDTRA1-10-1-0073: HDTRA1-13-1-0001.

Attenzione: Si prega di consultare le schede di sicurezza (SDS) quando si lavora con queste sostanze chimiche, ed essere consapevoli degli altri pericoli come ad alta tensione, il movimento meccanico del sistema di deposizione, e le alte temperature della piastra e forni utilizzati. Nota: Iniziare questo protocollo con il vetro calcogenuro di massa, che viene preparato da noti tecniche di fusione di tempra 2. 1. Preparazione di CHG Solutions Nota: Due soluzioni sono utilizzati in questo studio, Ge 23 Sb 7 S 70 e As 40 S 60, sia disciolto in etanolammina alla concentrazione di 0,05 g / ml. La preparazione delle due soluzioni sono identici. Eseguire tutti i passaggi in questa sezione all&#39;interno di una cappa aspirante. <ol><li> Schiacciare il vetro di massa in una polvere fine con un mortaio e pestello. </li><li> Mescolare 0,25 g del vetro con 5 ml di solvente etanolamina. </li><li> Consentire 1-2 giorni per la completa dissoluzioneil vetro. Accelerare la dissoluzione riscaldando la soluzione su una piastra con una temperatura superficiale di ~ 50-75 ° C. Aumentare il tasso di dissoluzione con agitazione della miscela, ad esempio con una barra di agitazione magnetica. </li><li> soluzione filtro in una fiala con 0,45 micron politetrafluoroetilene filtro (PTFE) per rimuovere eventuali grandi precipitati dalla soluzione. </li></ol> 2. Impostazione del processo di deposizione Nota: Il sistema di deposizione elettrospray è rappresentato schematicamente in figura 1 In questo processo, una siringa di vetro 50 microlitri con pistone PTFE a punta viene utilizzato.. La siringa è uno stile ago asportabile con un 22 gauge diametro esterno dell&#39;ago (diametro esterno 0,72 millimetri 0,17 mm di diametro interno) cono-punta, ed è collegato alla pompa a siringa orientato verticalmente del sistema elettrospray. Il sistema elettrospray è esposto all&#39;atmosfera ambiente in questi esperimenti iniziali, anche se il sistema è predisposto all&#39;interno di un vano portaoggetti. Il sistema dovrebbe essere in sét-up in una posizione in cui è isolato dall&#39;utente, come ad esempio una cappa aspirante. <ol><li> Posizionare l&#39;estremità dell&#39;ago nella soluzione ChG. Aspirare la soluzione nella siringa impostando la pompa a siringa in modalità estratto ad una velocità lenta, ad esempio 150 ml / hr, per evitare la formazione di bolle. </li><li> Impostare la distanza di lavoro (10 mm in questo caso) tra l&#39;estremità dell&#39;ugello e la parte superiore del substrato di Si tramite il CNC in modalità spostamento manuale. Posizionare il substrato di Si, che è non drogato ed ha una resistività di 10.000 Ohm-cm, su una piastra di alluminio collegato al ritorno a terra elettrica. </li><li> Consentire un piccolo volume di liquido per rivestire la superficie esterna dell&#39;ugello erogando un liquido dalla siringa utilizzando la pompa a siringa. Attivare piastra su ad una temperatura superficiale di circa 75-100 ° C. Attendere ~ 2 ore per consentire una pellicola di vetro a secco sulla superficie dell&#39;ugello. Questo rivestimento aiuta la stabilità dello spray. </li></ol> 3. Electrospray Deposizionedi chg Films <ol><li> Collegare la corrente continua (DC) alimentazione all&#39;ugello siringa con una clip elettrica. </li><li> Impostare la portata a 10 ml / h, e sintonizzare tensione continua per formare un cono di Taylor stabile (~ 4 kV a 10 mm di distanza di lavoro). Visualizza lo spray con una telecamera alto ingrandimento. </li><li> Inizia motion CNC dello spray sul substrato per depositare pellicole, una volta che lo spray è stabile. <ol><li> Utilizzare un percorso tortuoso per spessore uniforme, o unidimensionale (1-D) passa per un profilo di spessore lineare. </li><li> Utilizzare passa con una distanza maggiore della larghezza del substrato, in modo tale che lo spruzzo sposta completamente fuori del substrato prima di effettuare il passaggio successivo. Questo viene fatto in modo che la portata del liquido è la stessa in ogni punto sul substrato. </li><li> Controllare il CNC utilizzando il software LinuxCNC. Per un esempio, utilizzare il codice G supplementare per un percorso a serpentina con 0,5 mm di offset tra le passate, velocità di 20 mm / min, e 30 mm di lunghezza dei passi. Figura 1 </strong&gt; mostra uno schema di un film realizzato con il percorso a serpentina e definisce il sistema di coordinate anche. </li></ol></li><li> Sottoporre il film depositato ad una serie di trattamenti termici sotto vuoto per 1 ora ciascuno a 100, 125, 150 e 175 ° C e 16 ore a 200 ° C. Una ottimizzazione dei parametri di trattamento termico è presentato nella sezione Risultati rappresentativi di questo articolo. </li></ol> 4. Caratterizzazione dei film CHG <ol><li> Caratterizzazione di rimozione residua di solventi <ol><li> Prendere uno spettro di trasmissione FTIR periodicamente durante le condizioni di ricottura, misurando la stessa posizione sul campione di volta in volta. Disegnare un contorno del substrato sul palco del campione, e posizionarlo all&#39;interno di questo schema ogni volta che viene presa una misurazione. <ol><li> Nel software FTIR, fai clic su &quot;Imposta Experiment&quot;, e digitare il numero di scansioni come 64. Fare clic sulla scheda &quot;da banco&quot; e digitare nel campo di scansione a 7.000 cm -1 a 500 cm -1. Prendere una scansione di fondo con solo la fase del campione nello strumento cliccando su &quot;Raccogliere sfondo.&quot; Poi posto il campione sul palco, e fare clic su &quot;Sample Collect&quot; per prendere lo spettro del campione. </li></ol></li><li> Per monitorare l&#39;eliminazione del solvente, stimare la dimensione degli assorbimenti organici nella matrice film. Nel software FTIR, tracciare una linea di base nel campo spettrale di interesse, a circa 2,300-3,600 cm -1. Il software calcola l&#39;area sotto lo spettro di trasmissione del campione, rispetto alla linea di base designata dall&#39;utente. </li></ol></li><li> Misurazione dello spessore del film <ol><li> Gratta il film con una pinzetta punta fine, fino a quando il substrato scuro diventa visibile tra la pellicola di colore più chiaro, che in genere si verifica in un unico movimento di graffiare con una leggera pressione. Rimuovere i detriti causati da graffi con azoto compresso. <ol><li> Misurare lo spessore del film coperta utilizzando un profilometro contattoper determinare l&#39;altezza del gradino dalla pellicola al substrato. Apri &quot;Configurazione di misura&quot; e digitare velocità di scansione di 0,1 mm / sec, e la lunghezza di scansione di 500 micron. </li><li> Posizionare campione sul palco, localizzare il graffio e ruotando il campione in modo che il graffio è orientata nella direzione sinistra-destra. Spostare lo stadio in modo che il mirino sono appena sotto il graffio, e iniziare la scansione della superficie cliccando su &quot;misura&quot;. </li><li> Una volta che la scansione è terminata, trascinare la R e cursori M in modo che siano entrambi sulla superficie del film, e fare clic su &quot;Livello due punti lineare&quot; per livellare il profilo superficiale. Spostare un cursore al fondo del graffio, e annotare la distanza tra ogni posizione del cursore nel y-quota. Misurare lo spessore in più posizioni per ottenere uno spessore medio e varianza nei dati. </li></ol></li><li> Determinare i profili di spessore dei film di spessore non uniforme attraverso la scansione del profilometro sull&#39;intera pellicola (perpendicolare al 1motion -D usata per depositare film), e utilizzare questo profilo di superficie per creare un grafico dello spessore del film vs. posizione. <ol><li> Scansione sull&#39;intera pellicola inserendo una lunghezza di scansione appropriata maggiore della larghezza del film, di solito 10-20 mm, in &quot;Setup misurazione&quot;. Posizionare il mirino su substrato non rivestito su un lato della pellicola e clicca &quot;Measurement&quot;, permettendo al profilometro per completare la scansione su substrato non rivestito sull&#39;altro lato della pellicola. Fare clic destro sul profilo della superficie e l&#39;esportazione in un file .csv. </li><li> In alternativa, se il substrato non è abbastanza piatta per ottenere dati affidabili spessore, graffiare il film fino al substrato con circa 1 mm tra le graffiature e profilometro scansione su tutta la pellicola. Annotare lo spessore e la posizione orizzontale ad ogni zero, e creare un grafico dello spessore del film vs. posizione da questi punti di dati. </li></ol></li></ol></li><li> Misurare rugosità superficiale con un interferometro a luce bianca13. Regolare l&#39;inclinazione fuoco e la fase di generare frange di interferenza sull&#39;intera area di misura, che in questo caso era 414 micron x 414 micron usando l&#39;obiettivo 5x. Prendere cinque misurazioni attraverso il film spessore uniforme per determinare la rugosità media e la varianza dei dati. </li><li> Misurare l&#39;indice di rifrazione con un ellissometro 14 nell&#39;intervallo 600-1,700 nm. In questo caso, utilizzare un angolo di incidenza di 60 °, e focalizzare il fascio ad uno spot di 35 micron. <ol><li> Effettuare una misurazione sul substrato non rivestito, montaggio dei dati per determinare lo spessore dello strato di ossido nativo. Utilizzare queste informazioni per modellare il campione come un sistema a tre strati: Si wafer + ossido nativo + film depositato. Prendere otto misurazioni in diversi punti del campione per determinare l&#39;indice medio di rifrazione e varianza, mentre si utilizza il modello di Cauchy per adattarsi ai dati. </li></ol></li></ol>

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<li>Song, S., Dua, J., Arnold, C. B. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Influence+of+annealing+conditions+on+the+optical+and+structural+properties+of+spin-coated+As2S3+chalcogenide+glass+thin+films%5BTitle%5D)+AND+%22Opt.+Exp%22%5BJournal%5D)">Influence of annealing conditions on the optical and structural properties of spin-coated As2S3 chalcogenide glass thin films.</a> Opt. Exp. 18 (6), 5472-5480 (2010).</li>
<li>Deng, W., Klemic, J. F., Li, X., Reed, M. A., Gomez, A. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Increase+of+electrospray+throughput+using+multiplexed+microfabricated+sources+for+the+scalable+generation+of+monodisperse+droplets%5BTitle%5D)+AND+%22J.+Aerosol.+Sci%22%5BJournal%5D)">Increase of electrospray throughput using multiplexed microfabricated sources for the scalable generation of monodisperse droplets.</a> J. Aerosol. Sci. 37 (6), 696-714 (2006).</li>
</ol>

Gli autori non hanno nulla da rivelare.

All&#39;inizio di un film spessore uniforme depositato con moto serpentina dello spray rispetto al substrato, il profilo spessore del film è in aumento. Una volta che la distanza percorsa nella direzione y supera il diametro dello spray (all&#39;arrivo in substrato), il tasso di flusso diventa approssimativamente equivalente per ogni punto sul substrato, e si realizza uniformità di spessore. Per determinare i parametri di deposizione appropriati di un film di spessore uniforme electrosprayed, spessore del film teorica, ...

Vetri calcogenuri (ChGs) sono ben noti per la loro trasmissione a infrarossi ampia e riconducibilità a spessore uniforme, la deposizione di film coperta 1-3. On-chip guide d&#39;onda, risonatori e altri componenti ottici possono essere formati da questo film di tecniche di litografia, e quindi il successivo rivestimento polimerico per fabbricare dispositivi microphotonic 4-5. Un&#39;applicazione chiave che cerchiamo di sviluppare è piccolo, poco costoso, dispositivi di rilevamento chimico altamente sensibili che operano nel mid-IR, dove molte specie organiche hanno firme ottici 6. sensori chimici Microphotonic possono essere distribuiti in ambienti difficili, come ad esempio nei pressi di reattori nucleari, in cui l&#39;esposizione alle radiazioni (raggi gamma e alfa) è probabile. Quindi un ampio studio della modifica delle proprietà ottiche dei materiali elettrospray CHG è critica e sarà segnalato in un altro documento. In questo articolo, deposizione di film electrospray di ChGs è esposta, in quanto è un metodo solo recentementeapplicato a ChGs 7. I metodi di deposizione di film esistenti possono essere classificati in due categorie: tecniche di deposizione di vapore, come l&#39;evaporazione termica di obiettivi Chg rinfusa, e tecniche di soluzione derivate, ad esempio per spin-coating una soluzione di ChG disciolto in un solvente ammina. Generalmente, pellicole soluzione derivata tendono a produrre un aumento di perdita del segnale luminoso per la presenza di solvente residuo nella matrice film 3, ma un unico vantaggio di tecniche di soluzione derivata oltre deposizione di vapore è il semplice inserimento di nanoparticelle (ad esempio, quantum dots o QD) prima spin-coating 8-10. Tuttavia, l&#39;aggregazione delle nanoparticelle è stata osservata in rotazione rivestite film 10. Inoltre, mentre la deposizione e spin-coating approcci vapori sono particolarmente adatti alla formazione di spessore uniforme, film coperta, essi non si prestano bene a deposizioni localizzate, o film di spessore non uniforme ingegnerizzati. Fnoltre, scale-up di spin-coating è difficile a causa di residui ad alta materiale dovuto al dilavamento dal substrato, e perché non è un processo continuo 11. Per superare alcuni dei limiti delle attuali tecniche di deposizione di film Chg, abbiamo investigato l&#39;applicazione elettrospray al sistema materiali Chg. In questo processo, uno spray aerosol può essere formata della soluzione ChG applicando un campo elettrico ad alta tensione 7. Poiché si tratta di un processo continuo che è compatibile con il processo di roll-to-roll, nei pressi utilizzo 100% di materiale è possibile, il che è un vantaggio rispetto spin-coating. Inoltre, abbiamo proposto che l&#39;isolamento dei singoli QD nelle singole goccioline ChG aerosol potrebbe portare ad una migliore dispersione QD, a causa delle goccioline cariche essendo spazialmente auto-disperdente dalla repulsione Coulombiana, combinata con i più rapidi cinetiche essiccazione delle goccioline elevata area superficiale che minimizzano il movimento di QD causa dellaaumentando la viscosità delle goccioline mentre in volo 7, 12. Infine, la deposizione localizzata è un vantaggio che può essere utilizzato per fabbricare rivestimenti GRIN. Esplorazioni di entrambi incorporazione QD e GRIN fabbricazione di ChG con elettrospray sono attualmente in corso per essere presentata come un prossimo articolo. In questa pubblicazione, la flessibilità del electrospray è dimostrata da entrambi deposizioni localizzati e film di spessore uniforme. Per studiare l&#39;idoneità dei film per applicazioni fotoniche planari, trasmissione trasformata di Fourier spettroscopia infrarossa (FTIR), qualità delle superfici, lo spessore, e le misurazioni dell&#39;indice di rifrazione sono utilizzati.

<table><tbody><tr><td>Etanolammina</td><td>Sigma-Aldrich</td><td>411000-100ML</td><td>99,5% di purezza</td></tr><tr><td>Si</td><td>wafer University Wafer</td><td>1708</td><td>Siringa lucidata su due lati, non drogata</td></tr><tr><td></td><td>Sigma-Aldrich</td><td>20788</td><td>Hamilton serie 700, volume 50 microlitri</td></tr><tr><td>Pompa a siringa</td><td>Chemyx</td><td>Nanojet</td><td></td></tr><tr><td>CNC fresatrice</td><td>MIB instruments</td><td>CNC 3020</td><td></td></tr><tr><td>Alimentatore</td><td>Acopian</td><td>P015HP4</td><td>Alimentatore AC-DC, 15 kV, 4 mA</td></tr></tbody></table>

electrospray deposizione di uniformità di spessore ge<sub&gt; 23</sub&gt; sb<sub&gt; 7</sub&gt; s<sub&gt; 70</sub&gt; e as<sub&gt; 40</sub&gt; s<sub&gt; 60</sub&gt; calcogenuri vetro cinema

Electrospray Deposition of Uniform Thickness Ge23Sb7S70 and As40S60 Chalcogenide Glass Films

Soluzione a base di deposizione di film elettrospray, che è compatibile con continuo, il processo di roll-to-roll, viene applicato agli occhiali calcogenuri. Due composizioni calcogenuri sono dimostrati: Ge 23 Sb 7 S 70 e il 40 S 60, che sono stati entrambi ampiamente studiata per medio infrarosso (mid-IR) dispositivi microphotonic planari. In questo approccio, i film di spessore uniforme vengono fabbricati mediante l&#39;uso di controllo (CNC) motion numerico del computer. vetro calcogenuro (ChG) è scritto sul substrato da un singolo ugello lungo un percorso a serpentina. Films sono stati sottoposti ad una serie di trattamenti termici tra 100 ° C e 200 ° C sotto vuoto per allontanare il solvente residuo e densificare film. Sulla base di Fourier trasmissione spettroscopia infrarossa in trasformata (FTIR) e la superficie misure di rugosità, entrambe le composizioni sono stati trovati per essere adatto per la fabbricazione di dispositivi planari operanti nella regione medio-IR. solvente residuorimozione è risultato essere molto più veloce per As 40 S 60 pellicola rispetto al Ge 23 Sb 7 S 70. Sulla base dei vantaggi di elettrospray, stampa diretta di un rivestimento trasparente gradiente di indice di rifrazione (GRIN) mid-IR è previsto, data la differenza di indice di rifrazione dei due composizioni in questo studio.

Una rappresentazione schematica del percorso a serpentina utilizzato per ottenere film di spessore uniforme con singola electrospray ugello è mostrato nella Figura 2. La Figura 3 mostra uno spettro esempio trasmissione FTIR di un parzialmente vulcanizzato 40 S 60 film realizzato con moto serpentina dello spray, come così come lo spettro di solvente puro etanolammina. Dalle informazioni che possono essere ottenute dagli spettri FTIR,...

Un metodo di deposizione di film di vetro calcogenuro derivato da una soluzione di spessore uniforme viene dimostrato utilizzando il movimento controllato numericamente computerizzato di un elettrospray a ugello singolo.

Electrospray Deposizione di uniformità di spessore Ge<sub&gt; 23</sub&gt; Sb<sub&gt; 7</sub&gt; S<sub&gt; 70</sub&gt; E As<sub&gt; 40</sub&gt; S<sub&gt; 60</sub&gt; calcogenuri vetro Cinema

Solution-based electrospray film deposition, which is compatible with continuous, roll-to-roll processing, is applied to chalcogenide glasses. Two ...

L'obiettivo generale di questa ricerca è sviluppare la deposizione di film mediante elettrospruzzo di vetri calcogenurici per applicazioni fotoniche nell'infrarosso medio, ed esplorare la flessibilità unica di questo metodo di deposizione. I principali vantaggi di questa tecnica consistono nella possibilità di effettuare una deposizione localizzata del materiale, con la capacità di realizzare un profilo di spessore del film progettato. Ciò rende possibile creare un gradiente compositivo variabile nello spazio. Grazie a questi vantaggi, l'elettrospruzzo può far progredire il campo dei dispositivi basati su chip per la rilevazione chimica nel medio infrarosso, consentendo una progettazione del dispositivo più flessibile. Per impostare il processo di deposizione, posizionare innanzitutto l'estremità dell'ago all'interno del vetro calcogenuro. Aspirare la soluzione nella siringa impostando la pompa per siringa sulla modalità Estrazione a una velocità lenta, ad esempio 150 microlitri all'ora, per evitare la formazione di bolle d'aria. Impostare la distanza operativa tra l'estremit&agrave; della punta e la superficie superiore del substrato di silicio utilizzando il controllo numerico computeri

electrospray-deposition-uniform-thickness-ge23sb7s70-as40s60

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Il solfuro di stagno (SnS) è un materiale candidato per celle solari abbondanti sulla Terra e non tossiche. Qui, dimostriamo la procedura di fabbricazione delle celle solari SnS che impiegano la deposizione di strati atomici, che produce un'efficienza di conversione di potenza certificata del 4,36%, e l'evaporazione termica che produce il 3,88%.

Rendere record efficienza SnS celle solari per evaporazione termica e Atomic Layer Deposition

Viene descritta una metodologia praticabile basata sulla stampa di trasferimento per introdurre nanostrutture metalliche plasmoniche nelle celle solari.  Utilizzando timbri di poli(dimetilsilossano) nanopillar, un array di nanodischi ordinato basato su Ag è stato integrato con celle solari Si microcristalline idrogenate standard, che hanno portato a migliori prestazioni del dispositivo grazie all'intrappolamento della luce plasmonica.

Integrazione di luce Trapping Argento Nanostrutture in silicio microcristallino idrogenato celle solari tramite bonifico stampa

Qui vi presentiamo un protocollo per la sintesi di Zn 1-x mg x O / Cu 2 O eterogiunzioni in open-air a bassa temperatura tramite pressione atmosferica spaziale Atomic Layer Deposition (AP-SALD) di Zn 1-x mg x O su ossido rameoso. Tali ossidi metallici conformazionale alta qualità possono essere coltivate su una varietà di substrati compresi plastiche di questo metodo economico e scalabile.

Qualità Heterojunction migliorata in Cu<sub&gt; 2</sub&gt; O basati su celle solari attraverso l&#39;ottimizzazione della pressione atmosferica spaziale atomica strato depositato<br /&gt; Zn<sub&gt; 1-x</sub&gt; Mg<sub&gt; x</sub&gt; O

Viene presentato un protocollo per la preparazione di film epitassiali macroporosi piezoelettrici di quarzo su silicio mediante chimica in soluzione utilizzando il rivestimento per immersione e trattamenti termici in aria.

Preparazione di macroporosi Epitassiali Films quarzo su silicio da Solution Chemical Deposition

Presentiamo un metodo dettagliato per la realizzazione di pellicole a colori ultra-sottile con caratteristiche migliorate per rivestimenti ottici. La tecnica di deposizione di angolo obliquo utilizzando un evaporatore del fascio di elettroni permette accordabilità colore migliorato e purezza. Film fabbricato di Ge e Au su substrati di Si sono stati analizzati mediante misure di riflettanza e conversione di informazioni di colore.

Fabbricazione di film ultra-sottile di colore con altamente assorbente Media mediante deposizione di angolo obliquo

Qui, presentiamo un protocollo per controllare il numero di elemento portante nei solidi utilizzando l'elettrolita.

Controllo campo elettrico degli stati elettronici in nanodispositivi2 WS di elettrolita Gating

Questo documento ha lo scopo di presentare un metodo per formare pellicole lisce e ben controllate di cloruro d'argento (AgCl) con copertura designata sopra gli elettrodi d'argento a pellicola sottile.

Fabbricazione di elettrodi a pellicola d'argento/argento con cloruro d'argento a livello singolo finemente controllato

Questo lavoro descrive il processo completo di fabbricazione dei dispositivi fotovoltaici di cassiedi di cadmio seleziono/cadmium sottili assorbenti per una maggiore efficienza. Il processo utilizza un sistema automatico di vuoto in linea per una deposizione di sublimazione dello spazio ravvicinato scalabile, dalla fabbricazione di dispositivi di ricerca su piccola area e moduli su larga scala.

Celle solari CdSeTe/CdTe ultrasottili a sublimazione a distanza ravvicinata per una maggiore densità e fotoluminescenza di corrente a corto circuito

Il manoscritto descrive un protocollo per lo sputtering magnetron a radiofrequenza di film sottili termoelettrici Bi2Te3 e Sb2Te3 su substrati di vetro, che rappresenta un metodo di deposizione affidabile che fornisce una vasta gamma di applicazioni con il potenziale per un ulteriore sviluppo.

Fabbricazione di film sottili termoelettrici Bi2Te3 e Sb2Te3 utilizzando la tecnica di sputtering magnetron a radiofrequenza

Impara la deposizione elettrospray di vetri calcogenuri per applicazioni fotoniche nel medio infrarosso. Questo metodo consente deposizione localizzata e profili di spessore controllati per sensori chimici avanzati.

Electrospray Deposizione di uniformità di spessore Ge

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