Name: Electrospray Deposição de espessura uniforme, Ge 23 Sb 7 S 70 E Como 40 S 60 Films vidro chalcogenide (Vídeo) | JoVE Journal
Uploaded: 2016-08-19T14:00:00.000+00:00
Duration: 8 min 38 s
Description: Aprenda deposição por eletrojato de filmes de vidro calcogênico com espessura uniforme para aplicações fotônicas no infravermelho médio. Este método permite deposição localizada e avança dispositivos de sensoriamento químico em chip.

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O financiamento para este trabalho foi fornecido pelos contratos da Agência de Redução de Ameaças de Defesa HDTRA1-10-1-0073: HDTRA1-13-1-0001.

Cuidado: Por favor, consulte as Folhas de Dados de Segurança (FDS) quando se trabalha com esses produtos químicos, e estar ciente dos outros riscos, tais como alta tensão, o movimento mecânico do sistema de deposição e altas temperaturas do fogão e fornos utilizados. Nota: Comece este protocolo com vidro chalcogenide granel, que é preparado por bem conhecidas técnicas de fusão de têmpera 2. 1. Preparação de CHG Solutions Nota: Duas soluções são utilizados no presente estudo, Ge 23 Sb 7 S 70 e S 40 60, ambos dissolvidos em etanolamina numa concentração de 0,05 g / ml. A preparação das duas soluções são idênticos. Executar todas as etapas desta seção dentro de um exaustor. <ol><li> Esmagar o vidro a granel em um pó fino usando um almofariz e pilão. </li><li> Misturar 0,25 g de vidro com 5 ml de solvente de etanolamina. </li><li> Permitir 1-2 dias para a dissolução completa deo copo. Acelera a dissolução por aquecimento da solução numa placa de aquecimento com uma temperatura superficial de ~ 50-75 ° C. Aumentar a taxa de dissolução por agitação da mistura, tal como com uma barra de agitação magnética. </li><li> Filtrar a solução para um frasco com filtro de 0,45 um politetrafluoroetileno (PTFE) para remover quaisquer grandes precipita a partir da solução. </li></ol> 2. Configurando o processo de deposição Nota: O sistema de deposição de electropulverização está representado esquematicamente na Figura 1 Neste processo, uma seringa de vidro de 50 mL com êmbolo de ponta de PTFE é utilizada.. A seringa é um estilo agulha amovível com uma, agulha de calibre 22 de diâmetro exterior (diâmetro de 0,72 milímetros externa, 0,17 mm de diâmetro interno) com ponta de cone, e está ligado à bomba de seringa orientada verticalmente do sistema de electropulverização. O sistema de electropulverização está exposto à atmosfera do ambiente nestas experiências iniciais, embora o sistema é configurado no interior de uma caixa de luvas. O sistema deve ser SET-se em um local onde ele é isolado a partir do utilizador, tal como um extractor de fumo. <ol><li> Colocar a ponta da agulha para dentro da solução CHG. Desenhar a solução para a seringa, definindo a bomba de seringa no modo de extracto a uma velocidade lenta, tal como 150 ul / h, para prevenir a formação de bolhas. </li><li> Definir a distância de trabalho (10 mm neste caso) entre a extremidade do bocal e a parte superior do substrato de Si usando o CNC no modo de movimento manual. Colocar o substrato de Si, o que é não dopado e tem uma resistividade de 10,000 ohm-cm, sobre uma placa de alumínio ligada ao retorno de terra da fonte de alimentação. </li><li> Permitir que um pequeno volume de líquido para revestir a superfície exterior do bocal de distribuição de um líquido a partir da seringa, utilizando a bomba de seringa. Ligue placa de aquecimento a uma temperatura de superfície de cerca de 75-100 ° C. Espera durante ~ 2 h, para permitir uma película de vidro para secar sobre a superfície do bocal. Este revestimento ajuda a estabilidade do pulverizador. </li></ol> 3. Electrospray Depositionde CHG Films <ol><li> Ligue a corrente contínua (DC) fonte de alimentação direta com o bico da seringa com um clipe elétrica. </li><li> Ajustar a taxa de fluxo de 10 l / h, e ajustar a tensão DC para formar um cone de Taylor estável (~ 4 kV a 10 mm de distância de trabalho). Ver o spray com uma câmara de alta ampliação. </li><li> Iniciar CNC movimento da pulverização sobre o substrato para depositar filme, uma vez que a pulverização é estável. <ol><li> Usar um percurso em serpentina de espessura uniforme, ou unidimensional (1-D) passa para um perfil de espessura linear. </li><li> Uso passa com uma distância maior do que a largura do substrato, de tal modo que os movimentos de pulverização completamente fora do substrato antes de fazer a passagem seguinte. Isto é feito de modo a que o caudal de líquido é a mesma em cada ponto sobre o substrato. </li><li> Controlar o CNC utilizando software LinuxCNC. Por exemplo, usar o código G complementar para um percurso em serpentina com 0,5 mm de deslocamento entre as passagens, velocidade de 20 mm / min, e 30 mm de comprimento das passagens. A Figura 1 </forte&gt; mostra um diagrama esquemático de uma película feita com o percurso em serpentina e também define o sistema de coordenadas. </li></ol></li><li> Submeter o filme depositado a uma série de tratamentos térmicos sob vácuo durante 1 hora cada a 100, 125, 150 e 175 ° C, e 16 h a 200 ° C. Uma otimização dos parâmetros de tratamento térmico é apresentado na seção Resultados representativos deste artigo. </li></ol> 4. Caracterização dos Films CHG <ol><li> Caracterização de solvente residual Remoção <ol><li> Tomar um espectro de FTIR transmissão periodicamente durante as condições de recozimento, a medição no mesmo local sobre a amostra de cada vez. Desenhar um esboço do substrato na fase de amostra, e colocá-lo dentro desta esboço de cada vez uma medição é feita. <ol><li> No software FTIR, clique em &quot;Setup Experiment&quot;, e digite o número de exames como 64. Clique para a guia &quot;Banco&quot; e digite a faixa de digitalização como 7.000 cm -1 a 500 cm -1. Faça uma verificação em segundo plano com apenas o estágio da amostra no instrumento, clicando em &quot;Recolha de fundo.&quot; Em seguida, coloque a amostra no palco, e clique em &quot;Amostra Recolha&quot; para tirar o espectro da amostra. </li></ol></li><li> Para controlar a remoção de solvente, estimar o tamanho das absorções orgânicas na matriz do filme. No software FTIR, desenhar uma linha de base na faixa espectral de interesse, cerca de 2,300-3,600 cm -1. O software calcula a área por baixo do espectro de transmissão da amostra, em relação à linha de base designada pelo utilizador. </li></ol></li><li> A medição da espessura de filme <ol><li> Arranhar o filme com uma pinça de ponta fina, até que o substrato escuro torna-se visível entre o filme de cor mais clara, que normalmente ocorre em um movimento riscar com uma leve pressão. Remover detritos causada pelo coçar com nitrogênio comprimido. <ol><li> Medir a espessura de filmes cobertor usando um profilometer contatopara determinar a altura do degrau a partir de película para o substrato. Open &quot;Setup de Medição&quot;, e digite taxa de varrimento de 0,1 mm / seg, eo comprimento de digitalização de 500 mm. </li><li> Colocar a amostra no palco, localizando a zero e rodando a amostra de tal modo que o zero é orientada no sentido esquerda-direita. Mova o estágio de tal forma que a cruz é apenas abaixo do zero, e iniciar o exame de superfície, clicando em &quot;Medição&quot;. </li><li> Uma vez que a verificação for concluída, arraste o R e cursores M de modo que ambos estão na superfície do filme, e clique em &quot;Nível Dois Ponto Linear&quot; para nivelar o perfil de superfície. Mover um cursor para a parte inferior do zero, e anote a distância entre cada posição do cursor no y-dimensão. espessura medida em vários locais para obter uma espessura média e variância dos dados. </li></ol></li><li> Determinar os perfis de espessura das películas de espessura não uniforme, digitalizando o perfilómetro através de toda a película (perpendicular ao 1-D movimento utilizado para depositar o filme), e utilizar este perfil de superfície para criar um gráfico da espessura da película versus posição. <ol><li> Digitalizar em todo o filme, inserindo um comprimento de verificação adequado maior do que a largura do filme, geralmente 10-20 mm, em &quot;Configuração de Medição&quot;. Coloque a cruz sobre substrato não revestido de um lado do filme e clique &quot;Medição&quot;, permitindo que o perfilómetro para completar a verificação do substrato não revestido sobre o outro lado da película. Botão direito do mouse sobre o perfil de superfície e de exportação como um arquivo .csv. </li><li> Em alternativa, se o substrato não é suficientemente plana para se obter dados fiáveis ​​espessura, riscar o filme para baixo para o substrato com cerca de 1 mm entre a arranhões, e perfilómetro de verificação ao longo de toda filme. Anote a espessura ea posição horizontal em cada zero, e criar um gráfico da espessura do filme vs. posição a partir desses pontos de dados. </li></ol></li></ol></li><li> Medir a rugosidade da superfície com um interferômetro de luz branca13. Ajustar o foco e estágio de inclinação para gerar franjas de interferência em toda a área de medição, que neste caso era 414 um x 414 mm usando o objetivo de 5x. Aqui cinco medidas ao longo da película de espessura uniforme para determinar a rugosidade média e variância dos dados. </li><li> Medir o índice de refracção por elipsometria 14 na gama de comprimento de onda 600-1,700 nm. Neste caso, usar um ângulo de incidência de 60 °, e focar o feixe para um tamanho de mancha de 35 um. <ol><li> Aqui uma medição sobre o substrato não revestido, ajustando os dados para determinar a espessura da camada de óxido nativo. Use essas informações para modelar a amostra como um sistema de três camadas: Si wafer + óxido nativo + filme depositado. Tome oito medições em diferentes locais da amostra para determinar o índice de refração média e variância, utilizando o modelo de Cauchy para ajustar os dados. </li></ol></li></ol>

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<li>Song, S., Dua, J., Arnold, C. B. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Influence+of+annealing+conditions+on+the+optical+and+structural+properties+of+spin-coated+As2S3+chalcogenide+glass+thin+films%5BTitle%5D)+AND+%22Opt.+Exp%22%5BJournal%5D)">Influence of annealing conditions on the optical and structural properties of spin-coated As2S3 chalcogenide glass thin films.</a> Opt. Exp. 18 (6), 5472-5480 (2010).</li>
<li>Deng, W., Klemic, J. F., Li, X., Reed, M. A., Gomez, A. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Increase+of+electrospray+throughput+using+multiplexed+microfabricated+sources+for+the+scalable+generation+of+monodisperse+droplets%5BTitle%5D)+AND+%22J.+Aerosol.+Sci%22%5BJournal%5D)">Increase of electrospray throughput using multiplexed microfabricated sources for the scalable generation of monodisperse droplets.</a> J. Aerosol. Sci. 37 (6), 696-714 (2006).</li>
</ol>

Os autores não têm nada a divulgar.

No início de uma película de espessura uniforme depositado com movimento em serpentina do pulverizador em relação ao substrato, o perfil de espessura da película está a aumentar. Uma vez que a distância percorrida na direcção y excede o diâmetro do pulverizador (aquando da chegada ao substrato), a taxa de fluxo torna-se aproximadamente equivalente para todos os pontos sobre o substrato, e a uniformidade de espessura é alcançado. Para determinar os parâmetros de deposição adequadas de uma película de espessura uniforme e...

Vidros chalcogenide (ChGs) são bem conhecidos por sua ampla transmissão infravermelha e receptividade ao espessura uniforme, deposição de filmes cobertor 1-3. Guias de onda on-chip, ressonadores, e outros componentes ópticos podem, então, ser formada a partir desta película por técnicas de litografia, e depois subsequente revestimento de polímero para fabricar dispositivos microphotonic 4-5. Uma aplicação chave que procuramos desenvolver é dispositivos pequenos e de baixo custo, altamente sensíveis sensores químicos que operam no mid-IR, onde muitas espécies orgânicas têm assinaturas ópticas 6. sensores químicos Microphotonic pode ser implantado em ambientes agressivos, como perto de reatores nucleares, onde a exposição à radiação (gama e alfa) é provável. Assim, um extenso estudo sobre a modificação das propriedades ópticas dos materiais electrospray CHG é crítica e será relatado em outro papel. Neste artigo, deposição de filmes de electrospray de ChGs é exibido, uma vez que é um método só recentementeaplicada a ChGs 7. Os métodos de deposição de filmes existentes podem ser classificadas em duas classes: as técnicas de deposição de vapor, tais como evaporação térmica de alvos CHG grandes quantidades, e técnicas derivadas de solução, tais como por spin-coating uma solução de CHG dissolvido num solvente de amina. Geralmente, os filmes derivados de soluções tendem a resultar em maior perda do sinal de luz, devido à presença de solvente residual na matriz do filme 3, mas uma vantagem única de técnicas derivadas da solução durante a deposição de vapor é a simples incorporação de nanopartículas (por exemplo, pontos ou QDs quântica) antes spin-coating 8-10. No entanto, a agregação das nanopartículas tem sido observado em filmes revestidos por rotação 10. Além disso, enquanto que as abordagens de deposição e spin-coating vapor são bem adequadas para a formação de espessura uniforme, filmes de cobertura, que não se prestam bem a deposições localizadas, ou por engenharia películas de espessura não uniforme. Furthermore, scale-up de spin-coating é difícil por causa de resíduos material de alta devido ao run-off a partir do substrato, e porque não é um processo contínuo 11. A fim de ultrapassar algumas das limitações das técnicas de deposição de filmes actuais CHG, nós investigamos a aplicação de electrospray para o sistema de materiais de CHG. Neste processo, um pulverizador de aerossol pode ser formada a solução de CHG por aplicação de uma alta tensão de campo eléctrico 7. Uma vez que é um processo contínuo, que é compatível com o processamento de rolo-a-rolo, perto de 100% de utilização de material é possível, o que é uma vantagem sobre spin-coating. Além disso, propuseram que o isolamento de QDs individuais nas gotículas CHG aerossol individuais poderia conduzir a uma melhor dispersão QD, devido às gotículas carregadas estar espacialmente auto-dispersante por repulsão de Coulomb, combinada com a cinética de secagem mais rápida das gotículas de área superficial elevada que minimizar o movimento de QDs devido àaumentando a viscosidade das gotículas durante o vôo 7, 12. Finalmente, a deposição localizada é uma vantagem que pode ser utilizado para fabricar revestimentos GRIN. Explorações de ambos incorporação QD e GRIN fabricação de CHG com electrospray estão em andamento para ser apresentado como um artigo futuro. Nesta publicação, a flexibilidade da electropulverização é demonstrada por ambas as deposições de filmes e localizadas espessura uniforme. Para investigar a adequação dos filmes para aplicações em fotônica planares, a transmissão transformada de Fourier espectroscopia no infravermelho (FTIR), qualidade da superfície, espessura e medições de índice de refração são utilizados.

<table><tbody><tr><td>Etanolamina</td><td>Sigma-Aldrich</td><td>411000-100ML</td><td>99,5% de pureza</td></tr><tr><td>Si wafer</td><td>University Wafer</td><td>1708</td><td></td></tr><tr><td>Seringa</td><td>Sigma-Aldrich</td><td>20788</td><td>Hamilton 700 series, volume de 50 microlitros</td></tr><tr><td>Bomba de seringa</td><td>Chemyx</td><td>Nanojet</td><td></td></tr><tr><td>Fresadora CNC</td><td>MIB instrumentos</td><td>CNC 3020</td><td></td></tr><tr><td>Fonte de alimentação</td><td>Acopian</td><td>P015HP4</td><td>AC-DC, 15 kV, 4 mA</td></tr></tbody></table>

electrospray deposição de espessura uniforme, ge<sub&gt; 23</sub&gt; sb<sub&gt; 7</sub&gt; s<sub&gt; 70</sub&gt; e como<sub&gt; 40</sub&gt; s<sub&gt; 60</sub&gt; films vidro chalcogenide

Electrospray Deposition of Uniform Thickness Ge23Sb7S70 and As40S60 Chalcogenide Glass Films

-Solução baseada deposição de filmes por electropulverização, que é compatível com o processamento contínuo, rolo a rolo, é aplicado aos vidros calcogenetos. Duas composições calcogenetos são demonstradas: Ge 23 Sb 7 S 70 e 40 S 60, que ambos têm sido estudados extensivamente para infravermelho médio (mid-IR) dispositivos microphotonic planares. Nesta abordagem, os filmes espessura uniforme são fabricados através da utilização de movimento controlado computador numérico (CNC). vidro Chalcogenide (CHG) está escrito sobre o substrato por um único bocal ao longo de um caminho sinuoso. As películas foram submetidas a uma série de tratamentos térmicos entre 100 ° C e 200 ° C sob vácuo para eliminar solvente residual e densificar os filmes. Com base na transmissão de Fourier transformar espectroscopia de infravermelho (FTIR) e medições de aspereza de superfície, ambas as composições foram encontrados como sendo adequados para o fabrico de elementos planares operam na região do meio-IR. O solvente residualremoção verificou-se ser muito mais rápida do filme Como 40 s 60, em comparação com 23 Ge Sb 7 S 70. Com base nas vantagens de electropulverização, impressão directa de um revestimento transparente do índice de refracção (GRIN) mid-IV gradiente é visionado, dada a diferença de índice de refracção das duas composições neste estudo.

Uma representação esquemática do percurso em serpentina utilizadas para obter películas de espessura uniforme com um único electropulverização bocal é mostrado na Figura 2. A Figura 3 mostra um espectro de exemplo transmissão de FTIR de um parcialmente curada tal como 40 S 60 película feita com movimento em serpentina do pulverizador, tal como bem como do espectro de etanolamina solvente puro. A partir das informações que podem ser ...

Um método de deposição de filme de vidro calcogeneto derivado de solução de espessura uniforme é demonstrado usando movimento controlado numérico computadorizado de um eletrospray de bico único.

Electrospray Deposição de espessura uniforme, Ge<sub&gt; 23</sub&gt; Sb<sub&gt; 7</sub&gt; S<sub&gt; 70</sub&gt; E Como<sub&gt; 40</sub&gt; S<sub&gt; 60</sub&gt; Films vidro chalcogenide

Solution-based electrospray film deposition, which is compatible with continuous, roll-to-roll processing, is applied to chalcogenide glasses. Two ...

O objetivo geral desta investigação é desenvolver a deposição por pulverização eletrostática de vidros calcogenetos para aplicações fôtonicas no infravermelho médio e explorar a flexibilidade única deste método de deposição. As principais vantagens desta técnica são que ela permite a deposição localizada de material com a capacidade de fabricar um perfil projetado de espessura de filme. Isso torna possível criar um gradiente composicional espacialmente variável.Devido a essas vantagens, a eletrossprayagem pode impulsionar o campo dos dispositivos de detecção química no infravermelho médio baseados em chip, permitindo um design de dispositivo mais flexível. Para configurar o processo de deposição, coloque primeiro a extremidade da agulha no vidro calcogeneto. Aspire a solução para dentro da seringa ajustando a bomba de seringa para o Modo de Extração em uma velocidade lenta, como 150 microlitros por hora, para evitar a formação de bolhas.Defina a distância de trabalho entre a extremidade do bico e a parte superior do substrato de silício utilizando o controle numérico computadorizado no Modo de Movimento Manual. Coloque o substrato de silício sobre uma placa de alumínio conectada ao retorno do aterramento da fonte de alimentação. Em seguida, dispense um pouco de líquido da seringa, utilizando a bomba de seringa, para permitir que um pequeno volume de líquido recubra a superfície externa do bico.Coloque a placa aquecedora ligada a uma temperatura de superfície de cerca de 75 a 100 graus Celsius. Aguarde aproximadamente duas horas para permitir que um filme de vidro seque na superfície do bico. Conecte a fonte de alimentação de corrente contínua ou CC ao bico da seringa com um clipe elétrico.Defina a taxa de fluxo em 10 microlitros por hora e ajuste a tensão DC para formar um cone de Taylor estável. Observe o spray com uma câmera de alta ampliação. Uma vez que o spray esteja estável, inicie o movimento controlado numericamente por computador do spray sobre o substrato para depositar a película.Utilize um percurso serpenteado para obter espessura uniforme. Faça passadas com uma distância maior que a largura do substrato, de modo que o jato saia completamente do substrato antes de realizar a próxima passada. Isso garante que a vazão do líquido seja a mesma em todos os pontos do substrato.Alternativamente, utilize passagens unidimensionais para obter um perfil linear de espessura. Submeta o filme depositado a uma série de tratamentos térmicos sob vácuo conforme descrito no protocolo textual. Obtenha um espectro de Infravermelho por Transformada de Fourier na transmissão, ou FTIR, periodicamente durante as condições de recozimento.Para medir o mesmo local na amostra todas as vezes, desenhe um contorno do substrato na platina da amostra e posicione-o dentro da linha sul sempre que uma medição for realizada. No software de FTIR, clique em Configuração do Experimento e digite o número de varreduras como 64. Clique na aba Banco e digite a faixa de varredura como 7.000 a 500 centímetros inversos.Realize uma varredura de fundo com apenas o porta-amostras no instrumento, clicando em Coletar Fundo; em seguida, coloque a amostra sobre o porta-amostras e clique em Coletar Amostra para obter o espectro da amostra. Para acompanhar a remoção do solvente, estime o tamanho das absorções orgânicas na matriz do filme. No software de FTIR, trace uma linha de base na faixa espectral de interesse de aproximadamente 2 300 a 3 600 centímetros inversos.O software calcula a área sob o espectro de transmissão da amostra em relação à linha de base designada pelo usuário. Risque o filme com pinça de ponta fina até que o substrato escuro fique visível entre o filme de cor mais clara, o que geralmente ocorre com um único movimento de risco e pressão leve. Remova os detritos causados pelo risco com nitrogênio comprimido.Carregue a amostra em um perfilômetro de contato e meça a espessura dos filmes contínuos para determinar a altura do degrau do filme até o substrato. Abra a Configuração de Medição e digite uma taxa de varredura de 0,1 milímetro por segundo e um comprimento de varredura de 500 mícrons. Localize o risco e rotacione a amostra de modo que o risco esteja orientado da esquerda para a direita.Mova o estado de forma que a mira fique logo abaixo do risco e inicie a varredura da superfície clicando em Medição. Após a conclusão da varredura, arraste os cursores R e M para que ambos estejam sobre a superfície do filme e clique em Nivelar Linear de Dois Pontos para nivelar o perfil da superfície. Mova um cursor para a parte inferior do risco e anote a distância entre as posições dos cursores na dimensão Y.Meça a espessura em várias localizações para obter uma espessura média e a variância nos dados. Determine os perfis de espessura de filmes com espessura não uniforme ao escanear o perfilômetro por todo o filme. Utilize este perfil de superfície para criar um gráfico de espessura do filme versus posição.Varra todo o filme inserindo um comprimento de varredura apropriado maior que a largura do filme, geralmente de 10 a 20 milímetros, na Configuração de Medição. Posicione a mira no substrato não revestido em um dos lados do filme e clique em Medição, permitindo que o perfilômetro conclua a varredura no substrato não revestido do outro lado do filme. Clique com o botão direito no perfil da superfície e exporte como um arquivo csv.Em seguida, meça a rugosidade da superfície com um interferômetro de luz branca. Ajuste o foco e a inclinação da platina para gerar franjas de interferência em toda a área de medição utilizando a objetiva de 5X. Realize cinco medições ao longo do filme de espessura uniforme para determinar a rugosidade média e a variância dos dados.Carregue a amostra em um elipsômetro e meça o índice de refração na faixa de comprimento de onda de 600 a 1.700 nanômetros. Neste caso, utilize um ângulo de incidência de 60 graus e foque o feixe em um ponto com diâmetro de 35 mícrons. Os resultados representativos das propriedades de filmes eletrossprayados são mostrados aqui.Spectros de transmissão FTIR de solvente de etanolamina pura e de um filme parcialmente curado de trissulfeto de arsênio com etanolamina residual mostraram a transparência dos filmes na região do infravermelho médio e também o método pelo qual a área de absorção do pico do solvente é caracterizada. Ao caracterizar a área de absorção do pico do solvente e a espessura do filme durante os tratamentos térmicos, demonstra-se a evolução da remoção do solvente e da densificação do filme. O teor mínimo de solvente residual é alcançado por meio de recozimento a vácuo.Após a deposição e o tratamento térmico, os filmes eletrosspray têm uma aparência geralmente lisa. À esquerda, há um filme com uma região de espessura uniforme depositada com um percurso em forma de serpentina do jato. À direita, estão os filmes produzidos com movimento unidimensional para obter perfis controlados de espessura não uniforme.O movimento unidimensional permite perfis de espessura de filme com inclinação linear, nos quais a espessura do filme e a área de cobertura são controladas pela distância de trabalho da pulverização. Em conclusão, a eletropulverização é o método mais utilizado para a deposição de fumaça de vidro calcogeneto transparente à infravermelho, com a capacidade de realizar deposições localizadas com perfis de espessura não uniformes projetados. A eletropulverização de vidro calcogenetado é uma nova ferramenta para o campo da microfotônica no infravermelho médio, e prevê-se que a flexibilidade adicional proporcionada por este processo conduza a novos designs de dispositivos.

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