В данной работе представлены различные методы пробоподготовки поверхностного анализа наночастиц. Поскольку физико-химические свойства конкретного НП будут определять как оптимальный метод подготовки образцов (например, капельное литье против спинового покрытия), так и наилучшую процедуру для этого метода (например, требующую различных подложек или растворителей), пригодность используемого метода должна быть проверена с помощью альтернативных аналитических методов и оптимизирована при необходимости. Результаты, полученные в этой публикации, согласуются с ранее опубликованной литературой, показывая необходимость последовательных протоколов и процедур для подготовки образцов, а также необходимость проверки качества для обеспечения того, чтобы методы подготовки и очистки образцов были надлежащими, успешными и не повреждали наночастицы22,33,34,35,36.
Методы отбора проб и хранения НП здесь не рассматривались, поскольку они подробно описаны в различных других справочных материалах14,15,16,17,18,34,37,38,39. Естественно, следует проявлять большую осторожность, чтобы анализируемые образцы были репрезентативными для общего распределения наночастиц и соответствующих методов отбора проб, разработанных и проверенных. Было также показано, что условия хранения сильно влияют на свойства наночастиц в течение нескольких месяцев и поэтому должны быть тщательно рассмотрены. В качестве примера мы рекомендуем хранить наночастицы в небольших количествах в герметичных контейнерах вдали от света, в идеале ниже 4 °C. Также крайне важно, чтобы хранение, отбор проб и подготовка образцов последовательно выполнялись в соответствии с проверенными процедурами, а также подробно документировались. Эта документация должна включать метаданные из самих НП, такие как информация о происхождении и условиях хранения40. Такие инструменты, как электронные лабораторные записные книжки (ELN), могут быть полезны для согласованного документирования процедур и метаданных NP, а также для создания данных в соответствии с принципом FAIR (Findable, Accessible, Interoperabable и Reusable).
Точный и правильный анализ поверхности НП в первую очередь требует подходящего выбора подложки. Мы использовали очищенные Кремниевые пластины в качестве подложек, потому что они легко доступны, долговечны, легко очищаются, проводятся и достаточно плоские, однако в зависимости от целей анализа оксидный поверхностный слой может быть недостатком, так как случайные углеводороды на подложке не могут быть дифференцированы от углеводородов на наночастицах. При необходимости могут быть использованы другие материалы, такие как золото или полимерные покрытия на кремниевых пластинах, пластинах Si3N4 или HOPG (высокоориентированный пиролитический графит)19,20,21,22. Первым шагом в подготовке образца, описанным в этой статье, является очистка кремниевой пластины, показанной в виде схемы на рисунке 1. Эффективность процесса очистки может быть проверена различными методами, включая XPS, как показано на рисунке 2. Основное загрязняющее вещество (адвентивный углерод) характерно для образцов, хранящихся в воздухе, и значительно снижается после процесса очистки. Кроме того, гидроксилирование поверхности пластины с помощью УФ-обработки или обработки озоном позволяет избежать эффекта кофейного кольца от осаждения из водной суспензии, повышая смачиваемость и приводя, следовательно, к более однородному распределению наночастиц, как показано на фиг.3. По мере необходимости могут использоваться альтернативные методы влажной химической очистки кремниевых пластин; здесь требуется только воспроизводимо чистая поверхность, а не полное удаление всех органических загрязнений или оксидного слоя. Если протокол приостановлен между этапами очистки и осаждения суспензии, пластину следует снова обработать плазмой или УФ/озоном, а суспензию в идеале нанести в течение 15 мин после обработки.
Суспензия 60 нм наночастиц Au-Ag ядра-оболочки, показанная в разделе 2.2, содержала значительное количество цитрата натрия в качестве стабилизатора, что является обычным явлением в суспензиях наночастиц. Для точного анализа этих частиц и их поверхностных свойств, в частности с помощью XPS, следует удалить как можно больше стабилизатора, так как он ослабляет сигнал от наночастиц и вызывает эффекты зарядки. Чтобы установить оптимальный метод очистки для этих наночастиц, показанный в виде микроснимков SEM на рисунке 4, их либо диализовали в сверхчистой воде, либо очищали с использованием центрифугирования и повторной дисперсии в трех экземплярах. Хотя диализ кажется более мягким методом, а центрифугирование и редисперсия с большей вероятностью вызовут агломерацию и агрегацию частиц, изображения SEM показывают значительную деформацию и повреждение наночастиц Au-Ag после диализа (рисунок 4B), в то время как центрифугированные / повторно диспергированные частицы все еще неповреждены (рисунок 4C) ). Это особенно примечательно с металлическими наночастицами; Наша гипотеза заключается в том, что существует оптимальное количество цитрата натрия, которое позволяет некоторую стабилизацию раствора, не мешая сигналу для наночастиц, а удаление слишком большого количества стабилизатора вызывает повреждение наночастиц. В предыдущем докладе показано, что существует оптимальное число циклов центрифугирования для удаления большей части цитрата натрия; превышение этого числа вызывает некоторую агрегацию NP33. В этом исследовании для получения аналогичной концентрации цитрата требовалось девять циклов диализа (в общей сложности 36 ч); однако этот метод приводил к более высокому количеству агрегации, чем центрифугирование, а также вызывал снижение функционализации поверхности. Эти результаты демонстрируют важность проверки каждого этапа в процедуре подготовки для каждого отдельного типа наночастиц, особенно с неизвестными образцами.
Наночастицы ядра и оболочки Au-Ag 60 нм, используемые в этом примере, пригодны для капельного литья из-за их электропроводности, поскольку эффекты зарядки не являются проблемой, и толстое пятно может быть получено путем повторного осаждения с использованием относительно небольшого оборудования. Этот более толстый слой имеет то преимущество, что дает более воспроизводимые измерения, а литье из более концентрированной суспензии может сэкономить время за счет уменьшения количества этапов осаждения. На осаждение может влиять смачиваемость подложки; плохое смачивание может привести к образованию толстого пятна наночастиц, что выгодно для проводящих образцов, в то время как хорошее смачивание может привести к образованию более однородного слоя наночастиц, который может быть полезен как для проводящих, так и для изоляционных образцов. Как описано в протоколе, капельное литье суспензий наночастиц обычно требует повторных применений для получения толстого слоя с полным покрытием; это должно быть проверено с помощью XPS, но также может быть быстро и легко проверено с помощью оптической микроскопии. На рисунке 5 показана эволюция капельного покрытия при капельном литье наночастиц Au-Ag ядра-оболочки из водного раствора; в этом случае для достижения полного охвата требуется 13 этапов капельного литья. Капельное литье особенно подходит для проводящих частиц или тех, где зарядные эффекты могут быть адекватно компенсированы. Как и в случае с другими методами, описанными в этой публикации, капельное литье должно быть оптимизировано для каждого образца, поскольку различные материалы NP будут иметь различные свойства в отношении глубины и концентрации информации и пределов толщины пленки. Важно избегать слишком толстых пленок, которые могут вызвать укладку органики, в свою очередь, ингибируя сигнал NP.
Однородное и качественное покрытие помогает обеспечить стабильные и воспроизводимые результаты. В дополнение к концентрации суспензии, параметрам растворителя и спин-покрытия, на качество суспензий со спиновым покрытием также может отрицательно влиять присутствие пыли или других крупных макро- или микроскопических частиц. На фиг.6 показано улучшение качества спин-покрытия суспензии наночастиц после фильтрации шприцевым фильтром 0,45 мкм. Фильтр должен быть выбран таким образом, чтобы он не удалял наночастицы из суспензии. Три различные концентрации суспензии, описанные в протоколе (90, 9,0 и 0,9 мг/мл наночастиц ядра и оболочки PS-PTFE 135 нм), были отлиты спин-литом в тех же условиях и проанализированы с использованием SEM и XPS. Верхнее изображение и спектр на рисунке 7 показывают пленку, отлитую из суспензии 90 мг / мл, что показывает толстое и бесщелевое многослойное покрытие на изображении SEM, а также заметное отсутствие пиков Si в спектрах CPS, что указывает на отсутствие вклада подложки в спектр. Этот образец идеально подходит для анализа XPS или ToF-SIMS; кроме того, меньшие пики F1s из оболочки частиц могут быть четко видны при отсутствии большого сигнала от подложки. Второй образец, отлитый из суспензии 9,0 мг/мл, показывает частицы в небольших однослойных агломератах, которые не полностью покрывают поверхность. Этот образец слишком тонкий и неоднородный для анализа XPS или ToF-SIMS. Кроме того, количественный анализ может быть нарушен из-за вклада случайного углерода на субстрат даже после тщательной очистки; по крайней мере, такой эффект должен учитываться в бюджете неопределенности измерения. Однако этот образец идеально подходит для SEM или ТЕА анализа распределения частиц по размерам с использованием программного обеспечения для анализа изображений, поскольку частицы существуют в одном слое и в достаточном количестве (в пределах изображения) для обеспечения статистически значимой оценки. Образец, отлитый из самой низкой концентрации (0,9 мг/мл), не обеспечивает ни непрерывного покрытия, ни достаточной плотности частиц, чтобы сделать его пригодным для анализа либо поверхностного химического состава, либо распределения частиц по размерам. Достоверный количественный анализ вообще невозможен из-за доминирующего влияния субстрата.
Al2O3-TiO2 core-shell NPs с наружным слоем PDMS или глицерина получали путем капельного литья из суспензии, а также из порошка с использованием метода «stick-and-go» для сравнения эффектов различных методов получения на чувствительный внешний слой. Образцы были проанализированы с помощью ToF-SIMS, где спектры анализировались с использованием анализа главных компонентов (PCA). PCA - это статистический метод снижения размерности больших наборов данных путем создания новых некоррелированных переменных (основных компонентов), которые максимизируют дисперсию в данных41,42,43,44,45. Разделение различных наборов образцов на графе главных компонентов позволяет легче анализировать и группировать результаты. На графике оценок PCA на рисунке 8B, который показывает степень дискриминации каждого набора данных по сравнению со всеми другими наборами данных (т.е. между различными наборами образцов), два образца, приготовленные из порошка, показывают очень разные оценки, в то время как образцы, полученные из дисперсии, показывают очень похожие оценки. Графики нагрузки, показанные на рисунке 8C, указывают на взаимосвязь между переменными, т.е. какие пики вносят наибольший вклад в соответствующие основные компоненты. Все основные компоненты сортируются в соответствии с их вкладом в наблюдаемую разницу между наборами данных, т.е. PCA1 вносит наибольший вклад в наблюдаемое разделение различных наборов данных. В PC1 преобладает наличие (NP, покрытые PDMS, полученные из порошка) или отсутствие (все другие образцы) пиков PDMS, в то время как PC2, фактор, объясняющий вторую по величине вариацию в наборах данных, позволяет дифференцировать Al2O3 и органическое ограничение на NP. Это указывает на то, что измеренные спектры NP, полученных из суспензии, очень похожи, и предполагает, что слои PDMS и глицерина, возможно, были удалены или повреждены препаратом из суспензии, либо из самой суспензии, либо в процессе сушки, с доминирующими сигналами от Al2O3 или TiO2.
В то время как прессованные гранулы могут обеспечить преимущества для приготовления порошкообразных образцов, такие как простота обработки и стабильность в сверхвысоковакуумных инструментах (включая способность распыляться без смещения NP в высоковакуумной камере), высокие силы могут также повредить чувствительные наночастицы, как это уже было замечено с другими методами подготовки. Соответствующий протокол должен быть подготовлен и проверен.
В случае дисперсий NP криофиксация капельно-литых суспензий образцов позволяет избежать эффектов кофейного кольца (из-за мгновенного закрепления суспензии NP и, следовательно, устранения эффектов высыхания), а также сохранения более крупных структур, присутствующих в суспензии. Кроме того, следует избегать применения клейкой ленты. Это, в свою очередь, отражается в уменьшенных сигналах, которые могут быть отнесены к солям, загрязняющим веществам или другим артефактам процедуры подготовки образцов в соответствующих масс-спектрах, как показано на фиг.9. Основным преимуществом криофиксации является способность сохранять «как есть» химическое пространство вокруг наночастиц и/или химическое свойство агломератов частиц или гетероагломератов, а также их корреляцию с биологическими особенностями в тканях или отдельных клетках или даже колокализацию во внутриклеточные компартменты, без нарушения этапов обработки образцов, таких как сушка, дроп-кастинг и т.д.46'47. Мы продемонстрировали применимость метода криофиксации в текущей статье и подчеркнули преимущества криофиксации для наночастиц TiO2. Мы подчеркиваем, что криофиксация особенно подходит для анализа биологических образцов в их естественном состоянии без дислокации химических веществ из-за артефактов подготовки образцов. Для получения более подробной информации о методах фиксации биологических образцов читатель обращается к литературе19,25,27,48,49.
| XpS | ToF-SIMS |
| Зондовый пучок | Фотонов | Ионов |
| Аналитический пучок | Электронов | Ионов |
| Пространственное разрешение* | > 1 мкм | 0.1 мкм |
| Глубина отбора проб | 0.5 – 7.5 нм | <2 нм |
| Предел обнаружения | 0,01 -0,1 атома % | ппб |
| Квантификация | Отлично (полуколичественный) | Вызов (матричные эффекты) |
| Содержание информации | Стихийный Химическая связь | Стихийный Молекулярный |
| Органический анализ | Отлично | Отлично в статическом режиме |
| * указано производителем |
Таблица 1: Сравнение различных методов анализа поверхности.
| Метод | Подходит для | Дает | Преимущества | Недостатки | Осторожность | Рычаги управления | Проверка |
| Диализ | Очистка | Удаление стабилизаторов/примесей | Простое, с минимальными усилиями, без сложного оборудования | Отсутствие контроля над процессом | Может привести к повреждению наночастиц | Время | Повреждение наночастиц (SEM) |
| Центрифугирование/редисперсия | Очистка | Удаление стабилизаторов/примесей | Больший контроль над процессом, одновременная концентрация | Трудоемкий, требует центрифуги | Может вызвать агрегацию или агломерацию | Скорость вращения центрифуги, количество растворителя | Агломерация/агрегация/повреждение наночастиц (SEM) |
| Капельное литье (подвеска) | Проводящие НП без чувствительного внешнего слоя | Относительно толстое пятно с покрытием | Простое, не сложное оборудование | Может давать неоднородную толщину, трудоемкий | Приготовление суспензии может повредить чувствительные оболочки NP | Концентрация суспензии, растворитель (смачиваемость подложки) | Покрытие (световая микроскопия/XPS) |
| спиновое покрытие (суспензия) | Проводящие или непроводящие NP без чувствительного внешнего слоя | Тонкий однородный слой или одиночные частицы | Согласованные настройки | Требует экспериментального определения оптимальных параметров | Отфильтровывайте пыль / примеси, покрытие может быть непоследовательным | Концентрация, параметры спинового покрытия, растворитель | Предварительная фильтрация, покрытие, толщина слоя (SEM/XPS) |
| "прилипай и иди" (порошок) | Неорганические проводящие и непроводящие НПВ с чувствительным внешним слоем | Порошковое пятно на клее | Простое, с минимальными усилиями, без сложного оборудования | Непригоден для органических или С-содержащих NP, непостоянная толщина пленки | Опасность выброса NP в приборы | Фиксация НП на клее | Стабильность в условиях высокого вакуума |
| осаждение в отверстие заглушки (порошка) | XPS-анализ; проводящие/непроводящие органические или неорганические частицы | Образец наночастиц с легким прессованием | Отсутствие контакта с другими материалами | Отсутствие надежной фиксации НП; не подходит для ToF-SIMS | Дагер выпуска NP в инструменты | Никакой | Слегка наклонитесь в сторону, чтобы обеспечить уплотнение порошка |
| Прессованные гранулы (порошок) | Проводящие и непроводящие NPS, полимерные NPs | Твердые гранулы | Позволяет проводить анализ полимерных НП в виде порошка | Может повредить или загрязнить поверхность NP | Материалы должны быть тщательно очищены, чтобы избежать загрязнения поверхности; может повредить поверхность | Размер, давление, время | Стабильность в условиях высокого вакуума |
| Криофиксация (подвеска) | NP-суспензии с чувствительным лигандным слоем; биологические образцы | Твердый образец | Сохраняет морфологию, нативное биологическое состояние и корону, уменьшает эффект кофейного кольца | Сложная и дорогостоящая подготовка и обработка образцов, требующая квалифицированного пользователя | высокая степень квалификации, необходимая для обработки и хранения образцов | Концентрация, размер капель, температура | Сохранение витрификации |
Таблица 2: Сравнение различных методов пробоподготовки.

Рисунок 1: Процесс очистки кремниевых пластин. Пожалуйста, нажмите здесь, чтобы просмотреть увеличенную версию этого рисунка.

Рисунок 2: Спектры XP Кремниевой пластины до и после очистки. Обследование до (серой) и после (красной) очистки, показывающее снижение количества углерода с 13 на% до 2 на%. Спектры были получены с помощью Kratos Supra DLD (Манчестер, Великобритания) с монохроматическим излучением Al Kα. Образцы фиксировали двойной клейкой лентой на держателе образца, энергия прохода составляла 80 эВ, ширина шага 1 эВ, время выдержки 500 мс. Использовался «режим гибридного объектива». Размер рентгеновского пятна составлял 300 х 700 мкм². Для компенсации заряда использовалась паводковая пушка. Для количественного анализа был использован программный комплекс UNIFit 202050 , использующий пиковые участки соответствующих пиков фотоэлектрона, скорректированные фоном Тугаарда и нормализованные факторами Скофилда, неупругими средними свободными путями и функцией передачи. Пожалуйста, нажмите здесь, чтобы просмотреть увеличенную версию этого рисунка.

Рисунок 3: Влияние очистки УФ/озоном на однородность дисперсии частиц при капельном литье наночастиц ядра-оболочки PTFE-PMMA из водной суспензии. Пластины, очищенные УФ/озоном, показывают значительное уменьшение кофейных колец, а также лучшую адгезию частиц к поверхности. Пожалуйста, нажмите здесь, чтобы просмотреть увеличенную версию этого рисунка.

Рисунок 4: Варианты обработки для удаления примесей (например, стабилизаторов) из суспензий наночастиц Изображения SEM, показывающие эффект диализа (вверху справа) и центрифугирования и редисперсии в трех экземплярах (внизу справа) на наночастицах ядра и оболочки Au-Ag 60 нм. Наночастицы явно повреждаются диализом, в то время как центрифугирование не оказывает видимого влияния. Все весовые стержни имеют 100 нм. Пожалуйста, нажмите здесь, чтобы просмотреть увеличенную версию этого рисунка.

Рисунок 5: Изображения оптического микроскопа из капельного литья наночастиц Au-Ag диаметром Au-Ag из водной суспензии на кремниевые пластины, показывающие достаточный охват после 13 капель. Пожалуйста, нажмите здесь, чтобы просмотреть увеличенную версию этого рисунка.

Рисунок 6: Суспензия наночастиц со спиновым покрытием, до (слева) и после (справа) фильтрации со шприцевым фильтром 0,45 мкм. Улучшение качества после фильтрации хорошо видно. Пожалуйста, нажмите здесь, чтобы просмотреть увеличенную версию этого рисунка.

Рисунок 7: SEM-изображения и XPS-спектры наночастиц ядра-оболочки ПММА-ПТФЭ, спин-литых при различных концентрациях, показывающие влияние пиков подложки (от недостаточного покрытия) на спектры XPS. Пожалуйста, нажмите здесь, чтобы просмотреть увеличенную версию этого рисунка.

Рисунок 8: График оценки анализа главных компонентов (PCA), полученный из спектров ToF-SIMS глицериновых и PDMS-покрытых Al2O3-TiO2 NP с ядром оболочки. а) схема структуры НП; (B) Оценки и (C) Графики загрузки после анализа ToF-SIMS методов приготовления капельного литья (дисперсия) и "stick-and go" (порошка). PC1 представляет пики, коррелирующие с фрагментами PDMS; PC2 отделяет образцы с органическим покрытием (образцы, приготовленные из порошка) от пиков Al2O3, по-видимому, без поверхностного покрытия. Спектры измеряли в положительном режиме на приборе IONTOF ToF-SIMS IV (ION-TOF GmbH, Мюнстер, Германия) в режиме спектрометрии (HCBU) с пучком ионов Bi3+ 25 кВ с максимальной плотностью дозы 1012 ионов/см2. Поле зрения 150 x 150 мкм сканировалось в пилообразном режиме с разрешением 125 x 125 пикселей. Пожалуйста, нажмите здесь, чтобы просмотреть увеличенную версию этого рисунка.

Рисунок 9: Участок масс-спектров ToF-SIMS TiO2 NP. (А) получают из порошка методом "stick and go" и (B) после криофиксации дисперсии NP. Прибор ToF-SIMS (ION-TOF V; Ion-TOF GmbH, Мюнстер, Германия) использовался для масс-спектрометрических анализов с помощью импульсного ионного пистолета 30 кэВ Bi3+ (LMIG, постоянный ток (dc), 16 нА). Каждый спектр был получен путем сканирования пучка ионов на площади образца 500 × 500 мкм. Положительные вторичные ионы были получены в диапазоне масс 0–1 200 Да с использованием 106 импульсов Bi3+ . Пожалуйста, нажмите здесь, чтобы просмотреть увеличенную версию этого рисунка.