Dielectric Metasturfaces tarafından eşit yoğunluklu ışın üretimi gösterimi

5.6K görüntüleme

12 kez atıf

09:33 dk

7 Haziran 2019

10.3791/59066-v

7 Haziran 2019

5.6K görüntüleme

Dielektrik metasürlerin imalat ve optik karakterizasyonu için bir protokol sunulmuştur. Bu yöntem sadece kiriş ayırıcılar değil, aynı zamanda lensler, hologramlar ve optik pelerinleri gibi genel dielektrik metasürfaces, imalat uygulanabilir.

Daha fazla video keşfet

Electron Beam Lithography

Chapters in this video

0:04

Title

0:52

Deposition of Hydrogenated Amorphous Silicon (a-Si:H) on a Fused Silica Substrate by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD)

1:35

Formation of the Chromium Etching Mask

6:53

Etching Process of Hydrogenated Amorphous Silicon

7:41

Results: The Fabricated Metasurface and its Polarization-independent

8:31

Conclusion

Related Videos