Die gestaltete Natur und kontrollierte Ein-Topf-Synthese von DNA-Origami bietet aufregende Möglichkeiten in vielen Bereichen, insbesondere in der Nanoelektronik. Viele dieser Anwendungen erfordern die Interaktion mit und die Adhäsion von DNA-Nanostrukturen an einem Substrat. Aufgrund seiner atomar flachen und leicht zu reinigenden Beschaffenheit war Glimmer das Substrat der Wahl für DNA-Origami-Experimente. Die praktischen Anwendungen von Glimmer sind jedoch im Vergleich zu denen von Halbleitersubstraten relativ begrenzt. Aus diesem Grund wird hier ein einfaches, stabiles und wiederholbares Verfahren für die DNA-Origami-Adhäsion auf derivatisiertem Siliziumoxid vorgestellt. Um die Adhäsion von DNA-Nanostrukturen an der Siliziumoxid-Oberfläche zu fördern, wird aus einer wässrigen Lösung, die mit vielen Photolacken kompatibel ist, eine selbstorganisierende Monoschicht aus 3-Aminopropyltriethoxysilan (APTES) abgeschieden. Das Substrat muss mit Hilfe von Reinigungsverfahren der Radio Corporation of America (RCA) von allen organischen und metallischen Verunreinigungen gereinigt werden, und die native Oxidschicht muss geätzt werden, um eine ebene, funktionalisierbare Oberfläche zu gewährleisten. Reinräume sind mit Einrichtungen zur Silikonreinigung ausgestattet, aber viele Bestandteile von DNA-Origami-Puffern und -Lösungen sind in ihnen aufgrund von Kontaminationsbedenken oft nicht erlaubt. Dieses Manuskript beschreibt den Aufbau und das Protokoll für die Reinigung von Silikon in kleinem Maßstab im Labor für Forscher, die keinen Zugang zu einem Reinraum haben oder Prozesse integrieren möchten, die eine Kontamination einer CMOS-Reinlabor-Reinbank im Reinraum verursachen könnten. Darüber hinaus werden Variablen zur Regulierung der Abdeckung diskutiert und beschrieben, wie häufige Probleme bei der Probenvorbereitung erkannt und vermieden werden können.