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Artículo de método

Fabricación de un molde maestro para microagujas con un orificio de ventilación de aire del tamaño de una micra

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DOI:

10.3791/69679

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5 de diciembre de 2025

 ,  ,  ,  , 
1Department of Digital Anti-Aging Health Care, Inje University, 2Department of Biomedical Engineering, Inje University

* These authors contributed equally

En este artículo

Resumen

Este artículo presenta un método único para fabricar moldes maestros con un orificio de ventilación de aire para evitar el atrapamiento de aire durante la colada de polímeros viscosos, permitiendo la fabricación de microagujas de gelatina con puntas afiladas. Reduciendo el volumen de fundición de gelatina de alta viscosidad, también se podían fabricar microagujas piramidales huecas de pared delgada.

Resumen

Las microagujas (MN) son un sistema novedoso de administración de fármacos que puede penetrar la barrera cutánea de forma mínimamente invasiva para administrar fármacos. Debido a que son menos dolorosos que las inyecciones y fáciles de usar, están viendo aplicaciones cada vez más amplias en los campos cosmético y farmacéutico. La fabricación convencional de MN consiste en crear un molde maestro y luego producir MN en ese molde. Los métodos principales para fabricar el molde maestro incluyen procesos de sistemas microelectromecánicos, mecanizado de metales e impresión 3D. Sin embargo, la principal debilidad de los moldes maestros producidos con estos métodos es que el aire puede quedar atrapado dentro del molde mientras se funden el polímero muy viscoso utilizado para fabricar los MNs. Como resultado, las puntas MN pueden no formarse completamente. En la fabricación de matrices MN, esto puede reducir la fiabilidad de las estructuras MN. Este estudio propone una solución para el atrapamiento de aire que consiste en formar un orificio de ventilación de aire a microescala (AVH) en la punta del molde maestro. El AVH permite que el aire escape, pero evita que el fluido viscoso se escape durante el proceso de curado. Debido a que los métodos convencionales de mecanizado de metales o impresión 3D tienen limitaciones de resolución, se utilizó micromecanizado de silicio para crear el molde maestro equipado con AVH. La longitud lateral del AVH fabricado oscilaba entre 1,4 y 7,0 μm. Utilizando este molde, fabricamos con éxito MNs de gelatina de 375 μm de altura con puntas afiladas. Además, controlando el volumen de gelatina aplicada, también se fabricaron MNs piramidales huecos de pared delgada con paredes de 23 μm de grosor y un volumen de cavidad interna de 0,027 μL. Dado que el molde maestro equipado con AVH permite la fabricación tanto de MNs solubles como insolubles en agua, podría servir como un sistema de administración de fármacos de alta eficiencia de próxima generación para aplicaciones en campos cosmecéuticos y biomédicos.

Introducción

Las microagujas (MN) son un nuevo sistema de administración de fármacos capaz de penetrar la barrera cutánea de forma no invasiva para administrar fármacos. Este método supera la baja biodisponibilidad de la administración oral y el riesgo de dolor e infección de la administración porinyección 1. Gracias a su uso sencillo y alto cumplimiento del paciente, los MN han visto aplicaciones cada vez mayores encosméticos 2,vacunas 3, monitorización debiomarcadores 4 y administración de fármacospoliméricos 5.

Los métodos de fabricación MN generalmente implican técnicas demoldeo 6. Los moldes usados para fundir MNs se fabrican mediante mecanizado demetales 7 e impresión3D 8. Sin embargo, un obstáculo para el uso de estos métodos es que requieren equipos e instalaciones costosos. Además, debido a sus límites de resolución, es difícil producir las estructuras que penetran la piel utilizadas como MNs. Además, se utilizan materiales muy viscosos para producir MNsbiodegradables 9,10. Cuando se aplica el material MN al molde, el aire atrapado en las microestructuras del molde puede impedir la formación adecuada de las puntas MN y reducir el rendimiento de los arreglosMN 11. Los estudios han informado métodos para abordar estos problemas, como la fundición centrífuga12, la desgasificación al vacío usando una cámara13 y el tratamiento hidrofílico superficial del molde14, que se ha reportado que mitigan este problema. No obstante, sigue siendo necesario un proceso de fabricación basado en moldes más sencillo y eficiente.

Normalmente, los MNs disolvibles se fabrican mezclando el compuesto objetivo con un polímero soluble en agua en forma líquida y fundiendo la mezcla en unmolde 15. Con sustancias solubles en agua, la fabricación es relativamente sencilla utilizando procedimientos sencillos como disolver el compuesto objetivo en agua destilada y mezclarlo con un polímerosoluble 16. Sin embargo, con sustancias insolubles en agua, debe desarrollarse un proceso separado para cargarlas en los MNs. Por ejemplo, un fármaco insoluble puede disolverse en un codisolvente agua/etanol y mezclarse, luego concentrarse al vacío, filtrarse y liofilizarse como pretratamiento, y posteriormente mezclarse en una solución polimérica soluble para fabricarMNs 17. Este proceso para cargar fármacos insolubles en las MNs es complejo y lleva mucho tiempo. Por ello, es necesario desarrollar un proceso de fabricación más eficiente y un método para predecir con precisión la cantidad de fármaco puro cargado. Más allá del tipo mezclado con fármacos, también es necesario desarrollar métodos para fabricar MNs que almacenen el fármaco en un espacio separado.

Para abordar los dos problemas mencionados anteriormente, este estudio fabricó un molde maestro de silicio para la producción en Minnesota que evita la trampa de aire durante la colada de polímeros viscosos y validó su utilidad. Durante la fundición de polímeros para la fabricación de MN, a medida que el polímero viscoso llena la cavidad del molde, el aire residual dentro de la cavidad se ventila de forma natural y la cavidad se llena completamente. Debido a la alta viscosidad, este proceso de relleno se detiene sin que el polímero fluya fuera del molde. Mediante este proceso, la geometría del molde puede replicarse fielmente y se pueden fabricar MN con puntas afiladas. Cuando el volumen del polímero viscoso es menor que el volumen de cavidad interna del molde, el polímero viscoso fluye a lo largo de las paredes inclinadas del molde hacia la salida de aire, de modo que el MN se forma con un interior vacío. La Figura 1 describe el método típico de fabricación de MN usando un molde convencional (1) y nuestro concepto clave de un molde maestro equipado con AVH (2).

Este protocolo utilizaba un proceso de grabado de doble cara en una oblea de silicio para producir un molde con un AVH a microescala en la parte trasera. Tras aplicar el polímero al vacío, el polímero viscoso rellena la cavidad del molde para producir un MN con una punta afilada. Controlando el volumen dispensado del material MN, podemos fabricar un MN sólido estándar (con un interior relleno) o, si se dispensa un volumen menor, un MN hueco donde el polímero viscoso recubre la superficie del molde hasta un cierto grosor, dejando un interior vacío. Esto proporciona un proceso versátil para fabricar varios tipos de MN.

La gelatina fue seleccionada como material matriz para la fabricación de MN porque proporciona alta biocompatibilidad y propiedades mecánicas favorables, además de ofrecer amplia disponibilidad, bajo coste, solubilidad en agua y biodegradabilidad como biomaterial basado en proteínas que se ha utilizado ampliamente en aplicaciones biomédicas y en sistemas MN disolvidos ohidrogelados 18,19. Estudios previos también han demostrado que los MN a base de gelatina o gelatina-metacriloilo-pueden penetrar la piel sin doblarse ni fracturarse, confirmando que las redes de gelatina proporcionan suficiente resistencia mecánica e integridad estructural para una inserción cutánea fiable20,21.

Para el material utilizado en la fabricación de MN, se preparó una solución de gelatina al 10,31% (p/v) mezclando 1 g de gelatina con 9 mL de agua destilada. Según la literatura, la viscosidad de una solución de gelatina al 10% (p/v) a 25 °C es de 39,43-46,63 mPa·s 22, y la diferencia de concentración entre la solución de gelatina del 10,31% (p/v) utilizada en este estudio y la solución de referencia del 10% (p/v) es del 0,31%, con ambos valores dentro del rango de viscosidad de 6,64-429 mPa·s en el que se han utilizado con éxito formulaciones de polímeros acuosos para la fabricación basada en moldes deMNs 23, lo que indica que el actual enfoque de relleno de molde asistido por AVH es, en principio, aplicable a soluciones poliméricas acuosas cuyas viscosidades se encuentran dentro de este rango.

Mediante la fundición controlada, este estudio fabricó y comparó dos tipos de MNs, seleccionando estos en lugar de los MNs porosos, que presentan un equilibrio entre porosidad y resistencia mecánica que compromete la robustezmecánica 24: un MN sólido que exhibe alta resistencia mecánica y fiabilidad de inserción con una eficiencia superior de penetraciónde piel 25, y un MN hueco capaz de almacenar fármacos insolubles en agua dentro de su cavidad interna, ofreciendo alta aplicabilidad para su posterior conversión en diseños de MN sólido cargadode fármacos 26. Cuando el fármaco puede mezclarse con el material de la aguja, los MNs sólidos son adecuados, mientras que los MN huecos son apropiados para sustancias poco solubles que son difíciles de mezclar.

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Protocolo

Trabajar en un entorno controlado y limpio y calibrar todo el equipo antes de empezar es esencial. Se recomienda utilizar herramientas dedicadas para cada paso para evitar contaminación cruzada y respetar los tiempos de horneado y enfriamiento especificados, además de seguir los pasos del protocolo en orden. Los reactivos y el equipo utilizado se enumeran en la Tabla de Materiales.

1. Fabricación de moldes maestros de silicio

  1. Realizar limpieza de Pirañas en una oblea de silicio pulido doble cara (DSP) tipo N de 4 pulgadas y 525 μm de grosor (H2SO 4 +H 2O2 = 4:1, 120 °C, 10 min).
    PRECAUCIÓN: La solución de pirañas reacciona violentamente con los orgánicos y supone un riesgo de fuerte liberación de calor y generación de gas. Mézclalo siempre lentamente añadiendo peróxido de hidrógeno al ácido de una campana extractora, y lleva una pantalla facial, delantal resistente al ácido y guantes resistentes al ácido. Después de su uso, recoge toda la solución y los enjuagues restantes como residuos oxidantes ácidos en un recipiente resistente a los ácidos y ventilado. No neutralizes en el laboratorio. Solicitar recogida a través del programa institucional de residuos peligrosos EHS conforme a la normativa nacionalde residuos de laboratorio 27.
  2. Realizar oxidación térmica seca-húmeda-seca a 1100 °C durante 90 minutos para hacer crecer una capa de óxido térmico de ~0,6 μm de grosor (Figura 2A).
  3. Fotolitografía frontal: Realiza los siguientes pasos en la parte frontal de la oblea.
    1. Fotorresist AZ GXR-601 (14 cP) a 3000 rpm durante 35 segundos. Luego, hornea suavemente a 90 °C durante 1 minuto.
    2. Usando un alineador de máscara, expone la oblea a UV (365 nm, 10 mW/cm 2) durante 5 segundos, y luego revela en un revelador TMAH al 2,38% (c/w) durante 1-2 minutos.
      PRECAUCIÓN: La TMAH es tóxica si se absorbe a través de la piel. Maneja la cámara con una campana extractora y lleva guantes dobles de nitrilo, gafas de seguridad y un delantal. En caso de contacto con la piel, lava inmediatamente con agua. Tras su uso, recoge las soluciones y enjuagues gastados como residuos cuaternario-amonio fuertemente alcalinos en un recipiente dedicado. No mezcles con ácidos ni oxidantes. Presentar la solicitud para la recogida por EHS siguiendo los procedimientos designados para la gestiónde residuos 27.
    3. Hornea la oblea a 100 °C durante 2 minutos.
  4. Grabado frontal:
    1. Coloca la oblea con patrón en una cámara de grabado ICP y realiza un grabado en seco durante 2-3 minutos para eliminar selectivamente la capa de óxido térmico expuesta.
      NOTA: Ajusta los gases (CHF3/CF4) a 10/30 sccm, potencia RF a 50 W (con potencia ICP 900 W) y presión a 3,8 mTorr. La tasa de grabado de óxidos en estas condiciones es de ~260 nm/min.
    2. Retirar la oblea de la cámara y eliminar el fotorresistente usando un removedor de PR (disolvente a base de amina, calentado a 60 °C durante 10 minutos en un baño estático sin agitación ultrasónica) (Figura 2B).
    3. Vierte una solución KOH al 30% (c/w) (o una solución TMAH al 20% (w/w)) en un baño de grabado y cúbrela.
    4. Coloca el baño de grabado en un baño a temperatura constante y ajusta la temperatura a 90 °C.
    5. Tras precalentar durante 1 hora, abre la tapa, sumerge la oblea de silicio en la solución y comienza el grabado. La velocidad de grabado es de ~0,85 μm/min.
    6. Después de grabar al menos 440 minutos, retira la oblea de silicio y enjuágala con agua.
    7. Inspecciona la superficie grabada bajo un microscopio para confirmar que se ha formado una ranura en V. (Figura 2C).
      PRECAUCIÓN: El KOH es un fuerte grabador alcalino que puede causar quemaduras graves en la piel y los ojos. Trabaja siempre con una campana extractora y lleva pantalla facial, gafas de protección química, guantes largos resistentes a productos químicos y un delantal químico. Si estás expuesto, enjuaga inmediatamente la zona con agua durante al menos 15 minutos y busca atención médica. Tras su uso, recoge la solución utilizada y los materiales contaminados como residuos inorgánicos alcalinos peligrosos en recipientes compatibles. Etiqueta claramente y solicita la eliminación a través del programa de residuospeligrosos EHS 27.
      NOTA: El tamaño de la abertura del grabado es de 530 μm × 530 μm, y la profundidad de autograbado es de 375 μm. Como el grabado es anisotrópico, el proceso se detendrá automáticamente a esa profundidad.
  5. Realiza limpieza de pirañas en la oblea de silicio.
  6. Realizar oxidación térmica húmeda a 1100 °C durante 90 minutos para formar una nueva capa de óxido térmico.
  7. Fotolitografía trasera: En la parte trasera de la oblea, realiza el recubrimiento fotorresistente, exposición, revelado y cocción con el mismo procedimiento y condiciones que en el paso 1.3.
  8. Patrón de óxido en la parte trasera: Realiza un grabado con óxido tamponado (BOE) (HF:NH 4F = 1:7) para formar el patrón del óxido trasero, y luego retira el fotorresistente con un decapante (Figura 2D).
    PRECAUCIÓN: La solución de EBO contiene IC, que puede penetrar en la piel y causar daño tisular retardado (necrosis) e hipocalcemia. Trabaja siempre en una campana extractora y usa guantes resistentes a la hipertensión (en vez de guantes de nitrilo). Tras su uso, recoge todos los líquidos y sólidos que contienen HF en recipientes de HDPE claramente etiquetados como residuos HF/BOE. Mantén el gel de gluconato de calcio disponible cerca y solicita recogida inmediata del EHS según los protocolos designados de residuos27,28.
  9. Durante el grabado BOE, realiza una comprobación de humectación con agua DI para monitorizar el extremo del grabado.
    1. Considerando la tasa de grabado BOE del óxido térmico (110-120 nm/min), a medida que se acerca el tiempo de finalización, sumerge brevemente la oblea de silicio en agua desionizada y sáctala para observar el comportamiento de humectación de las gotas de agua.
    2. Confirma que el óxido ha sido eliminado selectivamente (indicado por la ausencia de humectación del agua), marcando la finalización de la eliminación del óxido térmico.
  10. Realizar grabado anisotrópico de silicio en la parte trasera bajo las mismas condiciones que en el paso 1.4, a 90 °C durante ~180 minutos (Figura 2E).
    NOTA: Dado que la tolerancia al grosor de la oblea es de ±25 μm, comienza a comprobar la formación de agujeros atravesantes alrededor de los 150 minutos (por ejemplo, usando un microscopio) para determinar cuándo detener el grabado.
  11. Tras completar el grabado trasero, realiza un inmersión BOE para eliminar cualquier óxido restante en la oblea grabada (Figura 2F).
  12. Realiza una comprobación de humectación con agua DI y confirma que todo el óxido ha sido eliminado (efecto de "hoja de fuera").
  13. Realizar un tratamiento hidrofóbico en la oblea de silicio grabado usando deposición de plasma C4F8 sobre el grabador ICP (60 sccm, ICP 800 W, RF 10 W, 10 mTorr, 60 s, ángulo de contacto estático con agua ≥ 100°). Luego la oblea en cubos con una sierra de cubos equipada con una cuchilla de diamante con enlace de níquel (husillo 30.000 rpm, alimentación 50 mm/s, exposición = 4× grosor de la hoja y refrigerante DI de agua 0,5 L/min).
    NOTA: El tratamiento con plasma hidrofóbico hace que la superficie del molde de silicio no se humedece y facilita la separación del polímero MN curado de la estructura de silicio.

2. Preparación de solución polimérica

  1. Usando una jeringuilla desechable de 10 mL, añade 9 mL de agua destilada a un tubo cónico de centrífuga de 50 mL.
  2. Usando una cuchara de S/T y papel antigrasa, pesa 1 g de polvo de gelatina en una balanza de precisión y transfírelo al tubo cónico.
    NOTA: Al transferir el polvo de gelatina del papel resistente a grasa al tubo, la estática puede hacer que algo de polvo se adhiera al papel, lo que provoca que se añada menos de 1 g. Compara los grosores del papel antes y después de la transferencia, y añade cualquier cantidad faltante de polvo de gelatina.
  3. Usa la cuchara de S/T para deshacer cualquier grumo de gelatina en el tubo removiendo durante 5 minutos en sentido horario, asegurándote de que la rotación de la solución no provoque derrames.
  4. Llena un baño maria con 4 L de agua destilada.
  5. Ajusta la temperatura del baño maria a 60 °C y espera ~30 minutos a que alcance la temperatura objetivo.
  6. Coloca el tubo que contiene la solución de gelatina en un baño maria a 60 °C durante 30 minutos para disolver la gelatina.
  7. Quita el tubo y ponlo en vórtice a 3.300 rpm durante 1 minuto para dispersar completamente cualquier fragmento de gelatina restante.
  8. Para evitar cambios de viscosidad o gelificación antes de su uso, la solución de gelatina se mantiene en un baño maria a 60 °C, con un volumen final de 9,7 mL correspondiente a una solución de gelatina del 10,31% (p/v).
    NOTA: Mantenga la solución de gelatina en el baño maria a 60 °C durante al menos 5 horas antes de usarla para la fabricación de MN.

3. Fabricación de MNs sólidos y huecos

  1. Colocar dos portaobjetos de microscopio (76 mm × 26 mm × 1 mm) planos en una placa de Petri, separados por 7 mm, y fijarlos con cinta no tejida de doble cara.
  2. Coloca el molde maestro de silicio fabricado sobre las dos láminas del microscopio, con la parte trasera (la que contiene el AVH) orientada hacia abajo.
  3. Ajusta la posición del molde para que el AVH quede centrado sobre el espacio entre las dos correderas.
  4. Coloca la placa de Petri (con el molde maestro de silicio) en el centro de un desecador al vacío (aproximadamente 260 mm × 260 mm × 100 mm de tamaño).
  5. Usando una jeringuilla desechable de 1 mL, aplica 0,3 mL de metanol en el centro del molde maestro de silicio.
    PRECAUCIÓN: El metanol es un disolvente inflamable, volátil y tóxico; La inhalación de sus vapores o la absorción de la piel puede causar daño en el nervio óptico, ceguera o intoxicación sistémica. Siempre lleva gafas de seguridad, pantalla facial y guantes dobles de nitrilo, y maneja la zona en un lugar bien ventilado (preferiblemente en una campana extractora). Tras su uso, recoge el metanol residual y los enjuagues como residuos orgánicos inflamables en un recipiente cerrado y compatible con contención secundaria. Solicita recogida a través del programa institucional EHS de residuos peligrosos según las normas nacionales de residuos delaboratorio 27.
  6. Mueve suavemente la punta de la jeringuilla a lo largo de la superficie del molde para distribuir el metanol de forma uniforme en los bordes.
    NOTA: El metanol tiene una viscosidad muy baja (~0,594 mPa·s), por lo que incluso pequeñas molestias pueden hacer que se desprende del moho. Para una aplicación precisa y evitar desbordamientos, humedece la punta de la jeringuilla con metanol.
  7. Sella el desecador al vacío y utiliza una bomba de vacío para aplicar un vacío de -80 kPa durante 2 minutos, permitiendo que el metanol se infiltre completamente en el molde maestro de silicio.
  8. Libera el vacío para eliminar cualquier burbuja restante en el metanol.
  9. Retira la solución de gelatina preparada del baño maria y limpia cualquier agua del exterior del tubo con una toallita limpia.
  10. Para los MNs sólidos, utiliza una micropipeta de 20-200 μL para dispensar 100 μL de la solución de gelatina sobre el centro del molde maestro de silicio. Para los MNs huecos, dispensa 40 μL de la solución de gelatina.
  11. Sella el desecador al vacío y aplica -80 kPa durante 2 minutos.
  12. Libera el vacío para eliminar cualquier burbuja restante en la solución de gelatina.
  13. Manteniendo la placa de Petri nivelada, colócala en un baño de maria a 60 °C durante 2 minutos.
    NOTA: Asegúrate de que la placa de Petri no entre en contacto directamente con el agua del baño. El ambiente de 60 °C reduce la viscosidad de la solución, y la humedad relativa del 100% dentro del baño impide que la gelatina se seque.
  14. Retira la placa de Petri del baño marea manteniéndola nivelada.
  15. Toca la superficie de la solución de gelatina con unas pinzas y extiéndela uniformemente por los bordes del molde, asegurándote de que toda la superficie del molde quede cubierta con una capa fina de la solución.
    NOTA: Si la solución está demasiado fría, su alta viscosidad hará que se pegue a las pinzas y se estire. Por tanto, extienden la solución rápidamente, inmediatamente después de retirar el molde del baño de 60 °C, mientras la viscosidad de la gelatina sigue siendo baja.
  16. Mantén el moho nivelado, colócalo en un horno a 40 °C y sécalo al menos 4 horas.
  17. Una vez completamente seco, inserta unas pinzas entre el molde maestro de silicio y la base MN y gira cuidadosamente para levantar y desmoldear, obteniendo el polímero MN disolvible curado.

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Resultados

Este estudio introdujo un molde maestro con un AVH para permitir la fabricación de MN con puntas afiladas, lo que supone una desviación del uso de moldes maestros convencionales. Utilizando grabado de silicio de alta precisión, fabricamos con éxito el molde maestro equipado con AVH y producimos MNs a partir de él. El molde maestro de silicio fabricado fue fotografiado con microscopía electrónica de barrido por emisión de campo (SEM), y las MN fabricadas se observaron mediante microscopía digital y SEM por emisión de camp...

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Discusión

Este estudio fabricó un molde maestro de silicio con un AVH utilizando grabado de doble cara para evitar el atrapamiento de aire mientras se llenaba con un polímero viscoso, logrando así un relleno completo hasta la punta del MN y permitiendo la formación de MN nítidos y uniformes. Un factor clave para la correcta formación de las puntas es el tamaño del AVH creado por el grabado trasero. Teniendo en cuenta la variación en el grosor de la oblea de silicio (±25 μm), resulta difícil predec...

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Agradecimientos

Este trabajo fue apoyado por una subvención de la Fundación Coreana para la Innovación (INNOPOLIS) financiada por el Gobierno coreano (Ministerio de Ciencia y TIC) (subvención nº NTIS-2710084968), por la Agencia de Promoción de la Comercialización para Resultados de Investigación y Desarrollo (COMPA) financiada por el Ministerio de Ciencia y TIC (subvención nº RS-2024-00423871 para apoyar el avance de la propiedad intelectual y la comercialización/industrialización de tecnología de fabricación de microagujas de gran impacto), y por el programa Regional de Educación en el Sistema de Innovación (RISE) a través del Centro RISE de Gyeongsangnam-do, financiado por el Ministerio de Educación (MOE) y el Gobierno Provincial de Gyeongsangnam-do, República de Corea (2025-RISE-16-008-0008).

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Materiales

Lista de materiales utilizados en este artículo
NombreEmpresaNúmero de catálogoComentarios
Limpieza de sala limpiaAsahi KaseiBEMCOT M-325 mm y tiempos; 25 mm
Tubo centrífugo cónicoCorning35207050 mL
Sierra de picadoDISCODAD-3220eje 30.000 rpm, alimentación 50 mm/s, exposición = 4 veces; Grosor de la pala, refrigerante DI de agua 0,5 L/min
Microscopía digitalHiroxKH-7700Usado con un objetivo de cámara MXG-5040RZ
Jeringuilla desechableVacuna de CoreaKOVAX-JERINGA1 mL y 10 mL
agua destiladaSamchun Pure Chemical000W0054
cinta no tejida de doble cara3MID-8370SGrosor de 0,16 mm
SEM  de emisión de campo;Hitachi High-TechS-4300SE
Polvo de gelatinaSigma-AldrichG1890De piel de cerdo, tipo A, polvo, fuerza en gel ~300 g Bloom
Papel antigrasaPT. Parisindo Pratama100 mm y multiplicaciones; 100 mm
Grabadora ICPTecnología de Plasma de Oxford InstrumentsPlasmaPro 100 Cobra
Alineador de máscaraPRO WinM-150
MetanolSigma-Aldrich34860
MicropipetaPZ HTL S.A.4045-DV20– 200 y micro; L
Portaobjetos de microscopioPaul Marienfeld GmbH & Co. KGMarienfeld Superior76 mm y tiempos; 26 mm y tiempos; 1 mm
HornoJeio TechOF-02G
Placa de PetriSPL Ciencias de la Vida10150150 mm y tiempos; 20 mm
Equilibrio de precisiónRADWAG Wagi ElektroniczneWTC 200
Stripper de relaciones públicasMerckRemovedor AZ 100Producto nº 1000100
Cuchara de S/TCiencia de Materiales en Corea20 cm
PinzasIdeal-tek S.A.2AB.TA
Desecador de vacíoiNexusIN-VS260 mm y tiempos; 260 mm y tiempos; 100 mm, 6,7 L
Bomba de vacíoRocker ScientificRocker 300
Mezclador de vórticesDAIHAN ScientificVM-10
Baños de aguaHanbaek ScientificHS-205WS330 mm y horarios; 300 mm y multiplicaciones; 150mm, 15 L

Referencias

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