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Resumen
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एक micropunching लिथोग्राफी दृष्टिकोण सूक्ष्म और शीर्ष, sidewall और बहुलक substrates के नीचे सतहों पर submicron पैटर्न उत्पन्न करने के लिए विकसित की है. यह patterning के पॉलिमर का आयोजन और sidewall के पैटर्न पैदा करने की बाधाओं पर काबू. यह विधि कई सुविधाओं का तेजी से निर्माण की अनुमति देता है और आक्रामक रसायन शास्त्र से मुक्त है.
