Waiting
Procesando inicio de sesión ...

Trial ends in Request Full Access Tell Your Colleague About Jove
Journal / Engineering / Изготовление пространственно ограниченных сложных …
JoVE Journal
Engineering

Se requiere una suscripción a JoVE para ver este contenido. Inicie sesión o comience su prueba gratuita.

JoVE Journal Engineering
Изготовление пространственно ограниченных сложных оксидов
Epitaxial Nanostructured α-Quartz Films on Silicon: From the Material to New Devices
Journal (Engineering)
Epitaxial Nanostructured α-Quartz Films on Silicon: From the Material to New Devices
Polycrystalline Silicon Thin-film Solar cells with Plasmonic-enhanced Light-trapping
Journal (Engineering)
Polycrystalline Silicon Thin-film Solar cells with Plasmonic-enhanced Light-trapping
 
Click here for the English version

Изготовление пространственно ограниченных сложных оксидов

Article DOI: 10.3791/50573-v • 08:45 min • July 1st, 2013
July 1st, 2013 •
1,2, 1
1Materials Science and Technology Division, Oak Ridge National Laboratory, 2Department of Physics & Astronomy, University of Tennessee, Knoxville

Capítulos

Resumen
Automatic Translation

Please note that all translations are automatically generated.

Click here for the English version.

Опишем использованием импульсного лазерного осаждения (PLD), фотолитографии и провода связи методы, чтобы создать микрометров сложных устройств оксидов. PLD используется для эпитаксиального роста тонких пленок. Фотолитографии и провода связи методы вводятся для создания практических устройств для измерения целей.

Tags

Материаловедение выпуск 77 Физика Химия химическая технология машиностроение электротехника свойств переноса в твердых телах физика конденсированных сред тонкие пленки (теория осаждение и рост) проводимости (твердое состояние) импульсное лазерное напыление оксиды тонких пленок фотолитографии проводов связи
Read Article

Get cutting-edge science videos from JoVE sent straight to your inbox every month.

Waiting X
Simple Hit Counter