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Article de méthode

Fabrication d’un moule maître pour microaiguilles avec un trou d’évacuation d’air de la taille d’un micron

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DOI :

10.3791/69679

5 décembre 2025

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Dans cet article

Résumé

Cet article présente une méthode unique pour fabriquer des moules maîtres avec un trou d’évacuation afin d’éviter l’emprisonnement de l’air lors de la coulée en polymère visqueux, permettant la fabrication de microaiguilles à la gélatine à pointes acérées. En réduisant le volume de coulée de la gélatine à haute viscosité, des microaiguilles pyramidales creuses à paroi fine pouvaient également être fabriquées.

Résumé

Les microaiguilles (MN) sont un système novateur d’administration de médicaments capable de pénétrer la barrière cutanée de manière peu invasive pour délivrer des médicaments. Parce qu’elles sont moins douloureuses que les injections et faciles à utiliser, elles voient des applications en expansion dans les domaines cosmétique et pharmaceutique. La fabrication conventionnelle des MN consiste à créer un moule maître puis à produire des MN dans ce moule. Les principales méthodes de fabrication du moule maître incluent les procédés micro-électromécaniques des systèmes, l’usinage des métaux et l’impression 3D. Cependant, la principale faiblesse des moules maîtres produits par ces méthodes est que l’air peut se coincer à l’intérieur du moule lors de la fonte du polymère très visqueux utilisé pour fabriquer les MN. En conséquence, les pointes MN peuvent ne pas se former complètement. Dans la fabrication de tableaux MN, cela peut réduire la fiabilité des structures MN. Cette étude propose une solution à l’emprisonnement d’air qui consiste à former un trou d’évacuation d’air (AVH) à l’échelle microscopique à l’extrémité du moule maître. L’AVH permet à l’air de s’échapper, mais empêche le fluide visqueux de s’échapper pendant le processus de durcissement (curation). Parce que l’usinage métallique conventionnel ou l’impression 3D ont des limitations de résolution, le microusinage au silicium a été utilisé pour créer le moule maître équipé d’AVH. La longueur latérale de l’AVH fabriqué variait de 1,4 à 7,0 μm. Grâce à ce moule, nous avons réussi à fabriquer des MN gélatineux de 375 μm de haut avec des pointes acérées. De plus, en contrôlant le volume de gélatine appliquée, des MN pyramidaux creux à parois fines avec des parois épaisses de 23 μm et un volume de cavité interne de 0,027 μL ont également été fabriqués. Puisque le moule maître équipé d’AVH permet la fabrication de MN solubles et insolubles dans l’eau, il pourrait servir de système de délivrance de médicaments haute efficacité de nouvelle génération pour des applications dans les domaines cosméceutique et biomédical.

Introduction

Les microaiguilles (MN) sont un nouveau système d’administration de médicaments capable de pénétrer la barrière cutanée de manière non invasive pour délivrer des médicaments. Cette méthode permet de compenser la faible biodisponibilité de l’administration orale ainsi que le risque de douleur et d’infection lié à l’administration parinjection 1. Grâce à leur utilisation simple et à une forte compliance patiente, les MN ont vu des applications croissantes dans lescosmétiques 2,les vaccins 3, la surveillance des biomarqueurs4 et la délivrance de médicamentspolymères 5.

Les méthodes de fabrication MN impliquent généralement des techniquesde moulage 6. Les moules utilisés pour la fonte des MN sont fabriqués par usinagemétallique 7 et impression3D 8. Cependant, un obstacle à l’utilisation de ces méthodes est qu’elles nécessitent des équipements et des installations coûteux. De plus, en raison de leurs limites de résolution, il est difficile de produire les structures pénétrant la peau utilisées comme les MN. De plus, des matériaux très visqueux sont utilisés pour produire des MNsbiodégradables 9,10. Lorsque le matériau MN est appliqué au moule, l’air piégé dans les microstructures du moule peut empêcher la formation correcte des extrémités MN et réduire le rendement des réseauxMN 11. Des études ont rapporté des méthodes pour résoudre ces problèmes, telles que la fontecentrifuge 12, le dégazage sous vide à l’aide d’une chambre13, et le traitement hydrophile de surface du moule14, qui ont été rapportés comme atténuant ce problème. Néanmoins, un procédé de fabrication au moule plus simple et plus efficace reste nécessaire.

En général, les MN dissolvables sont fabriqués en mélangeant le composé cible avec un polymère soluble dans l’eau sous forme liquide et en coulant le mélange dans unmoule 15. Avec les substances solubles dans l’eau, la fabrication est relativement simple en utilisant des procédures simples telles que la dissolution du composé cible dans de l’eau distillée et le mélange avec un polymèresoluble 16. Cependant, avec les substances insolubles dans l’eau, un procédé distinct doit être développé pour les charger dans les MN. Par exemple, un médicament insoluble peut être dissous dans un cosolvant eau/éthanol et mélangé, puis concentré sous vide, filtré et lyophilisé en prétraitement, puis mélangé dans une solution polymère soluble pour fabriquer desMN17. Ce processus de chargement des médicaments insolubles dans les MN est complexe et chronophage. Il est donc nécessaire de développer un procédé de fabrication plus efficace et une méthode permettant de prédire avec précision la quantité de médicament pur chargée. Au-delà du type mélangé médicament, des méthodes doivent également être développées pour fabriquer des MN qui stockent le médicament dans un espace séparé.

Pour répondre aux deux problèmes mentionnés ci-dessus, cette étude a fabriqué un moule maître en silicium pour la production au MN qui empêche le piégeage de l’air lors de la coulée de polymères visqueux et en a validé l’utilité. Lors de la fonte du polymère pour la fabrication MN, à mesure que le polymère visqueux remplit la cavité du moule, l’air résiduel à l’intérieur de la cavité est naturellement évacué, et la cavité devient complètement remplie. En raison de la forte viscosité, ce processus de remplissage s’arrête sans que le polymère ne s’écoule hors du moule. Grâce à ce procédé, la géométrie du moule peut être fidèlement reproduite, et des MN à pointes tranchantes peuvent être fabriquées. Lorsque le volume du polymère visqueux est inférieur au volume de cavité interne du moule, le polymère visqueux s’écoule le long des parois inclinées du moule vers la sortie d’aération, de sorte que le MN se forme avec un intérieur vide. La figure 1 présente la méthode typique de fabrication MN utilisant un moule conventionnel (1) et notre concept clé d’un moule maître équipé d’AVH (2).

Ce protocole utilisait un procédé de gravure double face sur une plaquette en silicium pour produire un moule avec un AVH à l’échelle microscopique à l’arrière. Après application du polymère sous vide, le polymère visqueux remplit la cavité du moule pour produire un MN à pointe tranchante. En contrôlant le volume dispensé du matériau MN, nous pouvons fabriquer soit un MN solide standard (avec un intérieur rempli), soit, si un volume plus petit est distribué, un MN creux où le polymère visqueux recouvre la surface du moule à une certaine épaisseur, tout en laissant un intérieur vide. Cela offre un procédé polyvalent pour fabriquer différents types de MN.

La gélatine a été choisie comme matériau matriciel pour la fabrication du MN car elle offre une grande biocompatibilité et des propriétés mécaniques favorables, tout en offrant une large disponibilité, un faible coût, une solubilité dans l’eau et une biodégradabilité en tant que biomatériau protéique largement utilisé dans des applications biomédicales et dans les systèmes MN dissous ou formantde l’hydrogel 18,19. Des études antérieures ont également démontré que les MN à base de gélatine ou gélatine-méthacryloyle peuvent pénétrer la peau sans se plier ni se fracturer, confirmant que les réseaux de gélatine offrent une résistance mécanique et une intégrité structurelle suffisantes pour une insertion cutanéefiable 20,21.

Pour le matériau utilisé dans la fabrication du MN, une solution de gélatine à 10,31 % (p/v) a été préparée en mélangeant 1 g de gélatine avec 9 mL d’eau distillée. Selon la littérature, la viscosité d’une solution de gélatine à 10 % (p/v) à 25 °C est de 39,43 à 46,63 mPa·s 22, et la différence de concentration entre la solution de gélatine à 10,31 % (p/v) utilisée dans cette étude et la solution de référence à 10 % (p/v) est de 0,31 %, les deux valeurs se situant dans la plage de viscosité de 6,64 à 429 mPa·s sur laquelle les formulations de polymères aqueux ont été utilisées avec succès pour la fabrication à base de moule desMNs 23, indiquant que l’approche actuelle de remplissage par moule assisté par AVH est, en principe, applicable aux solutions polymères aqueuses dont la viscosité se situe dans cette plage.

Grâce à la coulée contrôlée, cette étude a fabriqué et comparé deux types de MN, en les sélectionnant plutôt que des MN poreux, qui présentent un compromis entre porosité et résistance mécanique compromettant la robustesse mécanique24 : un MN solide présentant une grande résistance mécanique et une fiabilité d’insertion élevées avec une efficacité de pénétration de peau supérieure25, et un MN creux capable de stocker des médicaments insolubles dans l’eau dans sa cavité interne, offrant une grande applicabilité pour une conversion ultérieure en modèles de MN solidechargé en médicaments 26. Lorsque le médicament peut être mélangé avec le matériau de l’aiguille, les MN solides sont adaptés, tandis que les MN creux sont adaptés aux substances peu solubles et difficiles à mélanger.

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Protocole

Travailler dans un environnement contrôlé et propre et calibrer tout le matériel avant de commencer est essentiel. Il est recommandé d’utiliser des outils dédiés à chaque étape pour éviter la contamination croisée et de respecter les temps de cuisson et de refroidissement spécifiés, ainsi que de suivre les étapes du protocole dans l’ordre. Les réactifs et l’équipement utilisés sont listés dans le tableau des matériaux.

1. Fabrication de moules maîtres en silicium

  1. Effectuer un nettoyage de piranhas sur une plaquette en silicium double face polie (DSP) de type N de 4 pouces et 525 μm d’épaisseur (H2SO 4 +H 2O2 = 4:1, 120 °C, 10 min).
    ATTENTION : La solution de piranha réagit violemment avec les organiques et présente un risque de forte libération de chaleur et de production de gaz. Mélangez toujours lentement en ajoutant du peroxyde d’hydrogène à l’acide dans une hotte à fumée, et portez une visière, un tablier résistant à l’acide et des gants résistants à l’acide. Après utilisation, collectez toutes les solutions et rinçages restants sous forme de déchets acides oxydants dans un contenant ventilé résistant à l’acide. Ne neutralisez pas en laboratoire. Demande de collecte via le programme institutionnel EHS sur les déchets dangereux conformément à la réglementation nationale sur les déchets de laboratoire27.
  2. Effectuer une oxydation thermique sec-humide-sèche à 1100 °C pendant 90 minutes pour développer une couche d’oxyde thermique de ~0,6 μm d’épaisseur (Figure 2A).
  3. Photolithographie face avant : Effectuez les étapes suivantes sur la face avant de la plaquette.
    1. Photorésine AZ GXR-601 (14 cP) à 3000 tr/min pendant 35 secondes. Ensuite, faites cuire doucement à 90 °C pendant 1 minute.
    2. À l’aide d’un aligneur de masque, exposez la plaquette aux UV (365 nm, 10 mW/cm 2) pendant 5 s, puis développez-la dans un révélateur TMAH à 2,38 % (v/w) pendant 1 à 2 minutes.
      ATTENTION : L’ATM est toxique s’il est absorbé par la peau. Manipulez-le dans une hotte à fumée et portez des gants doubles en nitrile, des lunettes de sécurité et un tablier. En cas de contact cutané, lavez-vous immédiatement à l’eau. Après utilisation, collectez les solutions et rinçages usés sous forme de déchets quaternaires-ammonium fortement alcalins dans un récipient dédié. Ne mélangez pas avec des acides ou des oxydants. Soumettre pour la collecte EHS selon les procédures de gestion desdéchets désignées 27.
    3. Faites cuire durement la plaquette à 100 °C pendant 2 minutes.
  4. Gravure face avant :
    1. Placez la plaquette à motif dans une chambre de gravure ICP et effectuez une gravure à sec pendant 2 à 3 minutes pour retirer sélectivement la couche d’oxyde thermique exposée.
      REMARQUE : Réglez les gaz (CHF3/CF4) à 10/30 sccm, la puissance RF à 50 W (avec la puissance ICP 900 W), et la pression à 3,8 mTorr. Le taux de gravure d’oxyde dans ces conditions est de ~260 nm/min.
    2. Retirez la plaquette de la chambre et retirez le photorésine à l’aide d’un décapant PR (solvant à base d’amine, chauffé à 60 °C pendant 10 minutes dans un bain statique sans agitation ultrasonique) (Figure 2B).
    3. Verser une solution KOH à 30 % (en poire/vers) (ou une solution TMAH à 20 % (en poids et en verse)) dans un bain de gravure et recouvrez-la.
    4. Placez le bain de gravure dans un bain à température constante et réglez la température à 90 °C.
    5. Après préchauffage pendant 1 heure, ouvrez le couvercle, immergez la plaquette de silicium dans la solution, puis commencez la gravure. Le débit de gravure est de ~0,85 μm/min.
    6. Après avoir gravé au moins 440 minutes, retirez la plaquette en silicone et rincez-la à l’eau.
    7. Inspectez la surface gravée au microscope pour confirmer qu’une rainure en V s’est formée. (Figure 2C).
      ATTENTION : Le KOH est un puissant graveur alcalin qui peut provoquer de graves brûlures à la peau et aux yeux. Toujours travailler avec une hotte à fumée et porter une visière, des lunettes de sécurité chimique, des gants longs résistants aux produits chimiques et un tablier chimique. Si vous êtes exposé, rincez immédiatement la zone à l’eau pendant au moins 15 minutes et consultez un médecin. Après utilisation, collectez la solution utilisée et les matériaux contaminés sous forme de déchets alcalins inorganiques dangereux dans des contenants compatibles. Étiquetez clairement et demandez leur élimination via le programmeEHS 27 sur les déchets dangereux.
      REMARQUE : La taille de l’ouverture de gravure est de 530 μm × 530 μm, et la profondeur d’arrêt d’auto-gravure est de 375 μm. Comme la gravure est anisotrope, le processus s’arrête automatiquement à cette profondeur.
  5. Effectuez un nettoyage de piranha sur la plaquette de silicium.
  6. Effectuez une oxydation thermique humide à 1100 °C pendant 90 minutes pour développer une nouvelle couche d’oxyde thermique.
  7. Photolithographie arrière : À l’arrière de la plaquette, effectuez un revêtement photoréceptif, une exposition, un développement et une cuisson avec la même procédure et conditions que dans l’étape 1.3.
  8. Motif d’oxyde à l’arrière : Effectuez une gravure à oxyde tamponné (BOE) (HF : NH4F = 1:7) pour tracer l’oxyde arrière, puis retirez le photorésine avec un décapant (Figure 2D).
    ATTENTION : La solution de BOE contient de la IC, qui peut pénétrer la peau et provoquer des lésions tissulaires retardées (nécrose) et une hypocalcémie. Travaille toujours dans une hotte et porte des gants résistants aux inhalateurs (plutôt que des gants en nitrile). Après utilisation, collectez tous les liquides et solides contenant du HF dans des contenants en HDPE clairement étiquetés comme déchets HF/BOE. Gardez le gel de gluconate de calcium à portée de main et demandez une collecte immédiate de l’EHS conformément aux protocoles de déchetdésignés 27,28.
  9. Lors de la gravure BOE, effectuez une vérification de mouillage de l’eau DI pour surveiller l’extrémité de la gravure.
    1. En tenant compte du taux de gravure BOE de l’oxyde thermique (110-120 nm/min), à l’approche du temps de complétude, trempez brièvement la plaquette de silicium dans de l’eau déionisée et retirez-la pour observer le comportement de mouillage des gouttelettes d’eau.
    2. Confirmez que l’oxyde a été retiré sélectivement (ce qui est indiqué par l’absence d’humidification de l’eau), marquant ainsi l’achèvement de l’élimination de l’oxyde thermique.
  10. Effectuez une gravure sur silicium anisotrope à l’arrière dans les mêmes conditions que à l’étape 1.4, à 90 °C pendant ~180 minutes (Figure 2E).
    REMARQUE : Étant donné la tolérance d’épaisseur de la plaquette de ±25 μm, commencez à vérifier la formation du trou traversant vers 150 minutes (par exemple, à l’aide d’un microscope) pour déterminer quand arrêter la gravure.
  11. Après avoir terminé la gravure arrière, effectuez un plongeon BOE pour éliminer tout oxyde restant sur la plaquette gravée (Figure 2F).
  12. Effectuez une vérification de mouillage de l’eau DI et confirmez que tout l’oxyde a été retiré (effet « feuille enlevée » observé).
  13. Effectuer un traitement de surface hydrophobe sur la plaquette de silicium gravée en utilisant un dépôt plasma C4F8 sur l’autograveur ICP (60 sccm, ICP 800 W, RF 10 W, 10 mTorr, 60 s, angle de contact statique avec l’eau ≥ 100°). Ensuite, découpez la plaquette à l’aide d’une scie à découper équipée d’une lame diamantée diamantée à liaison nickelée (broche 30 000 tr/min, alimentation 50 mm/s, exposition = 4× épaisseur de la lame, et refroidissement DI 0,5 L/min).
    REMARQUE : Le traitement au plasma hydrophobe rend la surface du moule en silicium non humidifiante et facilite la séparation du polymère MN durci de la structure en silicium.

2. Préparation à la solution polymère

  1. À l’aide d’une seringue jetable de 10 mL, ajoutez 9 mL d’eau distillée à un tube centrifuge conique de 50 mL.
  2. À l’aide d’une cuillère S/T et d’un papier anti-graisse, pèse 1 g de poudre de gélatine sur une balance de précision et transfère-la dans le tube conique.
    REMARQUE : Lors du transfert de la poudre de gélatine du papier anti-graisse dans le tube, l’électricité statique peut faire coller une partie de la poudre au papier, entraînant moins de 1 g d’ajoussement. Comparez les poids du papier avant et après le transfert, et ajoutez toute quantité manquante de poudre de gélatine.
  3. Utilisez la cuillère S/T pour défaire les grumeaux de gélatine dans le tube en remuant pendant 5 minutes dans le sens des aiguilles d’une montre, en veillant à ce que la rotation de la solution ne provoque pas de déversement.
  4. Remplissez un bain-marie avec 4 L d’eau distillée.
  5. Réglez la température du bain-marie à 60 °C et attendez ~30 minutes qu’elle atteigne la température cible.
  6. Placez le tube contenant la solution de gélatine dans un bain-marie à 60 °C pendant 30 minutes pour dissoudre la gélatine.
  7. Retirez le tube et faites-le passer en vortex à 3 300 tr/min pendant 1 minute pour disperser complètement les particules de gélatine restantes.
  8. Pour éviter les variations de viscosité ou la gélification avant utilisation, la solution de gélatine est maintenue dans un bain-marie à 60 °C, avec un volume final de 9,7 mL correspondant à une solution de gélatine à 10,31 % (p/v).
    REMARQUE : Maintenez la solution de gélatine dans le bain-marie à 60 °C pendant au moins 5 heures avant de l’utiliser pour la fabrication du MN.

3. Fabrication de MN solides et creux

  1. Posez deux lames de microscope (76 mm × 26 mm × 1 mm) à plat dans une boîte de Petri, espacées de 7 mm, et fixez-les avec du ruban non tissé double face.
  2. Placez le moule maître en silicium fabriqué au-dessus des deux lames de microscope, avec son dos (le côté contenant l’AVH) orienté vers le bas.
  3. Ajustez la position du moule pour que l’AVH soit centré sur l’espace entre les deux lames.
  4. Placez la boîte de Petri (avec le moule maître en silicium) au centre d’un dessicateur à vide (environ 260 mm × 260 mm × 100 mm de taille).
  5. À l’aide d’une seringue jetable de 1 mL, appliquez 0,3 mL de méthanol au centre du moule maître en silicium.
    ATTENTION : Le méthanol est un solvant inflammable, volatil et toxique ; L’inhalation de ses vapeurs ou l’absorption cutanée peut provoquer des lésions du nerf optique, la cécité ou un empoisonnement systémique. Portez toujours des lunettes de sécurité, une visière et des gants doubles en nitrile, et manipulez-la dans un endroit bien ventilé (de préférence dans une hotte à fumeurs). Après utilisation, collectez le méthanol résiduel et les rinçages sous forme de déchets de solvant organique inflammable dans un contenant fermé et compatible avec un confinement secondaire. Demander la collecte via le programme institutionnel EHS sur les déchets dangereux conformément aux règlesnationales 27 sur les déchets de laboratoire.
  6. Déplacez doucement la pointe de la seringue le long de la surface du moule pour répartir le méthanol uniformément sur les bords.
    REMARQUE : Le méthanol a une viscosité très faible (~0,594 mPa·s), donc même de légères perturbations peuvent provoquer un débordement de la moisissure. Pour une application précise afin d’éviter le débordement, humidifier la pointe de la seringue avec du méthanol.
  7. Scellez le dessicateur à vide et utilisez une pompe à vide pour appliquer un vide de -80 kPa pendant 2 minutes, permettant au méthanol d’infiltrer complètement le moule maître en silicium.
  8. Relâchez le vide pour éliminer les dernières bulles dans le méthanol.
  9. Retirez la solution de gélatine préparée du bain-marie et essuyez toute eau à l’extérieur du tube avec une lingette pour salle blanche.
  10. Pour les MN solides, utilisez une micropipette de 20 à 200 μL pour dispenser 100 μL de la solution de gélatine au centre du moule maître en silicium. Pour les MN creux, administrez 40 μL de solution de gélatine.
  11. Scellez le dessiccateur sous vide et appliquez à -80 kPa pendant 2 minutes.
  12. Relâchez le vide pour éliminer les bulles restantes dans la solution de gélatine.
  13. En gardant la boîte de Petri à niveau, placez-la dans un bain-marie à 60 °C pendant 2 minutes.
    REMARQUE : Assurez-vous que la boîte de Petri ne touche pas directement l’eau du bain. L’environnement de 60 °C réduit la viscosité de la solution, et l’humidité relative de 100 % à l’intérieur du bain empêche la gélatine de sécher.
  14. Retirez la boîte de Petri du bain-marie tout en la gardant à niveau.
  15. Touchez la surface de la solution de gélatine avec une pince à épiler et étalez-la uniformément sur les bords du moule, en veillant à ce que toute la surface du moule soit recouverte d’une fine couche de la solution.
    REMARQUE : Si la solution est trop froide, sa forte viscosité la fera coller à la pince et s’étirer. Ainsi, répartez rapidement la solution, immédiatement après avoir retiré le moule du bain à 60 °C, tant que la viscosité de la gélatine reste faible.
  16. En gardant la moisissure à niveau, mettez-la au four à 40 °C et laissez-la sécher pendant au moins 4 heures.
  17. Une fois complètement sec, insérez une pince à épiler entre le moule maître en silicium et la base MN et tournez soigneusement pour soulever et démouler, obtenant ainsi le polymère MN dissolvant et durci.

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Résultats

Cette étude a introduit un moule maître avec un AVH permettant la fabrication de MN à pointes tranchantes, ce qui marque une rupture avec l’utilisation des moules maîtres conventionnels. Grâce à la gravure sur silicium de haute précision, nous avons fabriqué avec succès le moule maître équipé d’AVH et produit des MN à partir de celui-ci. Le moule maître en silicium fabriqué a été imagé à l’aide de microscopie électronique à balayage par émission de champ (MEB), et les MN fabriqués ont été observés à la fois par microscop...

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Discussion

Cette étude a fabriqué un moule maître en silicium avec un AVH utilisant une gravure double face pour éviter l’enfermement de l’air tout en le remplissant d’un polymère visqueux, obtenant ainsi un remplissage complet jusqu’à la pointe du MN et permettant la formation de MN nets et uniformes. Un facteur clé pour une formation correcte des pointes est la taille de l’AVH créée par la gravure arrière. Compte tenu de la variation de l’épaisseur de la plaquette en silicium (±25 μm), il est dif...

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Remerciements

Ce travail a été soutenu par une subvention de la Korea Innovation Foundation (INNOPOLIS) financée par le gouvernement coréen (ministère des Sciences et des TIC) (subvention n° NTIS-2710084968), par l’Agence de promotion de la commercialisation pour les résultats de la R&D (COMPA) financée par le ministère des Sciences et des TIC (subvention n° RS-2024-00423871 pour soutenir l’avancement de la propriété intellectuelle et la commercialisation/industrialisation de la technologie de fabrication de micro-aiguilles de déclenchement), ainsi que par le programme Regional Innovation System Education (RISE) via le Centre RISE de Gyeongsangnam-do, financé par le Ministère de l’Éducation (MOE) et le gouvernement provincial de Gyeongsangnam-do, République de Corée (2025-RISE-16-008-0008).

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Matériaux

Liste des matériaux utilisés dans cet article
NomEntrepriseNuméro de catalogueCommentaires
Nettoyage de salle blancheAsahi KaseiBEMCOT M-325 mm et les multiplications ; 25 mm
Tube centrifugeuse coniqueCorning35207050 mL
Scie à découperDISCODAD-3220broche 30 000 tr/min, alimentation 50 mm/s, exposition = 4 fois ; Épaisseur de la pale, refroidisseur DI 0,5 L/min
Microscopie numériqueHiroxKH-7700Utilisé avec un objectif MXG-5040RZ
Seringue jetableVaccin coréenKOVAX-SERINGUE1 mL & 10 mL
Eau distilléeSamchun Pure Chemical000W0054
ruban non tissé double face3MID-8370S0,16 mm d’épaisseur
SEM  à émission de champ ;Hitachi High-TechS-4300SE
Poudre de gélatineSigma-AldrichG1890De la peau de porc, type A, poudre, concentration en gel ~300 g Bloom
papier anti-graissePT. Parisindo Pratama100 mm et fréquences ; 100 mm
Graveur ICPOxford Instruments Technologie du plasmaPlasmaPro 100 Cobra
Aligneur de masquePRO WinM-150
MéthanolSigma-Aldrich34860
MicropipettePZ HTL S.A.4045-DV20&ndash ; 200 & micro ; L
Lames de microscopePaul Marienfeld GmbH & ; Comté KGMarienfeld Supérieur76 mm et temps ; 26 mm et les temps ; 1 mm
FourJeio TechOF-02G
Boîte de PetriSPL Sciences de la vie10150150 mm et les temps ; 20 mm
Balance de précisionRADWAG Wagi ElektroniczneWTC 200
Press-stripteuseMerckExtracteur AZ 100Produit n° 1000100
Cuillère S/TScience des matériaux en Corée20 cm
Pince à épilerIdeal-tek S.A.2AB.TA
Dessicateur à videiNexusIN-VS260 mm et les temps ; 260 mm et les temps ; 100 mm, 6,7 L
Pompe à videRocker ScientificRocker 300
Mélangeur vortexDAIHAN ScientificVM-10
Bain d’eauHanbaek ScientificHS-205WS330 mm et les temps ; 300 mm et les temps ; 150mm, 15 L

Références

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