7.3K צפיות
•
צוטט 9 פעמים
•
09:45 דק׳
•
2 בדצמבר 2013
2 בדצמבר 2013
•מסופק נוהל מפורט לסימום פני השטח של ממשקי סיליקון. סימום פני השטח הרדוד במיוחד מודגם על ידי שימוש בזרחן המכיל חד-שכבות ותהליך חישול מהיר. השיטה יכולה לשמש לסמים של משטחי שטח מקרוסקופיים כמו גם ננו-מבנים.
Chapters in this video
0:05
Title
1:32
Surface Cleaning
2:50
Monolayer Formation
3:43
Nanowire Synthesis
5:02
Nanowire Drop-casting onto Substrate and Rapid Thermal Anneal
6:24
Sheet Resistance Measurements, Nanowire Device Fabrication and Characterization
8:03
Results: Sheet Resistance Measurements and Nanowire FET I-V Curves Using Monolayer Contact Doped Materials
9:08
Conclusion
Related Videos
זכויות יוצרים © 2026 MyJoVE Corporation. כל הזכויות שמורות.