W niniejszej pracy przedstawiono szereg metod przygotowania próbek do analizy powierzchni nanocząsteczek. Ponieważ właściwości fizykochemiczne konkretnej NP determinują zarówno optymalną metodę przygotowania próbki (np. odparowanie kropli w porównaniu z powlekaniem wirowym), jak i najlepszą procedurę dla danej metody (na przykład wymóg zastosowania różnych podłoży lub rozpuszczalników), przydatność zastosowanej metody powinna zostać zweryfikowana za pomocą alternatywnych metod analitycznych i w razie potrzeby zoptymalizowana. Wyniki przedstawione w niniejszej publikacji są zgodne z wcześniej opublikowaną literaturą, wskazując na konieczność stosowania spójnych protokołów i procedur przygotowania próbek, a także potrzebę przeprowadzania kontroli jakości w celu upewnienia się, że metody przygotowania i oczyszczania próbek są odpowiednie, skuteczne i nie uszkadzają nanocząsteczek22,33,34,35,36.
Metody pobierania próbek i przechowywania NP nie zostały tutaj omówione, ponieważ są one szczegółowo opisane w różnych innych źródłach14,15,16,17,18,34,37,38,39. Naturalnie należy zachować szczególną staranność, aby analizowane próbki były reprezentatywne dla ogólnego rozkładu nanocząsteczek, a stosowane metody pobierania próbek zostały opracowane i zwalidowane. Wykazano również, że warunki przechowywania silnie wpływają na właściwości nanocząsteczek w okresie wielu miesięcy, dlatego należy je starannie rozważyć. Przykładowo zalecamy przechowywanie nanocząsteczek w małych ilościach w szczelnych pojemnikach, z dala od światła, idealnie w temperaturze poniżej 4 °C. Kluczowe jest również, aby przechowywanie, pobieranie próbek i przygotowanie próbek było konsekwentnie wykonywane zgodnie ze zwalidowanymi procedurami oraz szczegółowo dokumentowane. Dokumentacja ta powinna zawierać metadane samych NP, takie jak informacje o pochodzeniu i warunkach przechowywania40. Narzędzia takie jak elektroniczne notatniki laboratoryjne (ELNs) mogą być użyteczne dla spójnej dokumentacji procedur i metadanych NP, a także umożliwiać generowanie danych zgodnie z zasadą FAIR (Findable, Accessible, Interoperable, and Reusable).
Dokładna i poprawna analiza powierzchni NP wymaga w pierwszej kolejności odpowiedniego doboru podłoża. Jako podłoża wykorzystano oczyszczone wafle krzemowe (Si), ponieważ są one łatwo dostępne, trwałe, łatwe do czyszczenia, przewodzące i wystarczająco płaskie; jednak w zależności od celów analizy warstwa tlenku na powierzchni może stanowić wadę, gdyż węglowodorów z zewnątrz na podłożu nie można odróżnić od tych znajdujących się na nanocząsteczkach. W razie potrzeby można zastosować inne materiały, takie jak złoto lub powłoki polimerowe na waflach Si, wafle Si3N4 lub HOPG (wysoce zorientowany grafit pirolityczny)19,20,21,22. Pierwszym krokiem przygotowania próbki opisanym w niniejszej pracy jest oczyszczanie wafla Si, przedstawione schematycznie na Rysunku 1. Skuteczność procesu czyszczenia można zweryfikować za pomocą różnych metod, w tym XPS, co pokazano na Rysunku 2. Główny zanieczyszczający składnik (węgiel z zewnątrz) jest typowy dla próbek przechowywanych w powietrzu i zostaje znacznie zredukowany po procesie czyszczenia. Ponadto hydroksylacja powierzchni wafla za pomocą promieniowania UV lub traktowania ozonem zapobiega efektowi „pierścienia kawy” przy osadzaniu z zawiesiny wodnej poprzez zwiększenie zwilżalności, co prowadzi do bardziej jednorodnego rozmieszczenia nanocząsteczek, jak pokazano na Rysunku 3. W razie potrzeby można zastosować alternatywne mokre metody chemicznego czyszczenia wafli Si; w tym przypadku wymagana jest jedynie powtarzalnie czysta powierzchnia, a nie całkowite usunięcie wszystkich zanieczyszczeń organicznych lub warstwy tlenkowej. Jeśli protokół zostanie przerwany między etapem czyszczenia a osadzaniem zawiesiny, wafla należy ponownie poddać działaniu plazmy lub UV/ozonu, a zawiesinę osadzić najlepiej w ciągu 15 min od zakończenia zabiegu.
zawiesina nanocząstek Au-Ag typu rdzeń-powłoka o rozmiarze 60 nm, przedstawiona w sekcji 2.2, zawierała znaczną ilość cytrynianu sodu jako stabilizatora, co jest powszechnym zjawiskiem w zawiesinach nanocząstek. Dla dokładnej analizy tych cząstek i ich właściwości powierzchniowych, szczególnie za pomocą XPS, należy usunąć jak największą ilość stabilizatora, ponieważ tłumi on sygnał z nanocząstek i powoduje efekty ładowania. Aby ustalić optymalną metodę oczyszczania tych nanocząstek, przedstawionych na mikrografiach SEM na Rysunku 4, poddano je albo dializie w wodzie ultrapure, albo oczyszczaniu poprzez wirowanie i ponowne dyspergowanie w trzech powtórzeniach. Choć dializa wydawałaby się metodą łagodniejszą, a wirowanie i ponowne dyspergowanie bardziej skłonnymi do powodowania aglomeracji i agregacji cząstek, obrazy SEM wykazują znaczną deformację i uszkodzenie nanocząstek Au-Ag po dializie (Rysunek 4B), podczas gdy cząstki wirowane/ponownie zdyspergowane pozostały nienaruszone (Rysunek 4C). Jest to szczególnie uderzające w przypadku nanocząstek metalicznych; nasza hipoteza zakłada, że istnieje optymalna ilość cytrynianu sodu, która umożliwia pewną stabilizację roztworu, nie zakłócając jednocześnie sygnału z nanocząstek, a usunięcie zbyt dużej ilości stabilizatora prowadzi do ich uszkodzenia. Wcześniejszy raport wskazuje, że istnieje optymalna liczba cykli wirowania w celu usunięcia większości cytrynianu sodu; przekroczenie tej liczby powoduje pewną agregację NP33. W niniejszym badaniu do uzyskania podobnego stężenia cytrynianu wymagane było dziewięć cykli dializy (łącznie 36 h); jednak metoda ta doprowadziła do większej agregacji niż wirowanie, a także spowodowała spadek funkcjonalizacji powierzchni. Wyniki te demonstrują znaczenie weryfikacji każdego etapu procedury przygotowawczej dla każdego rodzaju nanocząstek, szczególnie w przypadku próbek nieznanych.
Nanocząsteczki Au-Ag typu rdzeń-powłoka o średnicy 60 nm zastosowane w tym przykładzie nadają się do metody drop-castingu ze względu na ich przewodnictwo elektryczne, dzięki czemu efekty ładowania nie stanowią problemu, a gruby punkt próbki można wytworzyć poprzez wielokrotne nanoszenie przy użyciu niewielkiej ilości sprzętu. Grubsza warstwa ma tę zaletę, że zapewnia bardziej powtarzalne pomiary, a nanoszenie z bardziej skoncentrowanej zawiesiny może oszczędzić czas poprzez zmniejszenie liczby etapów depozycji. Na proces nanoszenia może wpływać zwilżalność podłoża; słabe zwilżanie może prowadzić do powstania grubej plamki nanocząsteczek, co jest korzystne dla próbek przewodzących, natomiast dobre zwilżanie może przynieść bardziej jednorodną warstwę nanocząsteczek, co może być użyteczne zarówno dla próbek przewodzących, jak i izolacyjnych. Jak opisano w protokole, drop-casting zawiesin nanocząsteczek zazwyczaj wymaga wielokrotnego nanoszenia w celu uzyskania grubej warstwy z pełnym pokryciem; należy to zweryfikować za pomocą XPS, ale można to również szybko i łatwo sprawdzić pod mikroskopem optycznym. Rycina 5 przedstawia ewolucję pokrycia kropli podczas drop-castingu nanocząsteczek Au-Ag typu rdzeń-powłoka z roztworu wodnego; w tym przypadku do osiągnięcia pełnego pokrycia wymagane było 13 etapów nanoszenia. Drop-casting jest szczególnie odpowiedni dla cząstek przewodzących lub takich, w których efekty ładowania mogą zostać odpowiednio skompensowane. Podobnie jak w przypadku innych metod opisanych w niniejszej publikacji, drop-casting powinien być optymalizowany dla każdej próbki, ponieważ różne materiały NP będą miały odmienne właściwości w zakresie głębokości analizy, stężenia oraz limitów grubości filmu. Należy unikać tworzenia zbyt grubych filmów, które mogą powodować piętrzenie się związków organicznych, co w konsekwencji tłumi sygnał NP.
Jednorodna i wysokiej jakości powłoka pomaga zapewnić spójne i powtarzalne wyniki. Oprócz stężenia zawiesiny, rozpuszczalnika i parametrów spin-coatingu, na jakość zawiesin nanoszonych tą metodą może negatywnie wpływać obecność kurzu lub innych dużych cząstek makro- lub mikroskopowych. Rycina 6 przedstawia poprawę jakości spin-coatingu zawiesiny nanocząstek po filtracji za pomocą filtra strzykawkowego 0,45 µm. Filtr należy dobrać tak, aby nie usuwał on nanocząstek z zawiesiny. Trzy różne stężenia zawiesin opisane w protokole (90, 9,0 i 0,9 mg/mL nanocząstek rdzeń-powłoka PS-PTFE o rozmiarze 135 nm) zostały naniesione metodą spin-castingu w tych samych warunkach i przeanalizowane za pomocą SEM i XPS. Górny obraz i widmo na Rycini 7 przedstawiają film naniesiony z zawiesiny 90 mg/mL, który wykazuje grubą i bezszczelinową pokrycie wielowarstwowe na obrazie SEM, a także wyraźny brak piku Si w widmach CPS, co wskazuje na brak wkładu podłoża w widmo. Próbka ta jest idealna do analizy XPS lub ToF-SIMS; dodatkowo, w przypadku braku silnego sygnału z podłoża, wyraźnie widoczne są mniejsze piki F1s pochodzące z powłoki cząstek. Druga próbka, naniesiona z zawiesiny 9,0 mg/mL, przedstawia cząstki w postaci małych, jednowarstwowych aglomeratów, które nie pokrywają całkowicie powierzchni. Próbka ta jest zbyt cienka i niejednorodna do analizy XPS lub ToF-SIMS. Co więcej, analiza ilościowa może być zaburzona przez wkład węgla z zanieczyszczeń zewnętrznych na podłożu, nawet po dokładnym czyszczeniu; w najmniejszym razie efekt ten musi zostać uwzględniony w budżecie niepewności pomiaru. Próbka ta byłaby jednak idealna do analizy rozkładu wielkości cząstek za pomocą SEM lub TEM z wykorzystaniem oprogramowania do analizy obrazu, ponieważ cząstki występują w jednej warstwie i w wystarczającej liczbie (w obrębie obrazu), aby zapewnić statystycznie istotną ocenę. Próbka naniesiona z najniższego stężenia (0,9 mg/mL) nie zapewnia ani ciągłego pokrycia, ani wystarczającej gęstości cząstek, aby nadawała się do analizy chemii powierzchni lub rozkładu wielkości cząstek. Niezawodna analiza ilościowa jest w ogóle niemożliwa ze względu na dominujący wpływ podłoża.
Nanocząstki (NPs) rdzeń-powłoka Al2O3-TiO2 z zewnętrzną warstwą PDMS lub glicerolu zostały przygotowane metodą drop-casting z zawiesiny, a także z proszku przy użyciu metody „stick-and-go”, w celu porównania wpływu różnych metod przygotowania na wrażliwą warstwę zewnętrzną. Próbki przeanalizowano za pomocą ToF-SIMS, a uzyskane widma poddano analizie głównych składowych (PCA). PCA jest techniką statystyczną służącą do redukcji wymiarowości dużych zbiorów danych poprzez tworzenie nowych, nieskorelowanych zmiennych (głównych składowych), które maksymalizują wariancję w danych41,42,43,44,45. Rozdzielenie różnych zestawów próbek na wykresie głównych składowych pozwala na łatwiejszą analizę i grupowanie wyników. Na wykresie wyników (scores plot) PCA na Rysunku 8B, który obrazuje moc dyskryminacyjną każdego zestawu danych w porównaniu do wszystkich pozostałych zestawów danych (tj. pomiędzy różnymi zestawami próbek), dwie próbki przygotowane z proszku wykazują bardzo różne wyniki, podczas gdy próbki przygotowane z dyspersji wykazują bardzo podobne wyniki. Wykresy ładunków (loading plots) przedstawione na Rysunku 8C wskazują na związek między zmiennymi, tj. które piki w największym stopniu przyczyniają się do odpowiednich głównych składowych. Wszystkie główne składowe są posortowane zgodnie z ich wkładem w obserwowaną różnicę między zestawami danych, co oznacza, że PCA1 w największym stopniu przyczynia się do zaobserwowanego rozdzielenia różnych zestawów danych. W PC1 dominuje obecność (NPs powlekane PDMS przygotowane z proszku) lub brak (wszystkie pozostałe próbki) pików PDMS, natomiast PC2, czynnik odpowiadający za drugą co do wielkości wariancję w zestawach danych, umożliwia rozróżnienie Al2O3 i organicznej otoczki na NPs. Wskazuje to, że zmierzone widma NPs przygotowanych z zawiesiny są bardzo podobne i sugeruje, że warstwy PDMS oraz glicerolu mogły zostać usunięte lub uszkodzone podczas przygotowania z zawiesiny, albo przez samą zawiesinę, albo przez proces suszenia, z dominującymi sygnałami od Al2O3 lub TiO2.
Chociaż prasowane tabletki mogą zapewniać korzyści przy przygotowaniu próbek w proszku, takie jak łatwość manipulacji i stabilność w instrumentach ultrawysokiej próżni (w tym możliwość rozpylania bez przemieszczania NP w komorze wysokiej próżni), wysokie siły mogą również uszkodzić wrażliwe nanocząstki, co zaobserwowano już przy innych metodach przygotowania. Należy opracować i zwalidować odpowiedni protokół.
W przypadku dyspersji NP krio-utrwalanie zawiesin próbek nanoszonych metodą kroplową zapobiega efektowi pierścienia kawowego (dzięki natychmiastowemu utrwaleniu zawiesiny NP i tym samym eliminacji efektów suszenia) oraz pozwala na zachowanie większych struktur obecnych w zawiesinie. Dodatkowo eliminuje się konieczność stosowania taśmy klejącej. Przekłada się to na zredukowanie sygnałów w odpowiednich widmach mas, które mogą być przypisane solom, zanieczyszczeniom lub innym artefaktom procedury przygotowania próbki, jak pokazano na Rysunku 9. Główną zaletą krio-utrwalania jest możliwość zachowania w stanie „as is” przestrzeni chemicznej wokół nanocząstek i/lub tożsamości chemicznej aglomeratów lub heteroaglomeratów cząstek, a także ich korelacji z cechami biologicznymi w tkankach, pojedynczych komórkach, a nawet ko-lokalizacji w przedziałach wewnątrzkomórkowych, bez zakłóceń wynikających z etapów przygotowania próbki, takich jak suszenie, nanoszenie metodą kroplową itp.46’47. W niniejszym artykule zademonstrowaliśmy możliwość zastosowania techniki krio-utrwalania i podkreśliliśmy jej zalety w odniesieniu do nanocząstek TiO2. Podkreślamy, że krio-utrwalanie jest szczególnie odpowiednie do analizy próbek biologicznych w ich stanie naturalnym, bez przemieszczania substancji chemicznych spowodowanego artefaktami przygotowania próbki. Po bardziej szczegółowe informacje na temat technik utrwalania próbek biologicznych odsyłamy czytelnika do literatury19,25,27,48,49.
| XPS (spektroskopia fotoelektronów w promieniach rentgenowskich) | ToF-SIMS |
| Wiązka sondująca | Fotony | Jony |
| Wiązka analityczna | Elektrony | Jony |
| Rozdzielczość przestrzenna* | > 1 µm | 0.1 µm |
| Głębokość próbkowania | 0,5 – 7,5 nm | <2 nm |
| Granica wykrywalności | 0,01–0,1% atom. | ppb |
| Ilościowe oznaczanie | Doskonały (półilościowy) | Problematyczne (efekty matrycowe) |
| Treść informacyjna | Pierwiastkowy
Wiązania chemiczne | Pierwiastkowy
Molekularny |
| Analiza organiczna | Doskonałe | Doskonały w trybie statycznym |
| * określone przez producenta |
Tabela 1: Porównanie różnych metod analizy powierzchniowej.
| Metoda | Odpowiednia dla | Wynik | Zalety | Wady | Uwagi | Kontrola | Weryfikacja |
| Dializa | Oczyszczanie | Usunięcie stabilizatorów/zanieczyszczeń | Prosta, niewielki nakład pracy, brak skomplikowanego sprzętu | Brak kontroli nad procesem | Może spowodować uszkodzenie nanocząstek | Czas | Uszkodzenie nanocząstek (SEM) |
| Wirowanie/ponowna dyspersja | Oczyszczanie | Usunięcie stabilizatorów/zanieczyszczeń | Większa kontrola nad procesem, jednoczesna koncentracja | Pracochłonna, wymaga wirówki | Może powodować agregację lub aglomerację | Prędkość obrotowa wirówki, ilość rozpuszczalnika | Aglomeracja/agregacja/uszkodzenie nanocząstek (SEM) |
| Odparowanie kropli (suspensja) | Przewodzące NP bez wrażliwej warstwy zewnętrznej | Stosunkowo gruba plamka powłoki | Prosta, brak skomplikowanego sprzętu | Może prowadzić do niejednorodnej grubości, czasochłonna | Przygotowanie suspensji może uszkodzić wrażliwe otoczki NP | Stężenie suspensji, rozpuszczalnik (zwilżalność podłoża) | Pokrycie (mikroskopia świetlna/XPS) |
| Spin coating (suspensja) | Przewodzące lub nieprzewodzące NP bez wrażliwej warstwy zewnętrznej | Cienka jednorodna warstwa lub pojedyncze cząstki | Spójne ustawienia | Wymaga doświadczalnego określenia optymalnych parametrów | Konieczność odfiltrowania kurzu/zanieczyszczeń, pokrycie może być niejednorodne | Stężenie, parametry spin coatingu, rozpuszczalnik | Wstępna filtracja, pokrycie, grubość warstwy (SEM/XPS) |
| „Przyklej i gotowe” (proszek) | Nieorganiczne przewodzące i nieprzewodzące NP z wrażliwą warstwą zewnętrzną | Plamka z proszku na kleju | Prosta, niewielki nakład pracy, brak skomplikowanego sprzętu | Nieodpowiednia dla organicznych lub zawierających C NP, niejednorodna grubość filmu | Ryzyko przedostania się NP do instrumentów | Fiksacja NP na kleju | Stabilność w warunkach wysokiej próżni |
| Osadzanie w otworze stubu (proszek) | Analiza XPS; przewodzące/nieprzewodzące cząstki organiczne lub nieorganiczne | Lekko dociśnięta próbka nanocząstek | Brak kontaktu z innymi materiałami | Brak pewnej fiksacji NP; nieodpowiednia dla ToF-SIMS | Ryzyko przedostania się NP do instrumentów | Brak | Lekko przechylić na bok, aby upewnić się, że proszek jest zagęszczony |
| Prasowane tabletki (proszek) | Przewodzące i nieprzewodzące NP, polimerowe NP | Lita tabletka | Umożliwia analizę polimerowych NP w formie proszku | Może uszkodzić lub zanieczyścić powierzchnię NP | Materiały powinny być dokładnie oczyszczone, aby uniknąć zanieczyszczeń powierzchniowych; może uszkodzić powierzchnię | Rozmiar, ciśnienie, czas | Stabilność w warunkach wysokiej próżni |
| Kriofiksacja (suspensja) | Suspensje NP z wrażliwą warstwą ligandów; próbki biologiczne | Próbka stała | Zachowuje morfologię, natywny stan biologiczny i koronę, redukuje efekt pierścienia kawowego | Złożone i kosztowne przygotowanie oraz obsługa próbek, wymaga doświadczonego użytkownika | Wysoki poziom umiejętności wymagany przy obsłudze i przechowywaniu próbek | Stężenie, rozmiar kropli, temperatura | Zachowanie witryfikacji |
Tabela 2: Porównanie różnych metod przygotowania próbek.

Rycina 1: Proces czyszczenia wafli Si. Kliknij tutaj, aby wyświetlić większą wersję tej ryciny.

Rycina 2: Widma XPS wafla krzemowego przed i po czyszczeniu. Widmo przeglądowe przed (szare) i po (czerwone) czyszczeniu, wykazujące spadek zawartości węgla z 13 at% do 2 at%. Widma uzyskano za pomocą spektrometru Kratos Supra DLD (Manchester, UK) z monochromatycznym promieniowaniem Al Kα. Próbki przymocowano do uchwytu za pomocą dwustronnej taśmy klejącej; energia przejścia wynosiła 80 eV, szerokość kroku 1 eV, czas przebywania (dwell time) 500 ms. Zastosowano tryb „hybrid lens mode”. Rozmiar wiązki promieni Rentgena wynosił 300 x 700 µm². Do kompensacji ładunku użyto działa elektronowego (flood gun). Do analizy ilościowej wykorzystano pakiet oprogramowania UNIFit 202050, opierając się na polach powierzchni odpowiadających piku fotoelektronowych, skorygowanych tłem Tougarda i znormalizowanych współczynnikami Scofielda, nieelastyczną drogą wolną średnią oraz funkcją transmisji. Kliknij tutaj, aby wyświetlić większą wersję tej ryciny.

Rycina 3: Wpływ czyszczenia UV/ozonem na homogeniczność dyspersji cząstek w procesie odlewania kropelkowego nanopartykul core-shell PTFE-PMMA z zawiesiny wodnej. Wafery oczyszczone za pomocą UV/ozonu wykazują znaczne zmniejszenie efektu pierścieni kawowych, a także lepszą adhezję cząstek do powierzchni. Kliknij tutaj, aby wyświetlić powiększoną wersję tej ryciny.

Rycina 4: Metody usuwania zanieczyszczeń (np. stabilizatorów) z zawiesin nanocząstek Zdjęcia SEM obrazujące wpływ dializy (u góry po prawej) oraz wirowania i ponownego dyspergowania w trzech powtórzeniach (u dołu po prawej) na nanocząstki Au-Ag typu rdzeń-powłoka o rozmiarze 60 nm. Nanocząstki są wyraźnie uszkodzone w wyniku dializy, podczas gdy wirowanie nie wywołuje widocznego efektu. Wszystkie paski skali wynoszą 100 nm. Kliknij tutaj, aby wyświetlić powiększoną wersję tej ryciny.

Rysunek 5: Obrazy z mikroskopu optycznego po naniesieniu metodą drop-casting nanocząstek Au-Ag typu rdzeń-powłoka o średnicy 60 nm z zawiesiny wodnej na wafery krzemowe, wykazujące wystarczające pokrycie po 13 kroplach. Kliknij tutaj, aby wyświetlić powiększoną wersję tego rysunku.

Rysunek 6: Nanocząsteczkowa zawiesina naniesiona metodą spin-coatingu przed (lewo) i po (prawo) filtracji za pomocą filtra strzykawkowego 0,45 µm. Wyraźnie widać poprawę jakości po filtracji. Kliknij tutaj, aby zobaczyć powiększoną wersję tego rysunku.

Rycina 7: Obrazy SEM i widma XPS nanocząsteczek rdzeń-powłoka PMMA-PTFE naniesionych metodą spin-castingu w różnych stężeniach, przedstawiające wpływ pików podłoża (wynikający z niewystarczającego pokrycia) na widma XPS. Kliknij tutaj, aby wyświetlić powiększoną wersję tej ryciny.

Rysunek 8: Wykres wyników analizy głównych składowych (PCA), wyznaczony na podstawie widm ToF-SIMS nanocząstek (NP) typu rdzeń-powłoka Al2O3-TiO2 powlekanych glicerolem i PDMS. (A) Schemat struktury NP; (B) Wykresy wyników (scores) i (C) wykresy obciążeń (loadings) po analizie ToF-SIMS metod przygotowania „drop-cast” (dyspersja) oraz „stick-and go” (proszek). PC1 reprezentuje piki korelujące z fragmentami PDMS; PC2 oddziela próbki z powłoką organiczną (próbki przygotowane z proszku) od pików Al2O3 prawdopodobnie pozbawionych powłoki powierzchniowej. Widma mierzono w trybie dodatnim na urządzeniu IONTOF ToF-SIMS IV (ION-TOF GmbH, Münster, Niemcy) w trybie spektrometrycznym (HCBU) przy użyciu wiązki jonów Bi3+ o energii 25 kV i maksymalnej gęstości dawki 1012 ions/cm2. Pole widzenia 150 x 150 µm skanowano w trybie piły o rozdzielczości 125 x 125 pikseli. Kliknij tutaj, aby wyświetlić powiększoną wersję tego rysunku.

Rysunek 9: Fragment widm mas ToF-SIMS nanocząstek (NPs) TiO2. (A) przygotowanych z proszku metodą „stick and go” oraz (B) po krio-utrwaleniu dyspersji NPs. Do analizy spektrometrii mas użyto instrumentu ToF-SIMS (ION-TOF V; Ion-TOF GmbH, Münster, Niemcy) z impulsową działo jonów ciekłego metalu (LMIG, prąd stały (dc), 16 nA) Bi3+ o energii 30 keV. Każde widmo uzyskano poprzez skanowanie wiązki jonów w obszarze próbki o wymiarach 500 × 500 µm. Dodatnie jony wtórne rejestrowano w zakresie mas 0–1 200 Da, wykorzystując 106 impulsów Bi3+. Kliknij tutaj, aby wyświetlić powiększoną wersję tego rysunku.