La naturaleza diseñada y la síntesis controlada de origami de ADN en un solo recipiente ofrece oportunidades emocionantes en muchos campos, particularmente en la nanoelectrónica. Muchas de estas aplicaciones requieren la interacción y la adhesión de nanoestructuras de ADN a un sustrato. Debido a su naturaleza atómicamente plana y fácil de limpiar, la mica ha sido el sustrato elegido para los experimentos de origami de ADN. Sin embargo, las aplicaciones prácticas de la mica son relativamente limitadas en comparación con las de los sustratos semiconductores. Por esta razón, aquí se presenta un proceso sencillo, estable y repetible para la adhesión del origami del ADN sobre el óxido de silicio derivatizado. Para promover la adhesión de las nanoestructuras de ADN a la superficie de óxido de silicio, se deposita una monocapa autoensamblada de 3-aminopropiltrietoxisilano (APTES) a partir de una solución acuosa que es compatible con muchos fotorresistentes. El sustrato debe limpiarse de todos los contaminantes orgánicos y metálicos mediante procesos de limpieza de Radio Corporation of America (RCA) y la capa de óxido nativo debe grabarse para garantizar una superficie plana y funcionalizable. Las salas limpias están equipadas con instalaciones para la limpieza de silicona, sin embargo, muchos componentes de los tampones y soluciones de origami de ADN a menudo no se permiten en ellos debido a problemas de contaminación. Este manuscrito describe la configuración y el protocolo para la limpieza de silicona a pequeña escala en el laboratorio para los investigadores que no tienen acceso a una sala limpia o que desean incorporar procesos que podrían causar la contaminación de un banco limpio CMOS de sala limpia. Además, se discuten las variables para regular la cobertura y se describe cómo reconocer y evitar problemas comunes de preparación de muestras.