Bu makale nanopartiküllerin yüzey analizi için çeşitli numune hazırlama yöntemleri sunun. Belirli bir NP'nin fizikokimyasal özellikleri hem numune hazırlama için en uygun yöntemi (örneğin, damla döküm ve spin kaplama) hem de bu yöntem için en iyi prosedürü (örneğin, farklı substratlar veya çözücüler gerektiren) tanımlayacağından, kullanılan yöntemin uygunluğu alternatif analitik yöntemlerle doğrulanmalı ve gerekirse optimize edilmelidir. Bu yayında görülen sonuçlar, numune hazırlama ve saflaştırma yöntemlerinin uygun, başarılı ve nanopartiküllere zarar vermemesini sağlamak için kalite kontrollerine duyulan ihtiyacın yanı sıra numune hazırlama için tutarlı protokol ve prosedürlere duyulan ihtiyacı gösteren daha önce yayınlanmış literatür ile tutarlıdır22,33,34,35,36.
NP'ler için örnekleme ve depolama yöntemleri, çeşitli diğer referanslarda ayrıntılı olarak açıklandığı gibi burada ele alınmamıştır14,15,16,17,18,34,37,38,39. Doğal olarak, analiz edilen örneklerin genel nanopartikül dağılımını ve geliştirilen ve doğrulanan uygun örnekleme yöntemlerini temsil etmesine büyük özen belirtilmelidir. Depolama koşullarının da nanopartikül özelliklerini aylar boyunca güçlü bir şekilde etkilediği gösterilmiştir ve bu nedenle dikkatlice düşünülmelidir. Örnek olarak, nanopartiküllerin ışıktan uzak, ideal olarak 4 °C'nin altında kapalı kaplarda küçük miktarlarda saklanmalarını öneririz. Depolama, örnekleme ve numune hazırlamanın doğrulanmış prosedürlere göre tutarlı bir şekilde yapılması ve ayrıntılı olarak belgelenilmesi de çok önemlidir. Bu belge, kanıtlanmışlık bilgileri ve depolama koşulları40 gibi NP'lerin kendilerinden gelen meta verileri içermelidir. Elektronik laboratuvar not defterleri (ELN'ler) gibi araçlar, prosedürlerin ve NP meta verilerinin tutarlı bir şekilde belgelenmesi ve FAIR ilkesine (Bulunabilir, Erişilebilir, Birlikte Çalışabilir ve Yeniden Kullanılabilir) göre veri üretiminin etkinleştirilmesi için yararlı olabilir.
NP'lerin doğru ve doğru yüzey analizi öncelikle uygun bir substrat seçimi gerektirir. Temizlenmiş Si gofretleri substrat olarak kullandık, çünkü kolayca kullanılabilir, dayanıklı, kolayca temizlenir, iletken ve yeterince düztür, ancak analizin hedeflerine bağlı olarak oksit yüzey tabakası bir dezavantaj olabilir, çünkü substrat üzerindeki maceracı hidrokarbonlar nanopartiküllerdekilerden ayırt edilemez. Gerektiğinde, Si gofretler, Si3N4 gofretler veya HOPG (yüksek odaklı pirolitik grafit) üzerindeki altın veya polimerik kaplamalar gibi diğer malzemeler kullanılabilir19,20,21,22. Bu makalede açıklanan örnek hazırlamanın ilk adımı, Şekil 1'de şematik olarak gösterilen Si gofreti temizlemektir. Temizleme işleminin etkinliği, Şekil 2'de gösterildiği gibi XPS de dahil olmak üzere çeşitli yöntemlerle doğrulanabilir. Ana kirletici (maceracı karbon), havada depolanan numuneler için tipiktir ve temizleme işleminden sonra önemli ölçüde azalır. Ek olarak, gofret yüzeyinin UV veya ozon tedavisi yoluyla hidroksilaslanması, ıslanabilirliği artırarak sulu süspansiyondan biriktirmeden kahve halkası etkisini önler ve bu nedenle Şekil 3'te gösterildiği gibi nanopartiküllerin daha homojen bir dağılımına yol açar. Si gofretler için alternatif ıslak kimyasal temizleme yöntemleri gerektiğinde kullanılabilir; burada tüm organik kirleticilerin veya oksit tabakasının tamamen çıkarılması yerine sadece tekrar tekrar temiz bir yüzey gereklidir. Protokol temizlik ve süspansiyon biriktirme adımları arasında duraklatılırsa, gofret plazma veya UV/ ozon altında tekrar tedavi edilmeli ve süspansiyon ideal olarak tedaviden 15 dakika içinde biriktirilmelidir.
Bölüm 2.2'de gösterilen 60 nm Au-Ag çekirdek kabuklu nanopartiküllerin süspansiyonu, nanopartikül süspansiyonlarında yaygın bir durum olan stabilizatör olarak önemli miktarda sodyum sitrat içeriyordu. Bu parçacıkların ve yüzey özelliklerinin doğru analizi için, özellikle XPS aracılığıyla, nanopartiküllerden gelen sinyali hafiflettiği ve şarj etkilerine neden olduğu için mümkün olduğunca fazla stabilizatör çıkarılmalıdır. Şekil 4'te SEM mikrografileri olarak gösterilen bu nanopartiküller için en uygun arıtma yöntemini oluşturmak için, ultra saf suda çaprazlandılar veya üç taraflı santrifüjleme ve yeniden dağılma kullanılarak arıtıldılar. Diyaliz daha nazik bir yöntem gibi görünse de ve parçacıkların aglomeralanmasına ve toplanmasına neden olma olasılığı daha yüksek olsa da, SEM görüntüleri diyalizden sonra Au-Ag nanopartiküllerinin önemli deformasyonunu ve hasarını gösterir (Şekil 4B), santrifüjlenmiş / yeniden dağılmış parçacıklar hala sağlamdır (Şekil 4C ). Bu özellikle metalik nanopartiküller ile dikkat çekicidir; Hipotezimiz, nanopartiküller için sinyale müdahale etmezken çözeltinin bir miktar stabilizasyonunu sağlayan optimum miktarda sodyum sitrat olduğu ve çok fazla stabilizatörun çıkarılması nanopartiküllere zarar verdiğidir. Önceki bir rapor, sodyum sitratın çoğunun çıkarılması için optimum sayıda santrifüj döngüsü olduğunu göstermektedir; bu sayının aşılması bazı NP toplama33 neden olur. Bu çalışmada, benzer sitrat konsantrasyonu elde etmek için dokuz diyaliz döngüsü (toplam 36 saat) gerekiyordu; bununla birlikte, bu yöntem santrifüjlemeden daha yüksek miktarda toplamanın yanı sıra yüzey fonksiyonelleştirmesinde bir azalmaya neden oldu. Bu sonuçlar, özellikle bilinmeyen örneklerle, her farklı nanopartikül türü için hazırlık prosedüründeki her adımı doğrulamanın önemini göstermektedir.
Bu örnekte kullanılan 60 nm Au-Ag çekirdek kabuklu nanopartiküller, elektrik iletkenliği nedeniyle damla döküm için uygundur, çünkü şarj efektleri bir sorun değildir ve nispeten az ekipman kullanılarak tekrarlanan biriktirme ile kalın bir nokta oluşturulabilir. Bu daha kalın tabaka daha tekrarlanabilir ölçümler verme avantajına sahiptir ve daha konsantre bir süspansiyondan döküm, biriktirme adımlarının sayısını azaltarak zaman kazandırabilir. Biriktirme, substrat ıslanabilirliğinden etkilenebilir; zayıf ıslatma, iletken numuneler için avantajlı olan kalın bir nanopartikül noktası üretebilirken, iyi ıslatma hem iletken hem de yalıtımlı numuneler için yararlı olabilecek daha homojen bir nanopartikül tabakası üretebilir. Protokolde açıklandığı gibi, nanopartikül süspansiyonlarının damla dökümü genellikle tam kapsama alanına sahip kalın bir tabaka elde etmek için tekrarlanan uygulamalar gerektirir; bu, XPS kullanılarak doğrulanmalıdır, ancak optik mikroskopi kullanılarak da hızlı ve kolay bir şekilde doğrulanabilir. Şekil 5 , Au-Ag çekirdek kabuklu nanopartiküllerin sulu çözeltiden damla dökümünde damlacık kapsamının evrimini göstermektedir; bu durumda, tam kapsama elde etmek için 13 damla döküm adımı gereklidir. Damla dökümü özellikle iletken parçacıklar veya şarj etkilerinin yeterince telafi edilebildiği parçacıklar için uygundur. Bu yayında açıklanan diğer yöntemlerde olduğu gibi, farklı NP malzemeleri bilgi derinliği ve konsantrasyonu ve film kalınlığı sınırları ile ilgili farklı özelliklere sahip olacağından, damla dökümü her örnek için optimize edilmelidir. Organiklerin istiflenmesine neden olabilecek çok kalın filmlerden kaçınmak ve NP sinyalini engellemek önemlidir.
Homojen ve kaliteli kaplama, tutarlı ve tekrarlanabilir sonuçlar elde etmeye yardımcı olur. Süspansiyon konsantrasyonu, çözücü ve spin kaplama parametrelerine ek olarak, spin kaplı süspansiyonların kalitesi de toz veya diğer büyük makro veya mikroskobik parçacıkların varlığından olumsuz etkilenebilir. Şekil 6 , 0,45 μm şırıngam filtresi ile filtrasyondan sonra nanopartikül süspansiyonunun spin kaplama kalitesindeki iyileşmeyi göstermektedir. Filtre, süspansiyondan nanopartikülleri çıkarmamasını sağlamak için seçilmelidir. Protokolde açıklanan üç farklı süspansiyon konsantrasyonu (135 nm PS-PTFE çekirdek kabuklu nanopartiküllerin 90, 9.0 ve 0.9 mg/mL'si) aynı koşullar altında spin-cast yapıldı ve SEM ve XPS kullanılarak analiz edildi. Şekil 7'deki en üst görüntü ve spektrum, SEM görüntüsünde kalın ve boşluksuz bir çok katmanlı kapsama alanının yanı sıra CPS spektrumunda Si zirvelerinin önemli bir yokluğunu gösteren 90 mg / mL süspansiyondan elde edilen filmi gösterir, bu da substratın spektruma hiçbir katkısını göstermez. Bu örnek XPS veya ToF-SIMS analizi için idealdir; ek olarak, parçacıkların kabuğundan daha küçük F1'ler zirveleri, substrattan büyük bir sinyalin yokluğunda açıkça görülebilir. 9.0 mg/mL süspansiyondan elde edilen ikinci örnek, yüzeyi tamamen kaplamayan küçük tek katmanlı aglomeralardaki parçacıkları gösterir. Bu örnek XPS veya ToF-SIMS analizi için çok ince ve inhomogeneous. Ayrıca, dikkatli temizlik sonrası bile yaratıcı karbonun substrata katkısı nedeniyle nicel analiz bozulabilir; en azından, böyle bir etki ölçümün belirsizlik bütçesinde göz önünde bulundurulmalıdır. Bununla birlikte, bu örnek, parçacıklar istatistiksel olarak anlamlı bir değerlendirme sağlamak için tek bir katmanda ve yeterli sayıda (görüntü içinde) mevcut olduğu için görüntü analizi yazılımı kullanılarak parçacık boyutu dağılımının SEM veya TEM analizi için ideal olacaktır. En düşük konsantrasyondan (0,9 mg/mL) elde edilen numune dökümü, yüzey kimyası veya partikül boyutu dağılımının analizi için uygun hale getirmek için sürekli kapsama alanı veya yeterli partikül yoğunluğu sağlamaz. Substratın baskın etkisi nedeniyle güvenilir bir nicel analiz mümkün değildir.
PDMS veya gliserol dış tabakasına sahip Al2O3-TiO2 çekirdek kabuklu NP'ler, farklı hazırlık yöntemlerinin hassas dış tabaka üzerindeki etkilerini karşılaştırmak için süspansiyondan ve "stick-and-go" yöntemi kullanılarak tozdan damla dökümü ile hazırlanmıştır. Örnekler ToF-SIMS ile analiz edildi ve burada spektrada Ana Bileşenler Analizi (PCA) kullanılarak analiz edildi. PCA, verilerdeki farkı en üst düzeye çıkaran yeni düzeltilmemiş değişkenler (ana bileşenler) oluşturarak büyük veri kümelerinin boyutsallığını azaltmak için istatistiksel bir tekniktir41,42,43,44,45. Ana bileşen grafiğinde farklı numune kümelerinin ayrılması, sonuçların daha kolay analiz edilmesine ve gruplandırılmasına olanak tanır. Diğer tüm veri setlerine kıyasla her veri kümesinin ayrımcılık gücünü gösteren Şekil 8B'deki PCA puanları çiziminde (yani farklı örnek kümeleri arasında) tozdan hazırlanan iki örnek çok farklı puanlar gösterirken, dispersiyondan hazırlanan örnekler çok benzer puanlar göstermektedir. Şekil 8C'de gösterilen yükleme çizimleri değişkenler arasındaki ilişkiyi gösterir, yani hangi zirveler ilgili ana bileşenlere en çok katkıda bulunur. Tüm ana bileşenler, veri kümeleri arasındaki gözlemlenen farka katkılarına göre sıralanır, yani PCA1, farklı veri kümelerinin gözlemlenen ayrımına en fazla katkıda bulunur. PC1'e PDMS tepelerinin varlığı (TOZdan hazırlanmış PDMS kaplı NP'ler) veya yokluğu (diğer tüm örnekler) hakimdir, veri kümelerindeki ikinci en büyük varyasyonu oluşturan faktör olan PC2 ise Al2O3'ün farklılaştırılmasını ve NP'lerdeki organik kapaklamayı sağlar. Bu, süspansiyondan hazırlanan NP'lerin ölçülen spektrumunun çok benzer olduğunu gösterir ve PDMS ve gliserol katmanlarının, Süspansiyonun kendisinden veya kurutma işleminden, Al2O3 veya TiO2'den gelen baskın sinyallerle süspansiyondan hazırlanarak çıkarılmış veya hasar görmüş olabileceğini göstermektedir.
Preslenmiş peletler, ultra yüksek vakumlu aletlerde kullanım kolaylığı ve stabilite gibi toz numunelerin hazırlanması için avantajlar sağlayabilirken (yüksek vakumlu haznedeki NP'leri yerinden etmeden sputter yeteneği dahil), ilgili yüksek kuvvetler, diğer hazırlama yöntemlerinde görüldüğü gibi hassas nanopartiküllere de zarar verebilir. Uygun bir protokol hazırlanmalı ve doğrulanmalıdır.
NP dispersiyonları durumunda, damla döküm numune süspansiyonlarının kriyofixasyonu kahve halkası etkilerini önler (NP süspansiyonunun anlık sabitlenmesi ve dolayısıyla kurutma etkilerinin ortadan kaldırılması nedeniyle) ve süspansiyonda bulunan daha büyük yapıların korunmasını önler. Ayrıca yapışkan bant uygulamasından kaçınılır. Bu da Şekil 9'da gösterildiği gibi ilgili kütle spektrumunda tuzlara, kirleticilere veya numune hazırlama prosedürünün diğer eserlerine atfedilebilecek azaltılmış sinyallere yansır. Kriyofixasyonun en büyük avantajı, nanopartiküllerin ve/veya parçacık aglomeralarının veya heteroagglomeratların kimyasal varlığının etrafındaki kimyasal alanı ve bunların dokular veya tek hücreler içindeki biyolojik özelliklerle korelasyonunu ve hatta kuruma gibi numune işleme adımlarından kesintiye gitmeden hücre içi bölmelere eş lokalizasyonunu "olduğu gibi" koruyabilme yeteneğidir. damla döküm, vb46'47. Kriyofixasyon tekniğinin mevcut kağıt içindeki uygulanabilirliğini gösterdik ve TiO2 nanopartikülleri için kriyofixasyonun avantajlarını vurguladık. Kriyofixasyonun, numune hazırlama eserleri nedeniyle kimyasalların yerinden çıkmadan doğal hallerinde olması gereken biyolojik numunelerin analizi için özellikle uygun olduğunu vurguluyoruz. Biyolojik örnekler için fiksasyon teknikleri hakkında daha ayrıntılı bilgi için okuyucu literatüre atıfta bulunulmaktadır19,25,27,48,49.
| XPS | TOF-SIMS |
| Prob Işın | Foton | Iyon |
| Analiz Işın | Elektron | Iyon |
| Uzamsal Çözünürlük* | > 1 μm | 0,1 μm |
| Örnekleme Derinliği | 0,5 – 7,5 nm | <2 nm |
| Algılama Sınırı | 0,01 -0,1 atom % | Ppb |
| Miktar | Mükemmel (yarı nicel) | Zorlu (matris efektleri) |
| Bilgi İçeriği | Elemental Kimyasal yapıştırma | Elemental Moleküler |
| Organik Analiz | Mükemmel | Statik modda mükemmel |
| * üretici tarafından belirtilir |
Tablo 1: Yüzey analizi için çeşitli yöntemlerin karşılaştırılması.
| Yöntem | için uygundur | Verir | Avantaj -ları | Dezavantaj -ları | Dikkat | Denetim | Çek |
| Diyaliz | Arıtma | Stabilizatörlerin/ safsızlıkların giderilmesi | Basit, düşük eforlu, karmaşık ekipman yok | Süreç üzerinde kontrol eksikliği | Nanopartiküllerde hasara neden olabilir | Saat | Nanopartiküllerde hasar (SEM) |
| Santrifüjleme/yeniden dağılım | Arıtma | Stabilizatörlerin/ safsızlıkların giderilmesi | Süreç üzerinde daha fazla kontrol, eşzamanlı konsantrasyon | Emek yoğun, santrifüj gerektirir | Toplama veya aglomerasyona neden olabilir | Santrifüj dönüş hızı, çözücü miktarı | Aglomerasyon/ toplama / nanopartiküllere zarar verme (SEM) |
| Damla döküm (süspansiyon) | Hassas dış katman olmadan iletken NP'ler | Nispeten kalın kaplamalı nokta | Basit, karmaşık ekipman yok | Ev içi kalınlık, zaman yoğun verebilir | Süspansiyon hazırlığı hassas NP mermilerine zarar verebilir | Süspansiyon konsantrasyonu, çözücü (substrat ıslanabilirliği) | Kapsam (hafif mikroskopi/XPS) |
| spin kaplama (süspansiyon) | Hassas dış katman olmadan iletken veya iletken olmayan NP'ler | İnce homojen tabaka veya tek parçacıklar | Tutarlı ayarlar | Optimal parametrelerin deneysel olarak belirlenmesini gerektirir | Toz/safsızlıkları filtreleyin, kapsama alanı tutarsız olabilir | Konsantrasyon, spin kaplama parametreleri, çözücü | Ön filtrasyon, Kapsama alanı, tabaka kalınlığı (SEM/XPS) |
| "sopa ve git" (toz) | Hassas dış katmanlı inorganik iletken ve iletken olmayan NPS | Yapıştırıcıda toz lekesi | Basit, düşük eforlu, karmaşık ekipman yok | Organik veya C içeren NP'ler için uygun olmayan, Tutarsız film kalınlığı | NP'nin enstrümanlara salınmış tehlikesi | NPS'lerin yapıştırıcıya sabitlenmesi | Yüksek vakum koşullarında stabilite |
| saplama deliğinde biriktirme (toz) | XPS analizi; iletken/iletken olmayan organik veya inorganik parçacıklar | Hafif preslenmiş nanopartikül örneği | Diğer malzemelerle temas yok | NP'lerin güvenli bir şekilde sabitlenmesi yok; ToF-SIMS için uygun değil | NP'nin Dager'i enstrümanlara salınıyor | Hiç kimse | Tozun sıkıştırılmasını sağlamak için yana hafifçe eğilin |
| Preslenmiş peletler (toz) | İletken ve iletken olmayan NPS, polimerik NP'ler | Katı pelet | Polimerik NP'lerin toz olarak analizini sağlar | NP yüzeyi zarar verebilir veya kirletebilir | Yüzey kirlenmesini önlemek için malzemeler iyice temizlenmelidir; yüzeye zarar verebilir | Boyut, basınç, zaman | Yüksek vakum koşullarında stabilite |
| Kriyo fiksasyonu (süspansiyon) | Hassas ligand tabakasına sahip NP süspansiyonları; biyolojik numuneler | Katı örnek | Morfolojiyi, yerli biyolojik durumu ve koronayı korur, kahve halkası etkisini azaltır | Sofistike ve pahalı hazırlık ve numune kullanımı, yetenekli kullanıcı gerektirir | numune taşıma ve numune depolama için gereken yüksek beceri derecesi | Konsantrasyon, damlacık boyutu, sıcaklık | Vitrifikasyonun korunması |
Tablo 2: Farklı numune hazırlama yöntemlerinin karşılaştırılması.

Şekil 1: Si gofretler için temizleme işlemi. Bu rakamın daha büyük bir sürümünü görüntülemek için lütfen buraya tıklayın.

Şekil 2: Temizlik öncesi ve sonrası Si gofret XP spektrumları. (Gri) ve sonra (kırmızı) temizlikten önce yapılan ankette, karbon miktarının 'ten %2'ye düştüğü gösterilir. Spektra, tek renkli Al Kα radyasyonu olan bir Kratos Supra DLD (Manchester, İngiltere) ile elde edildi. Numuneler numune tutucusuna çift yapışkan bant ile sabitlenmiş, geçiş enerjisi 80 eV, adım genişliği 1 eV, durma süresi 500 ms idi. "Hibrit lens modu" kullanıldı. X-ışını spot boyutu 300 x 700 μm² idi. Şarj tazminatı için sel tabancası kullanıldı. Nicel analiz için, yazılım paketi UNIFit 202050, tougaard arka plan ile düzeltilen ve Scofield faktörleri, inelastik ortalama serbest yollar ve iletim fonksiyonu ile normalleştirilen ilgili fotoelekron tepelerinin tepe alanları kullanılarak kullanıldı. Bu rakamın daha büyük bir sürümünü görüntülemek için lütfen buraya tıklayın.

Şekil 3: UV/Ozon temizliğinin, PTFE-PMMA çekirdek kabuklu nanopartiküllerin sulu süspansiyondan damla dökümünde parçacık dağılımının homojenliği üzerindeki etkisi. UV/ozon ile temizlenen gofretler, kahve halkalarında önemli bir azalmanın yanı sıra parçacıkların yüzeye daha iyi yapıştırılmasını gösterir. Bu rakamın daha büyük bir sürümünü görüntülemek için lütfen buraya tıklayın.

Şekil 4: Nanopartikül süspansiyonlarından safsızlıkları (örneğin stabilizatörleri) gidermek için tedavi seçenekleri Diyalizin (sağ üst) ve santrifüjlemenin etkisini gösteren SEM görüntüleri ve triplikatta (sağ alt) 60 nm Au-Ag çekirdek kabuk nanopartikülleri üzerinde yeniden dağılım. Nanopartiküller diyalizden açıkça zarar görürken, santrifüjlemenin görünür bir etkisi yoktur. Tüm ölçek çubukları 100 nm'dir. Bu rakamın daha büyük bir sürümünü görüntülemek için lütfen buraya tıklayın.

Şekil 5: Sulu süspansiyondan silikon gofretlere 60 nm çapında Au-Ag çekirdek kabuk nanopartiküllerinin damla dökümünden optik mikroskop görüntüleri, 13 damladan sonra yeterli kapsama alanı gösterir. Bu rakamın daha büyük bir sürümünü görüntülemek için lütfen buraya tıklayın.

Şekil 6: Spin kaplı nanopartikül süspansiyonu, 0,45 μm şırıngam filtresi ile (sağda) filtrasyondan önce (solda) ve sonra . Filtrasyon sonrası kalitedeki iyileşme açıkça görülebilir. Bu rakamın daha büyük bir sürümünü görüntülemek için lütfen buraya tıklayın.

Şekil 7: PMMA-PTFE çekirdek kabuklu nanopartiküllerin SEM görüntüleri ve XPS spektrumları, substrat tepelerinin (yetersiz kapsama alanından) XPS spektrumu üzerindeki etkisini gösteren çeşitli konsantrasyonlarda spin-döküm. Bu rakamın daha büyük bir sürümünü görüntülemek için lütfen buraya tıklayın.

Şekil 8: Gliserol ve PDMS kaplı Al2O3-TiO2 çekirdek kabuk NP'lerinin ToF-SIMS spektrumlarından türetilen Ana Bileşen Analizi (PCA) puan grafiği. (A) NP yapısının şeması; (B) Puanlar ve (C) Düşme-dökme (dağılım) ve "sopa ve git" (toz) hazırlama yöntemlerinin ToF-SIMS analizinden sonra arsaların yüklenmesi. PC1, PDMS parçalarıyla ilişkili tepeleri temsil eder; PC2, yüzey kaplaması olmadan örnekleri al2O3 tepelerinden organik bir kaplama (tozdan hazırlanan numuneler) ile ayırır. Spektra, maksimum 1012 iyon/cm2 doz yoğunluğuna sahip 25 kV Bi3+ iyon ışınlı spektrometre modunda (HCBU) bir IONTOF ToF-SIMS IV cihazında (ION-TOF GmbH, Münster, Almanya) pozitif modda ölçüldü. Testere otu modunda 125 x 125 piksel ile 150 x 150 μm görüş alanı tarandı. Bu rakamın daha büyük bir sürümünü görüntülemek için lütfen buraya tıklayın.

Şekil 9: TiO2 NP'lerin ToF-SIMS kütle spektrumunun bölümü. (A) "sopa ve git" yöntemi ile tozdan ve (B) NP dağılımının kriyofixasyonundan sonra hazırlanır. Bir ToF-SIMS cihazı (ION-TOF V; İyon-TOF GmbH, Münster, Almanya) darbeli 30 keV Bi3+ sıvı metal iyon tabancası (LMIG, doğru akım (dc), 16 nA) ile kütle spektrometresi analizleri için kullanılmıştır. Her spektrum, iyon ışınının 500 × 500 μm'lik bir örnek alan üzerinden taranarak elde edildi. Pozitif sekonder iyonlar 0–1.200 Da kütle aralığında 106 Bi3+ darbe kullanılarak elde edildi. Bu rakamın daha büyük bir sürümünü görüntülemek için lütfen buraya tıklayın.