Name: Düzgün kalınlığı Ge Elektro Biriktirme 23 Sb 7 S 70 Ve de 40 S 60 Chalcogenide Cam Filmleri (Video) | JoVE Journal
Uploaded: 2016-08-19T14:00:00.000+00:00
Duration: 8 min 38 s
Description: Öğrenin, kalkojenit cam filmlerin elektrospray yöntemiyle orta kızılötesi fotonik uygulamalar için nasıl biriktirildiğini. Bu teknik, yerel biriktirme ve kalınlık profili kontrolü sağlar.

ai_agent_IP

ai_agent

maintenance

instantTrialDurationMinutes

isBiopharma

enableNewMyJoveSectionDesign

educationFeatures

seoMetaApi

ai_copilot_institution_blacklist

ai_chat_institution_blacklist

freeAccessWindow

ssoRoleCapture

scheduledMaintenanceBanner

joveLabsFeatures

disable_autoplay_for_bots

extended_trial_duration

5 minutes

playerTrialDesktop

Bu çalışmanın finansmanı, Savunma Tehdidi Azaltma Ajansı sözleşmeleri HDTRA1-10-1-0073: HDTRA1-13-1-0001 tarafından sağlanmıştır.

Dikkat: Bu kimyasallar ile çalışırken (MSDS) Malzeme Güvenlik Bilgi Formuna bakınız ve bu yüksek gerilim, birikim sisteminin mekanik hareket ve kullanılan ocak ve fırınların yüksek sıcaklıklarda gibi diğer tehlikelerin farkında olun. Not: iyi bilinen eriyik söndürme teknikleri 2 tarafından hazırlanan toplu kalkojenit cam ile bu protokolü başlayın. Fark Çözümleri hazırlanması 1. Not: iki çözelti bu çalışmada kullanılır, Ge 23 Sb 7 S 70 ve 40 olarak S 60, 0.05 g / ml bir konsantrasyonda etanolamin içinde çözüldü, her iki. iki çözeltinin hazırlanması aynıdır. Davlumbaz içinde bu bölümdeki tüm adımları uygulayın. <ol><li> bir havan ve havan tokmağı kullanılarak ince bir toz haline yığın camın ezmek. </li><li> etanolamin çözücü 5 ml cam 0.25 g karıştırın. </li><li> İzin tamamen erimesi için 1-2 güncam. ~ 50-75 ° C&#39;lik bir yüzey sıcaklığına sahip bir sıcak plaka üzerinde çözeltiyi ısıtarak çözünme hızlandırır. bir manyetik karıştırma çubuğu ile, karışım karıştırılarak çözünme hızını arttırır. </li><li> 0.45 um politetrafloroetilen (PTFE) filtreli bir şişe içine filtre solüsyonu solüsyondan bir büyük çökeltiler kaldırın. </li></ol> 2. Biriktirme Süreci ayarlama Not: elektrosprey yerleştirme sistemi, Şekil 1 &#39;de şematik olarak gösterilmektedir, bu işlemde, PTFE uçlu piston ile 50 ul bir cam şırınga kullanılır.. şırınga konik uçlu, 22 numaralı dış çaplı bir iğne (0.72 mm dış çapa, 0.17 mm iç çap) sahip, çıkarılabilir bir iğne tarzında olup, elektrosprey sistemin dikey olarak yönlendirilmiş şırınga pompasına bağlanır. Sistem set-up olsa bir torpido gözünün içinde elektrosprey sistemi, bu ilk deneylerde ortam atmosferine maruz kalmaktadır. Sistem se olmalıdırBöyle bir davlumbaz olarak, kullanıcı izole edilen bir konumda T makyaj. <ol><li> CHG çözeltisinin içine iğne ucunu yerleştirin. kabarcıkların oluşumunu önlemek için, yavaş bir hızda gibi 150 ul / saat özü modunda şırınga pompası ayarlayarak enjektöre çözüm çizin. </li><li> memenin ucu ve elle hareket modunda CNC ile Si alt-tabaka üst kısmı arasında bir çalışma mesafesi (bu durumda 10 mm) ile. Güç kaynağı toprak geri bağlı olan bir alüminyum plaka üzerinde, katkısız ve 10,000 ohm-sm arasında bir dirençliliğe sahip Si alt tabaka, koyun. </li><li> şırınga pompası kullanılarak şırınga biraz sıvı dağıtarak kaplamak için memenin dış yüzeyi küçük bir sıvı hacmi izin verin. yaklaşık 75-100 ° C&#39;lik bir yüzey sıcaklığında ocak gözünü açın. meme yüzeyinde kurumaya cam filmi izin 2 ~ için saat bekleyin. Bu kaplama, sprey stabilitesini yardımcı olur. </li></ol> 3. Elektro BiriktirmeDeğ Filmlerinin <ol><li> bir elektrik klip ile şırınga memeye doğru akım (DC) güç kaynağını bağlayın. </li><li> 10 ul / saat ve melodi DC gerilim Set akış hızı istikrarlı Taylor koni oluşturacak şekilde (~ çalışma mesafesi 10 mm 4 kV). Yüksek büyütme kamera ile sprey görüntüleyin. </li><li> Sprey istikrarlı bir kez, filmin yatırmak substrat üzerinde sprey CNC hareket başlatın. <ol><li> üniform kalınlıkta ya da doğrusal bir kalınlık profili geçer (1-D) tek boyutlu bir serpantin yol kullanın. </li><li> Kullanım uzun alt-tabaka genişliğinden bir mesafe ile geçer, bu, bir sonraki geçiş yapmadan önce tamamen alt-tabakanın dışına püskürtme hareket eder. sıvının akış hızı alt tabaka üzerinde her noktada aynı olduğu için yapılır. </li><li> LinuxCNC yazılımını kullanarak CNC kontrol edin. Örnek olarak, geçişler arasında ofset 0.5 mm, 20 mm / dakika ve geçiş 30 mm uzunluğunda hıza sahip bir serpantin yol için ilave G kodunu kullanır. Şekil 1 </&gt; Mutlaka serpantin yol ile yapılan bir film şematik bir görünüşünü göstermektedir ve koordinat sistemini tanımlar. </li></ol></li><li> 100, 125, 150 ve 175 ° C ve 200 ° C de 16 saat, 1 saat, her vakum altında ısıl işlem bir dizi biriken film Konu. Isıl işlem parametrelerinin bir optimizasyon bu makalenin Temsilcisi Sonuçlar bölümünde sunulmuştur. </li></ol> Fark Filmleri 4. Karakterizasyonu <ol><li> Kalıntı çözücü uzaklaştırılarak karakterizasyonu <ol><li> numune üzerinde her zaman aynı konuma ölçme, tavlama koşulları boyunca periyodik olarak bir iletim FTIR spektrumu atın. örnek sahnede substratın bir taslak çizmek ve bu çerçevesi içinde bir ölçü alınır her zaman yerleştirin. <ol><li> FTIR yazılımında, 7000 cm -1 500 cm gibi tarama aralığı &quot;Bench&quot; sekmesine ve türüne 64. tıklayınız olarak tarar sayısında &quot;Deney Setup&quot; ve türünü tıklatın -1. Tıklayarak enstrüman sadece örnek sahne ile bir arka plan tarama &quot;Take Background toplayın.&quot; Sonra sahnede örnek yerleştirin ve numunenin spektrumu çekmek için &quot;Toplama Sample&quot; tıklayın. </li></ol></li><li> çözücü kaldırılmasını izlemek için film matriks içinde organik absorpsiyon boyutunu tahmin. FTIR yazılımında, yaklaşık, ilgi spektral aralıkta 2,300-3,600 cm bir temel çizmek -1. Yazılım kullanıcı tarafından belirlenen taban göre numune, iletim spektrumunun altında alan hesaplar. </li></ol></li><li> Film Kalınlığı Ölçümü <ol><li> Koyu alt tabaka, genellikle hafif bir baskı ile bir tırmalama hareket meydana açık renkli film arasında görünür hale gelinceye kadar, ince nokta cımbız ile filmi Scratch. Sıkıştırılmış azot ile çizilmeye neden pislikleri temizleyin. <ol><li> Bir kişi profilometre kullanılarak battaniye filmlerin kalınlığını ölçmekfilmin alt-tabakaya, Basamak yüksekliğini belirlemek için. Aç &quot;Ölçüm Ayar,&quot; ve 0.1 mm / sn tarama hızı yazın ve 500 mikron tarama uzunluğu. </li><li> çizilmeye bulma ve çizilmeye sol-sağ yönde yönlendirilmiş öyle ki örnek dönen, sahnede örnek yerleştirin. çapraz kıllar sadece sıfırdan altında olacak şekilde sahne taşıyın ve tıklayarak yüzey taraması başlar &quot;Ölçüm.&quot; </li><li> Tarama bittikten sonra, hem film yüzeyinde böylece R ve M imleçler sürükleyin ve yüzey profili seviyeye &quot;Seviye İki Nokta Linear&quot; butonuna tıklayınız. sıfırdan altına bir imleci hareket ettirin, ve y-boyutunda her imleç konumu arasındaki mesafeyi bir yere yazın. Birden fazla yerde kalınlığını verilerde bir ortalama kalınlığa ve varyans elde edildi. </li></ol></li><li> 1 dik (tüm film boyunca profilometre tarayarak muntazam olmayan kalınlıkta filmlerin kalınlıkları profillerini belirlemek) Filmi yatırmak ve pozisyon vs film kalınlığı bir grafik oluşturmak için bu yüzey profili kullanmak için kullanılan -D hareket. <ol><li> film, genellikle 10-20 mm, genişliği daha büyük bir uygun tarama uzunluğu girerek tüm film boyunca tarama &quot;Ölçüm Kur.&quot; Filmin bir tarafında kaplanmamış alt tabaka üzerinde çapraz kıllar yerleştirin ve filmin diğer tarafında kaplanmamış alt tabaka üzerinde tarama işlemini tamamlamak için profilometre izin &quot;Ölçme,&quot; butonuna tıklayınız. Sağ bir .csv dosyası olarak yüzey profili ve ihracat üzerine tıklayın. </li><li> Alt tabaka güvenilir kalınlık verileri elde etmek için yeterli düz değilse, alternatif olarak, tüm film boyunca yaklaşık 1 çizikler arasındaki mm ve tarama profilometreyle alt tabakaya aşağı filmi kazıyın. Her sıfırdan de kalınlığı ve yatay konumunu bir yere yazın ve bu veriler noktalardan pozisyon vs film kalınlığının bir grafik oluşturmak. </li></ol></li></ol></li><li> bir beyaz ışık interferometresi ile yüzey pürüzlülüğü ölçün13. Bu durumda 5x objektif kullanılarak 414 mm x 414 mm oldu tüm ölçüm alanı üzerinde girişim saçakları oluşturmak için odak ve sahne eğimini ayarlayın. Verilerin ortalama pürüzlülüğü ve varyansının tespiti için üniforma kalınlığı filmin genelinde beş ölçüm alın. </li><li> 600-1,700 nm dalga aralığında bir Elipsometre 14 refraktif indeksi ölçün. Bu durumda, 60 ° geliş açısı kullanımı ve 35 um arasında bir noktada boyutuna ışın odak. <ol><li> doğal bir oksit tabakasının kalınlığı belirlemek için veri filtreleri, kaplanmamış alt tabaka üzerinde ölçüm yapılmalıdır. Üç katmanlı bir sistem olarak örnek modellemek için bu bilgileri kullanabilirsiniz: Si gofret + yerli oksit + tevdi filmi. verilere uygun Cauchy modeli kullanarak, ortalama kırılma endeksi ve varyansının tespiti için numune üzerinde farklı konumlarda sekiz ölçün. </li></ol></li></ol>

<ol><li>Novak, J., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Evolution+of+the+structure+and+properties+of+solution-based+Ge23Sb7S70+thin+films+during+heat+treatment%5BTitle%5D)+AND+%22Mat.+Res.+Bull%22%5BJournal%5D)">Evolution of the structure and properties of solution-based Ge23Sb7S70 thin films during heat treatment.</a> Mat. Res. Bull. 48, 1250-1255 (2013).</li>
<li>Musgraves, J. D., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Comparison+of+the+optical%2C+thermal+and+structural+properties+of+Ge-Sb-S+thin+films+deposited+using+thermal+evaporation+and+pulsed+laser+deposition+techniques%5BTitle%5D)+AND+%22Acta+Materiala%22%5BJournal%5D)">Comparison of the optical, thermal and structural properties of Ge-Sb-S thin films deposited using thermal evaporation and pulsed laser deposition techniques.</a> Acta Materiala. 59, 5032-5039 (2011).</li>
<li>Zha, Y., Waldmann, M., Arnold, C. B. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((A+review+on+solution+processing+of+chalcogenide+glasses+for+optical+components%5BTitle%5D)+AND+%22Opt.+Mat.+Exp%22%5BJournal%5D)">A review on solution processing of chalcogenide glasses for optical components.</a> Opt. Mat. Exp. 3 (9), 1259-1272 (2013).</li>
<li>Chiles, J., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Low-loss%2C+submicron+chalcogenide+integrated+photonics+with+chlorine+plasma+etching%5BTitle%5D)+AND+%22Appl.+Phys.+Lett%22%5BJournal%5D)">Low-loss, submicron chalcogenide integrated photonics with chlorine plasma etching.</a> Appl. Phys. Lett. 106, 11110(2015).</li>
<li>Hu, J., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Demonstration+of+chalcogenide+glass+racetrack+microresonators%5BTitle%5D)+AND+%22Opt.+Lett%22%5BJournal%5D)">Demonstration of chalcogenide glass racetrack microresonators.</a> Opt. Lett. 38 (8), 761-763 (2008).</li>
<li>Singh, V., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Mid-infrared+materials+and+devices+on+a+Si+platform+for+optical+sensing%5BTitle%5D)+AND+%22Sci.+Technol.+Adv.+Mater%22%5BJournal%5D)">Mid-infrared materials and devices on a Si platform for optical sensing.</a> Sci. Technol. Adv. Mater. 15, 014603(2014).</li>
<li>Novak, S., Johnston, D. E., Li, C., Deng, W., Richardson, K. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Deposition+of+Ge23Sb7S70+chalcogenide+glass+films+by+electrospray%5BTitle%5D)+AND+%22Thin+Solid+Films%22%5BJournal%5D)">Deposition of Ge23Sb7S70 chalcogenide glass films by electrospray.</a> Thin Solid Films. 588, 56-60 (2015).</li>
<li>Kovalenko, M. V., Schaller, R. D., Jarzab, D., Loi, M. A., Talapin, D. V. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Inorganically+functionalized+PbS-CdS+colloidal+nanocrystals%3A+integration+into+amorphous+chalcogenide+glass+and+luminescent+properties%5BTitle%5D)+AND+%22J.+Am.+Chem.+Soc%22%5BJournal%5D)">Inorganically functionalized PbS-CdS colloidal nanocrystals: integration into amorphous chalcogenide glass and luminescent properties.</a> J. Am. Chem. Soc. 134, 2457-2460 (2012).</li>
<li>Novak, S., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Incorporation+of+luminescent+CdSe%2FZnS+core-shell+quantum+dots+and+PbS+quantum+dots+into+solution-derived+chalcogenide+glass+films%5BTitle%5D)+AND+%22Opt.+Mat.+Exp%22%5BJournal%5D)">Incorporation of luminescent CdSe/ZnS core-shell quantum dots and PbS quantum dots into solution-derived chalcogenide glass films.</a> Opt. Mat. Exp. 3 (6), 729-738 (2013).</li>
<li>Lu, C., Almeida, J. M. P., Yao, N., Arnold, C. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Fabrication+of+uniformly+dispersed+nanoparticle-doped+chalcogenide+glass%5BTitle%5D)+AND+%22Appl.+Phys.+Lett%22%5BJournal%5D)">Fabrication of uniformly dispersed nanoparticle-doped chalcogenide glass.</a> Appl. Phys. Lett. 105, 261906(2014).</li>
<li>Zhao, X. -Y., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Enhancement+of+the+performance+of+organic+solar+cells+by+electrospray+deposition+with+optimal+solvent+system%5BTitle%5D)+AND+%22Sol.+Energ.+Mat.+Sol.+C%22%5BJournal%5D)">Enhancement of the performance of organic solar cells by electrospray deposition with optimal solvent system.</a> Sol. Energ. Mat. Sol. C. 121, 119-125 (2014).</li>
<li>Novak, S. <a target="_blank" href="http://scholar.google.com/scholar?hl=en&safe=off&q=%22Electrospray+deposition+of+chalcogenide+glass+films+for+gradient+refractive+index+and+quantum+dot+incorporation+%5B%5D%22">Electrospray deposition of chalcogenide glass films for gradient refractive index and quantum dot incorporation [dissertation]</a>. , Clemson University. (2015).</li>
<li>Tolansky, S. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((New+contributions+to+interferometry%2C+with+applications+to+crystal+studies%5BTitle%5D)+AND+%22J.+Sci.+Instrum%22%5BJournal%5D)">New contributions to interferometry, with applications to crystal studies.</a> J. Sci. Instrum. 22 (9), 161-167 (1945).</li>
<li>Archer, R. J. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Determination+of+the+properties+of+films+on+silicon+by+the+method+of+ellipsometry%5BTitle%5D)+AND+%22J.+Opt.+Soc.+Am%22%5BJournal%5D)">Determination of the properties of films on silicon by the method of ellipsometry.</a> J. Opt. Soc. Am. 52 (9), 970-977 (1962).</li>
<li>Hu, J., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Optical+loss+reduction+in+high-index-contrast+chalcogenide+glass+waveguides+via+thermal+reflow%5BTitle%5D)+AND+%22Opt.+Exp%22%5BJournal%5D)">Optical loss reduction in high-index-contrast chalcogenide glass waveguides via thermal reflow.</a> Opt. Exp. 18 (2), 1469-1478 (2010).</li>
<li>Hu, J., et al. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Exploration+of+waveguide+fabrications+from+thermally+evaporated+Ge-Sb-S+glass+films%5BTitle%5D)+AND+%22Opt.+Mater%22%5BJournal%5D)">Exploration of waveguide fabrications from thermally evaporated Ge-Sb-S glass films.</a> Opt. Mater. 30, 1560-1566 (2008).</li>
<li>Song, S., Dua, J., Arnold, C. B. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Influence+of+annealing+conditions+on+the+optical+and+structural+properties+of+spin-coated+As2S3+chalcogenide+glass+thin+films%5BTitle%5D)+AND+%22Opt.+Exp%22%5BJournal%5D)">Influence of annealing conditions on the optical and structural properties of spin-coated As2S3 chalcogenide glass thin films.</a> Opt. Exp. 18 (6), 5472-5480 (2010).</li>
<li>Deng, W., Klemic, J. F., Li, X., Reed, M. A., Gomez, A. <a target="_blank" href="http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed?term=((Increase+of+electrospray+throughput+using+multiplexed+microfabricated+sources+for+the+scalable+generation+of+monodisperse+droplets%5BTitle%5D)+AND+%22J.+Aerosol.+Sci%22%5BJournal%5D)">Increase of electrospray throughput using multiplexed microfabricated sources for the scalable generation of monodisperse droplets.</a> J. Aerosol. Sci. 37 (6), 696-714 (2006).</li>
</ol>

Yazarların açıklayacak hiçbir şeyi yoktur.

alt-tabaka için sprey nisbetle serpentin hareketi tevdi muntazam kalınlıkta bir film başlangıcında, film kalınlığı profili artmaktadır. Y-yönünde kat edilen mesafe (alt-tabaka girişte) sprey çapını aşması halinde, akış oranı alt-tabaka üzerine her nokta için yaklaşık olarak eşit olur, ve kalınlık düzgünlüğü elde edilir. muntazam kalınlıkta electrosprayed film, teorik film kalınlığı, T uygun bırakma parametreleri belirlemek için kullanılır. Bu, Tablo 1 &#39;de gösterilen kaplama parametreleri elde edilir...

Kalgojenit camları (ChGs) eşit kalınlıkta, battaniye film biriktirme 1-3 onların geniş kızılötesi iletim ve amenability için iyi bilinmektedir. Yonga üzerindeki dalga kılavuzları, rezonatörler ve diğer optik bileşenler daha sonra litografi teknikleri ile bu film oluşturulabilir, ve daha sonra takip eden bir polimer kaplama mikrofotonik cihazları 4-5 imal etmek için. Biz geliştirmek istiyoruz bir anahtar uygulama birçok organik türün optik imzaları 6 olan orta-IR, faaliyet gösteren küçük, ucuz, son derece hassas bir kimyasal algılama cihazları olduğunu. Mikrofotonik kimyasal sensörler gibi radyasyon (gamma ve alfa) maruz kalma olasılığı nükleer reaktörlerde, yakın gibi sert ortamlarda dağıtılabilir. Dolayısıyla Fark elektro malzemelerin optik özelliklerinin modifikasyonu geniş bir çalışma önemlidir ve başka bir yazıda rapor edilecektir. ancak son zamanlarda bir yöntem olduğu gibi bu makalede, ChGs ve elektrosprey film kaplama, sergilenenChGs 7 uygulanır. Bu toplu CHG hedeflerin termal buharlaştırma, ve spin kaplama, bir amin çözücü madde içinde çözündürülmüş CHG eden bir çözelti ile olduğu gibi çözelti-türevi teknikleri gibi buharla yerleştirme teknikleri,: Mevcut film biriktirme yöntemler iki sınıfa ayrılabilir. Genel olarak, örneğin, (çözelti türetilen filmler nedeniyle filmin matris 3 kalıntı çözücü varlığında ışık sinyalinin yüksek kaybına neden olma eğilimindedir, ancak buhar biriktirme fazla çözeltisi türetilmiş teknikleri benzersiz bir avantaj nanopartiküllerinin basit dahil olduğu, kuantum noktaları veya QD&#39;lerin) önce spin-kaplama için 8-10. Bununla birlikte, nanopartiküller ve çekiş spin kaplı filmler 10 gözlenmiştir. buhar biriktirme ve spin kaplama yaklaşımlar eşit kalınlıkta, battaniye filmlerin oluşmasına çok uygundur Buna ek olarak, bu, lokalize birikintilerle veya oluşturulmuş eşit olmayan kalınlıkta filmler de yardımcı olmazlar. Furthermore, spin-kaplama ölçek büyütme, çünkü run-off alt tabakadan dolayı yüksek malzeme atık zor olduğunu ve sürekli bir süreç 11 değil çünkü. Geçerli CHG film biriktirme teknikleri bazı zayıf taraflarını bertaraf etmek için, biz CHG malzemeleri sisteme elektrosprey uygulanmasını araştırdık. Bu işlemde, bir aerosol sprey, bir yüksek gerilim elektrik alanı 7 uygulanarak CHG çözeltisi oluşturulabilmektedir. Bu roll-to-roll işleme uyumlu sürekli bir işlem olduğu için, maddenin neredeyse% 100 kullanımı döndürmeli kaplama üzerinde bir avantaj olan, mümkündür. Ayrıca, bireysel CHG damlacıklarla tek QDS izolasyonu nedeniyle tahsil damlacıklar yüksek yüzey alanlı damlacıklarının hızlı kuruma kinetiği ile birlikte, Kulomb itme tarafından mekansal kendini dağıtma olmanın, daha iyi QD dağılımına yol açabileceği önerdi bu nedeniyle QDS hareketi en aza indirmekUçuş 7, 12. Son olarak, lokalize bırakma GRIN kaplamalar imal etmek için kullanılabilir bir avantaj ise damlacıklar viskozitesi artar. elektropüskürtmeyle ile CHG hem QD Kuruluş ve GRIN imalat keşifleri şu anda gelecek bir makalede olarak sunulmak üzere devam etmektedir. Bu yayında, elektrosprey esnekliği lokalize yeminli ve düzgün kalınlığı filmleri hem gösterilmiştir. Düzlemsel fotonik uygulamalar için film uygunluğunun saptanması için, iletim Fourier dönüşümü kızıl ötesi (FTIR) spektroskopisi, yüzey kalitesi, kalınlığı ve kırılma indisi ölçümleri kullanılır dönüşümü.

<table><tbody><tr><td>Etanolamin</td><td>Sigma-Aldrich</td><td>411000-100ML</td>% <td>99,5 saflık</td></tr><tr><td>Si gofret</td><td>Üniversitesi Gofret</td><td>1708</td><td>Çift taraflı cilalı, katkısız</td></tr><tr><td>Şırınga</td><td>Sigma-Aldrich</td><td>20788</td><td>Hamilton 700 serisi, 50 mikrolitre hacimli</td></tr><tr><td>Şırınga pompası</td><td>Chemyx</td><td>Nanojet</td><td></td></tr><tr><td>CNC freze makinesi</td><td>MIB aletleri</td><td>CNC 3020</td><td></td></tr><tr><td>Güç kaynağı</td><td>Acopian</td><td>P015HP4</td><td>AC-DC güç kaynağı, 15 kV, 4 mA</td></tr></tbody></table>

düzgün kalınlığı ge elektro biriktirme<sub&gt; 23</sub&gt; sb<sub&gt; 7</sub&gt; s<sub&gt; 70</sub&gt; ve de<sub&gt; 40</sub&gt; s<sub&gt; 60</sub&gt; chalcogenide cam filmleri

Electrospray Deposition of Uniform Thickness Ge23Sb7S70 and As40S60 Chalcogenide Glass Films

Çözüm tabanlı elektrosprey film kaplama, sürekli, roll-to-roll işleme ile uyumludur, kalkojenit gözlük uygulanır. İki kalkojenit bileşimleri gösterilmiştir: Her iki düzlemsel orta-kızılötesi (orta IR) mikrofotonik cihazlar için yoğun çalışmalar yapılmıştır Ge 23 Sb 7 S 70 ve 40 gibi S 60. Bu yaklaşımda, tek tip kalınlıkta filmler bilgisayar nümerik kontrollü (CNC) bir hareket kullanılarak imal edilmiştir. Kalkojenit camı (CHG) yılan gibi kıvrımlı bir yol boyunca tek bir meme ile alt-tabaka üzerine yazılmıştır. Filmler kalan çözücüyü çıkarmak ve filmleri yoğunlaştırmak için vakum altında 100 ° C ile 200 ° C arasında ısıl işlem bir dizi tabi tutuldu. iletim Fourier göre kızıl ötesi (FTIR) spektroskopi ve pürüzlülük ölçüm yüzey, her iki bileşim de orta-IR bölgesinde faaliyet düzlemsel cihazların imalatı için uygun olduğu bulunmuştur. Kalıntı solvenKaldırma Ge 23 Sb 7 S 70 ile karşılaştırıldığında zamanda 40 S 60 film için çok daha hızlı olduğu bulunmuştur. elektrosprey avantajları göre bir gradyan refraktif indeks (GRIN) Katkı İR şeffaf kaplamanın doğrudan baskı Bu çalışmada iki bileşimlerin kırılma endeksi arasındaki fark göz önüne alındığında, öngörülmektedir.

Tek meme Elektrospreyli aynı kalınlıkta filmler elde etmek için kullanılan kavisli bir yolda bir şematik temsili Şekil 2&#39;de gösterilmektedir. Gibi, 3 sprey serpentin hareketi ile yapılan kısmen vulkanize 60 S 40 olarak filmin bir örneği iletim FTIR spektrumu göstermektedir iyi saf etanolamin çözücü spektrumu olarak. Şekil 3&#39;te gösterildiği gibi FTIR spektrumları elde edilebilir bilgilerden, ...

Düzgün kalınlıkta çözeltiden türetilmiş kalkojenit cam film biriktirme yöntemi, tek nozullu bir elektrospreyin bilgisayarla sayısal kontrollü hareketi kullanılarak gösterilmiştir.

Düzgün kalınlığı Ge Elektro Biriktirme<sub&gt; 23</sub&gt; Sb<sub&gt; 7</sub&gt; S<sub&gt; 70</sub&gt; Ve de<sub&gt; 40</sub&gt; S<sub&gt; 60</sub&gt; Chalcogenide Cam Filmleri

Solution-based electrospray film deposition, which is compatible with continuous, roll-to-roll processing, is applied to chalcogenide glasses. Two ...

Bu araştırmanın genel amacı, orta kızılötesi fotonik uygulamalar için kalkojenid camların elektrosprey film biriktirme yöntemini geliştirmek ve bu biriktirme yönteminin benzersiz esnekliğini keşfetmektir. Bu tekniğin temel avantajları, mühendislik ürünü bir film kalınlığı profili oluşturma yeteneği ile malzemenin lokalize biriktirilmesine olanak sağlamasıdır. Bu durum, mekansal olarak değişen bir bileşim gradyanı oluşturmayı mümkün kılar.Bu avantajları nedeniyle elektrosprey, daha esnek cihaz tasarımına olanak tanıyarak çip tabanlı orta kızılötesi kimyasal algılama cihazları alanını geliştirebilir. Biriktirme işlemini kurmak için, önce iğnenin ucunu kalkojenid cama yerleştirin. Kabarcık oluşumunu önlemek için şırınga pompasını saatte 150 microliters gibi düşük bir hızda Çekme Moduna ayarlayarak çözeltiyi şırıngaya çekin.Manuel Hareket Modu'ndaki bilgisayarlı sayısal kontrolü kullanarak, nozul ucu ile silikon altlığın üst kısmı arasındaki çalışma mesafesini ayarlayın. Silikon altlığı, güç kaynağı toprak dönüşüne bağlı bir alüminyum plaka üzerine yerleştirin. Ardından, nozulun dış yüzeyinin küçük bir sıvı hacmiyle kaplanmasını sağlamak için şırınga pompasını kullanarak şırıngadan bir

electrospray-deposition-uniform-thickness-ge23sb7s70-as40s60

Research

JoVE Journal

Engineering

Mühendislik

AC elektrik hareket gibi, mikro ve nano-ölçek daha bir gerçeklik haline geliyor sağlayan teknolojiler sıvıları ve asılı partiküller kurgulama geliştirmeye devam ediyoruz. Burada, bu cihazlar ve deneysel gözlemler nasıl yorumlamak için nasıl imal, AC elektrik hareket arkasındaki fizik tartışmak.

AC Elektrokinetik Olaylar Mikroelektrod Yapıları tarafından oluşturuldu

Çeşitli işlemler karmaşık oksit ince filmlerin epitaksiyal büyümesi için atomik tanımlı şablonlar hazırlamak özetlenmiştir. Tek kristal SrTiO 3 (001) ve DyScO 3 kimyasal işlemler (110), alt-tabakalar atomik olarak pürüzsüz, tek sonlu yüzeyler elde etmek için yapıldı. Ca 2 Nb 3 O 10 - nanosheets keyfi yüzeylerde atomik tanımlı şablonlar oluşturmak için kullanıldı.

Karmaşık Oksit İnce Filmlerin Epitaksiyel Büyüme için atomik Tanımlı Şablonlar

Kalay sülfür (SnS), Dünya'da bol miktarda bulunan, toksik olmayan güneş pilleri için aday bir malzemedir. Burada, %4,36 sertifikalı güç dönüştürme verimliliği sağlayan atomik katman biriktirme ve %3,88 sağlayan termal buharlaşma kullanan SnS güneş pillerinin üretim prosedürünü gösteriyoruz.

Termal Buharlaşma ve Atomik katman Biriktirme tarafından Record-verimlilik SNS Güneş Pilleri yapma

Güneş pillerinde plazmonik metal nanoyapıları tanıtmak için uygun bir transfer baskı tabanlı metodoloji açıklanmaktadır.  Nanopillar poli (dimetilsiloksan) damgaları kullanılarak, Ag bazlı sıralı bir nanodisk dizisi, standart hidrojene mikrokristalin Si güneş pilleri ile entegre edildi ve bu da plazmonik ışık yakalama nedeniyle cihaz performanslarının iyileştirilmesine yol açtı.

Transfer Baskı ile Hidrojene Mikrokristal Silikon Güneş Pilleri Işık Yakalama Gümüş Nanoyapıların Entegrasyonu

Burada sentezlenmesi için bir protokol mevcut Zn 1-x Mg x O / Cu bakır oksit Zn 1-x Mg x O atmosferik basınç mekansal atomik tabaka biriktirme (AP-sald) üzerinden düşük sıcaklıkta açık havada 2 O heterokavşaklar. Böyle yüksek kaliteli konformal metal oksitler bu ucuz ve ölçeklenebilir bir yöntemle plastik gibi metal yüzeylere çeşitli yetiştirilebilir.

Cu geliştirilmiş Heterojonksiyonlar Kalite<sub&gt; 2</sub&gt; Depolar Atmosfer Basıncı Mekansal Atom Katman Optimizasyonu ile Güneş Pilleri O tabanlı<br /&gt; Zn<sub&gt; 1-x</sub&gt; Mg<sub&gt; X</sub&gt; O

Havada daldırma kaplama ve ısıl işlemler kullanılarak çözelti kimyası ile silikon üzerinde piezoelektrik makro gözenekli epitaksiyel kuvars filmlerinin hazırlanması için bir protokol sunulmuştur.

Kimyasal Çözüm Biriktirme tarafından Silisyum üzerinde Makrogözenekli Epitaksiyel Kuvars Filmlerin Hazırlanması

Biz ultra-ince renk filmleri optik kaplamalar için geliştirilmiş özellikleri ile imalatı için detaylı bir yöntem mevcut. Eğik açısı ifade tekniği, bir elektron ışını Evaporatör geliştirilmiş renk ayar ve saflık sağlar. Ge ve Au fabrikasyon Filmler Si yüzeyler üzerinde yansıma ölçümleri ve renk bilgi dönüşüm tarafından analiz edildi.

Eğik açısı ifade kullanarak medya yüksek emici ile Ultra ince renk filmleri imalatı

Burada, katı taşıyıcı sayısında elektrolit kullanarak denetlemek için bir iletişim kuralı mevcut.

Elektrik alanı kontrol elektronik elektrolit çoğunluğuna tarafından WS2 Nanodevices durumlarda

Bu yazı, ince film gümüş elektrotlar üstüne belirlenmiş kapsama gümüş klorür (AgCl) pürüzsüz ve iyi kontrollü filmler oluşturmak için bir yöntem sunmayı amaçlamaktadır.

İnce Kontrollü Tek Katmanlı Gümüş Klorürlü İnce Film Gümüş/Gümüş Klorür Elektrotlarının İmalatı

Bu çalışma, gelişmiş verimlilik için ince emici kadmiyum selenyum tellürit/kadmiyum telluride fotovoltaik cihazların tam üretim sürecini açıklar. Süreç, küçük alan araştırma cihazlarının ve büyük ölçekli modüllerin imalatından ölçeklenebilir yakın alan süblimasyon birikimi için otomatik bir sıra içi vakum sistemi kullanır.

Yakın Alan Süblimasyon-Gelişmiş Kısa Devre Akım Yoğunluğu ve Fotolüminesans için Ultra İnce CdSeTe/CdTe Güneş Pilleri

El yazması, Bi2Te3 ve Sb2Te3 termoelektrik ince filmlerin cam yüzeyler üzerine radyo frekansı magnetron püskürtmesi için bir protokolü açıklar ve bu, daha fazla geliştirme potansiyeli olan geniş bir uygulama yelpazesi sağlayan güvenilir bir biriktirme yöntemini temsil eder.

Radyo Frekanslı Magnetron Püskürtme Tekniği ile Bi2Te3 ve Sb2Te3 Termoelektrik İnce Filmlerin İmalatı

Öğrenin, kalkojenit cam filmlerin elektrospray yöntemiyle orta kızılötesi fotonik uygulamalar için nasıl biriktirildiğini. Bu teknik, yerel biriktirme ve kalınlık profili kontrolü sağlar.

Düzgün kalınlığı Ge Elektro Biriktirme

Daha fazla video keşfet