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Epitaxial Nanostructured α-Quartz Films on Silicon
 
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Epitaxial Nanostructured α-Quartz Films on Silicon: From the Material to New Devices

Article DOI: 10.3791/61766-v 11:34 min October 6th, 2020
October 6th, 2020

Kapitel

Summary

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Ces travaux présentent un protocole détaillé pour la microfabrication du porte-à-faux nanostructuré de α quartz sur un substrat technologique silicon-on-isolateur (SOI) à partir de la croissance épitaxique du film de quartz avec la méthode de revêtement de trempette, puis la nanostructuration du film mince par lithographie nanoimprint.

Tags

Ingénierie Numéro 164 lithographie nanoimprint (NIL) nanostructures α-quartz substrat SOI piézoélectrique microfabrication lithographie gravure porte-à-faux MEMS
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