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Die Quantifizierung von Wasserstoffkonzentrationen in Oberflächen- und Grenzflächenschichten und Schüttgüter durch Tiefenprofilierung mit Kernreaktionsanalyse
Growth and Electrostatic/chemical Properties of Metal/LaAlO3/SrTiO3 Heterostructures
Journal (Engineering)
Growth and Electrostatic/chemical Properties of Metal/LaAlO3/SrTiO3 Heterostructures
In Depth Analyses of LEDs by a Combination of X-ray Computed Tomography (CT) and Light Microscopy (LM) Correlated with Scanning Electron Microscopy (SEM)
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Die Quantifizierung von Wasserstoffkonzentrationen in Oberflächen- und Grenzflächenschichten und Schüttgüter durch Tiefenprofilierung mit Kernreaktionsanalyse

Article DOI: 10.3791/53452-v • 14:11 min • March 29th, 2016
March 29th, 2016 •
1, 1, 1, 1, 2
1Institute of Industrial Science, The University of Tokyo, 2Micro Analysis Laboratory, Tandem accelerator, The University Museum, The University of Tokyo

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Resumen
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Wir veranschaulichen die Anwendung von H 1 (15 N, αγ) 12 C resonanten Kernreaktionsanalyse (NRA) , um quantitativ die Dichte der Wasserstoffatome an der Oberfläche, im Volumen und an einer Grenzflächenschicht aus festen Materialien zu bewerten. Die oberflächennahe Wasserstofftiefenprofilierung einer Pd (110) -Einkristall und von SiO 2 / Si (100) stapelt beschrieben.

Tags

Technik Heft 109 Wasserstoff Quantifizierung Tiefenprofilierung Oberfläche Wasserstoff bulk Wasserstoff Schnittstelle Wasserstoff Analyse Kernreaktionsanalyse Ionenstrahl
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