Method Article

Una piattaforma Microfluidic per l'isolamento Single-cell high-throughput e cultura

DOI:

10.3791/54105

June 16th, 2016

In This Article

Summary

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Qui, presentiamo un protocollo per l'isolamento e la coltura di singole cellule con una piattaforma microfluidica, che utilizza un nuovo concetto di progettazione di micropozzetti per consentire l'isolamento di singole cellule ad alta efficienza e la coltura clonale a lungo termine.

Abstract

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Studiare l'eterogeneità delle singole cellule è fondamentale per molte questioni biologiche, ma è tecnicamente difficile. Pertanto, c'è bisogno di un metodo semplice, ma ad alto rendimento, per eseguire esperimenti di coltura di singole cellule. Qui, riportiamo una strategia basata su chip microfluidico per l'isolamento di singole cellule ad alta efficienza (~77%) e dimostriamo la sua capacità di eseguire colture di singole cellule a lungo termine (fino a 7 giorni) e analisi di eterogeneità cellulare utilizzando il saggio clonogenico. Queste applicazioni sono state dimostrate con cellule staminali neurali di topo KT98 e cellule tumorali umane A549 e MDA-MB-435. L'elevata efficienza di isolamento di una singola cellula e la capacità di coltura a lungo termine si ottengono utilizzando micropozzetti di diverse dimensioni sulla parte superiore e inferiore del canale microfluidico. L'array di micropozzetti piccoli è progettato per isolare con precisione singole cellule, mentre l'array di micropozzetti grande viene utilizzato per la coltura clonale di singole cellule nel chip microfluidico. Questa piattaforma microfluidica costituisce un approccio interessante per le applicazioni di coltura di singole cellule, grazie alla sua flessibilità di spazi di coltura cellulare regolabili per diverse strategie di coltura, senza diminuire l'efficienza di isolamento.

Introduction

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Attualmente posizionando le celle singole singolarmente in uno spazio culturale è comunemente raggiunto utilizzando la diluizione limitando o cella a fluorescenza-attivato (FACS). Per molti laboratori, diluizione limite è un metodo conveniente, in quanto richiede solo una pipetta e piastre di coltura di tessuto, che sono prontamente disponibili. In questo caso, una sospensione cellulare viene diluito serialmente ad una densità cellulare appropriata, e quindi posto in pozzetti di coltura utilizzando una pipetta manuale. Queste cellule singoli compartimenti sono poi utilizzati per l'analisi delle cellule, come ad esempio lo screening eterogeneità genetica 1 e colonia di formazione 2. Tuttavia, questo metodo è basso throughput e intensità di lavoro, senza utilizzare un braccio robotico per l'assistenza, perché la natura distribuzione di Poisson del metodo di diluizione limitante limita eventi monocellulari ad una probabilità massima del 37% 3. macchine FACS con un braccio robotico integrato in grado di superare la limitazione della distribuzione di Poisson con precisione placing una singola cella in una cultura ben alla volta 4. Tuttavia, l'elevato sforzo di taglio meccanico (quindi abbassato vitalità cellulare) 5 ed acquisto della macchina e dei costi operativi hanno limitato il suo utilizzo in molti laboratori.

Per superare le limitazioni di cui sopra, i dispositivi microscala sono stati sviluppati per caricare altamente efficiente singole cellule nei pozzetti 6. Tuttavia, i pozzetti non forniscono spazio sufficiente per le cellule caricate a proliferare, a causa della necessità di rendere le dimensioni di ciascun pozzetto vicino a quello di una singola cella di massimizzare il carico probabilità cella singola. Come test di cultura sono necessari in molte applicazioni basati su celle (ad esempio, test clonogenica 7), pozzetti più grandi (90-650 micron di diametro o in lunghezza del lato) sono stati utilizzati per consentire colture cellulari estesi. Tuttavia, come il metodo di diluizione limitante, possiedono anche bassi singole efficienze di carico delle cellule, che vanno da 10 -. 30% 8, 9

In precedenza, abbiamo sviluppato una piattaforma microfluidica high-throughput per isolare singole cellule nei singoli pozzetti e dimostrare la sua applicazione nel saggio clonogenica delle cellule isolate. 10 Il dispositivo è stato realizzato con poli-dimetilsiloxano (PDMS), e comprende due serie di array di pozzetti con differenti formati micropozzetti, che può sostanzialmente migliorare l'efficienza nel caricare una singola cella in un micropozzetto cui dimensione è significativamente più grande della cella. In particolare, questo concetto "dual-well" permette la dimensione dell'area culturale di regolare in modo flessibile senza compromettere l'efficienza di cattura cella singola, rendendo semplice per regolare la progettazione del dispositivo per soddisfare diversi tipi di cellule e applicazioni. Questo metodo ad alta efficienza dovrebbe essere utile per esperimenti di coltura cellulare a lungo termine per gli studi eterogeneità delle cellule e monoclonale stabilimento linea cellulare.

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Protocol

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Nota: I disegni fotomaschere per la nostra fabbricazione di dispositivi microfluidica sono stati elaborati utilizzando un software di progettazione assistita da computer (CAD). I disegni sono stati poi utilizzati per fabbricare fotomaschere Chrome con un servizio commerciale. I dispositivi PDMS sono state effettuate utilizzando tecniche di litografia morbide. 11

1. Realizzazione di Maestro Stampi per litografia

  1. Prima che il processo di fotolitografia 12, utilizzare i wafer di silicio da 4 pollici come substrato e disidratare i wafer in un forno convenzionale a 120 ° C per 10 min.
  2. Pulire i wafer di silicio disidratati mediante trattamento al plasma di ossigeno a 100 watt per 30 secondi in un pulitore plasma.
  3. Preriscaldare due piastre a 65 ° C e 95 ° C, rispettivamente, per il seguente processo di cottura.
  4. Cappotto 5 g di photoresist negativo (PR) sui wafer di silicio pulite da un dispositivo a induzione di spin; centrifuga a 1200 rpm (SU-8 50) per 30 sec per produrre lo strato di microcanali.
  5. Posizionare il PRrivestito wafer su una piastra preriscaldato a 65 ° C per 12 min e trasferirlo in un'altra piastra preriscaldato a 95 ° C per 33 min (per 100 micron di spessore modelli) per eseguire un processo di cottura morbida.
  6. Dopo la cottura, posizionare il wafer di silicio rivestito PR sul supporto di una maschera allineatore semi-automatico e allinearlo a una trasparenza fotomaschera 25.400 dpi di risoluzione.
  7. Esporre il rivestito PR wafer di silicio a luce UV (365 nm) ad una dose di 500 mJ / cm 2 per creare il modello PR sul wafer di silicio.
  8. Rimuovere il wafer dal allineatore e posizionarlo su una piastra per la post-cottura a 95 ° C per 12 min.
  9. Mettere a bagno i wafer di SU-8 sviluppatore della soluzione (glicole propilenico monometiletere acetato, PGMEA) per lavare via PR non reticolato per 12 min e asciugare delicatamente con azoto per esporre i segni di allineamento.
  10. Ancora una volta, cappotto 5 g di fotoresist negativo sui wafer da un coater centrifuga; centrifuga a 700 rpm (SU-8 100) per 30 sec e 1.200 rpm (SU-8 10) per 30 sec per 300 &# 181; m modello di spessore e 27 micron modello di spessore, rispettivamente, per rendere lo strato micropozzetto.
  11. Posizionare il wafer PR rivestito su una piastra riscaldante a 65 ° C per 4 min ed a 95 ° C per 8 min (per 27 micron strato profondo cattura-well); ed a 65 ° C per 40 minuti ea 95 ° C per 110 min (per 300 micron strato profondo cultura-well).
  12. Dopo raffreddamento, posizionare il wafer di silicio rivestito PR sul allineatore maschera dotata di luce UV.
  13. Esporre il rivestito PR wafer di silicio alla luce UV (365 nm) ad una dose di 250 mJ / cm 2 (per 27 micron di spessore pattern) e 700 mJ / cm 2 (per 300 micron di spessore pattern).
  14. Cuocere i wafer a 95 ° C per 5 min (27 micron di spessore pattern) e 30 min (300 micron di spessore pattern), rispettivamente.
  15. Lavare il PR non reticolato dal PGMEA per 6 min (27 micron di spessore pattern) e 25 min (300 micron di spessore pattern), rispettivamente, e poi asciugare con azoto.
  16. Misurare l'altezza del modello dispone suil wafer con un profilometro scansione laser posizionando il wafer sul xy fase di un profilometro laser a scansione.
    1. Regolare il piano focale per mostrare chiaramente il modello presenta sul wafer utilizzando la modalità di osservazione "telecamera" sotto una lente obiettivo 20X.
    2. Cambiare la modalità di osservazione da "telecamera" a "vista laser", e impostare le posizioni superiori ed inferiori delle caratteristiche.
    3. Impostare la modalità di misurazione, zona, la qualità, e Z-passo fino a trasparente (in alto), 1 linea (1.024 x 1), ad alta precisione e 0,5 micron, rispettivamente, e quindi premere il fondo di partenza per iniziare la misurazione.

2. Preparazione di dispositivi PDMS per l'isolamento Single-cell

  1. Prima di PDMS casting, silanizzare gli stampi di perfezionamento con triclorosilano per creare una superficie idrofobica, che rende più facile per staccare il PDMS repliche dagli stampi maestri.
    1. Mettere gli stampi master e una barca ponderazione contenente200 ml di triclorosilano in essiccatore e applicare il vuoto (-85 kPa) per 15 min.
    2. Arrestare il vuoto e poi lasciare gli stampi di master in un essiccatore per silanizzare gli stampi maestri a temperatura ambiente per almeno 1 ora.
    3. Rimuovere gli stampi maestri dal essiccatore e posizionare ogni stampo master in un 10 centimetri Petri.
  2. Mescolare un totale di 17,6 g di polimero kit PDMS contenente una base e un agente indurente in un rapporto di 10: 1, e quindi versare il PDMS sullo stampo master nel piatto Petri.
  3. Posizionare la piastra di Petri in un essiccatore e applicare il vuoto (-85 kPa) per 1 ora per rimuovere le bolle d'aria nei PDMS.
  4. Rimuovere la piastra di Petri dal essiccatore e metterla in un forno tradizionale a 65 ° C per 3-6 ore per curare il PDMS.
  5. Rimuovere le repliche PDMS indurito dagli stampi master e perforare due fori come un ingresso e una uscita alle due estremità del microcanale sull'array PDMS replica capture-bene da un perforatore con interno-diametro di 0.75 mm per il canale fluidica (Figura 2A).
  6. Utilizzare nastro per pulire la superficie delle repliche PDMS, e quindi posizionare le repliche PDMS un detersivo plasma per breve trattamento al plasma di ossigeno (100 watt per 14 sec).
  7. Rimuovere le repliche PDMS dalla macchina plasma di ossigeno.
  8. Allineare un top (contenente i pozzetti di cattura) e un PDMS fondo (che contengono i pozzetti di coltura) replica a mano allo stereomicroscopio e metterli in contatto.
  9. Posizionare i PDMS repliche allineate in un forno a 65 ° C per 24 ore per ottenere l'unione permanente tra le PDMS repliche per formare il dispositivo finale.
  10. Bagnare il dispositivo PDMS in un deionizzata (DI) -acqua contenitore riempito e posizionare il contenitore in un essiccatore sotto vuoto (-85 kPa) per 15 minuti per eliminare l'aria dalla microcanali del dispositivo PDMS.
  11. Posizionare il dispositivo PDMS piena d'acqua DI in una cappa coltura tissutale e utilizzando luce UV (lunghezza d'onda: 254 nm) per sterilizzare il dispositivo per 30 min.
  12. Sostituire l'acqua deionizzata nel dispositivo PDMS con un siero albumina bovina 5% (BSA) in soluzione PBS 1x e incubare a 37 ° C per 30 minuti per impedire alle cellule di attaccarsi alla superficie PDMS.
    Nota: Il rivestimento BSA è essenziale per migliorare l'efficienza di trasferimento di cellule isolate dalla cattura pozzetti per coltura pozzetti.
  13. Sostituire la soluzione BSA 5% nel dispositivo PDMS con una soluzione di PBS 1x sterilizzata.

3. Preparazione di cella singola sospensione

  1. Culture Neural staminali KT98 cella e A549 cellule di carcinoma umano MDA-MB-435 che in piastra di Petri in coltura cellulare convenzionale incubatore (37 ° C, 5% di CO 2, e 95% di umidità) per preparare le cellule per l'esperimento PDMS cella periferica .
  2. Rimuovere e scartare il terreno di coltura esaurito (DMEM medio basale in dotazione con il 10% di siero fetale bovino e 1% di antibiotici) dal piatto di coltura con cellule coltivate a 70 - 80% di confluenza.
  3. Lavare delicatamente le cellule con sterilizzati PBS per tre volte.
  4. Rimuovere e scartare il PBS e aggiungere 2 ml di una miscela di enzimi proteolitici ricombinante con, collagenolitica, e le attività di DNasi (si veda l'elenco dei materiali per le informazioni dettagliate).
  5. Incubare il piatto cultura a temperatura ambiente per 5 minuti, quindi toccare il piatto cultura per facilitare il distacco delle cellule.
  6. Aggiungere 4 ml di PBS sterile per disperdere le cellule, e poi trasferire la sospensione cellulare in un tubo da 15 ml.
  7. Centrifugare la provetta a 300 xg per 3 min e rimuovere il surnatante.
  8. Risospendere delicatamente il pellet di cellule in 1 ml sterilizzati PBS e contare il numero di cellulare dal vivo con il metodo standard di esclusione Trypan Blue 13.
    Nota: questo passaggio risospensione è fondamentale per la preparazione di ben dissociato-cella singola sospensione per migliorare l'efficienza di isolamento cella singola.

4. Isolamento Single-cell e cultura clonale

  1. Carico 50 ml di sospensione cellulare ad una concentrazione di 2,2 - 2.5 x10 6 cellule / ml nel microcanali del dispositivo PDMS tramite foro di uscita del dispositivo con una pipetta palmare.
    Nota: Il caricamento della pipetta sospensione cellulare deve essere fermato e tenuto alla prima posizione di arresto per evitare l'introduzione di bolle d'aria nel microcanali.
  2. Caricare altri 50 ml di sospensione cellulare attraverso il foro di ingresso per riempire in modo uniforme l'intero microcanali con cellule.
  3. Sigillare il foro di uscita con un tappo (a lunghezza 3 mm, 1 mm di diametro nylon taglio lenza) per evitare il flusso indotto dalla pressione idrostatica dalle goccioline di fori di ingresso e di uscita.
    Nota: le spine erano UV sterilizzato all'interno di una cappa coltura tissutale prima dell'uso.
  4. Riempire una siringa da 1 ml sterile con terreno di coltura, espellere le bolle d'aria da esso, e impostarlo su una pompa a siringa.
  5. Collegare il supporto caricato siringa al foro di ingresso del dispositivo PDMS tramite un ago G smussata 23 ed una poli-tetrafluoroethene tubazione (PTFE).
  6. Togliere la spina dalla presa di corrente e tutto il foro diow un intervallo di tempo di 2 minuti per consentire alle cellule di stabilirsi nella cella singola cattura-pozzi di forza gravitazionale.
  7. Lavare via le cellule non catturate con 300 ml di terreno di coltura ad una portata di 600 ml / min spinto dalla pompa a siringa.
  8. Attendere 2 minuti per stabilizzare il dispositivo, e sigillare i fori di ingresso e di uscita con spine per formare un sistema di coltura chiuso.
  9. Capovolgere il dispositivo a mano per trasferire i catturati singole cellule ai pozzetti di coltura.
  10. Posizionare il dispositivo PDMS in un piatto di coltura di tessuti da 100 mm, e aggiungere 10 ml di PBS sterile intorno al dispositivo per evitare l'evaporazione cultura media dal microcanali.
  11. Spostare il piatto cultura di un incubatore tradizionale coltura cellulare (37 ° C, 5% di CO 2, e 95% di umidità) per la cultura clonale delle singole cellule.

5. terreno di coltura Replenishment

  1. Dopo 1 d della cultura, sostituire il terreno di coltura nel dispositivo PDMS con terreno fresco per migliorare pr celluleoliferation.
  2. Inserire due gocce di mezzo di coltura sulla parte superiore del dispositivo PDMS vicino alle aree fori di ingresso e di uscita per evitare l'introduzione di bolle d'aria nel microcanale durante l'esecuzione della fase successiva.
  3. Punch due fori dalla parte superiore del dispositivo PDMS prossimità delle due estremità del microcanale come un ingresso e un'uscita per il microcanali.
    Nota: non perforare attraverso l'intero due strati del dispositivo PDMS; invece, proprio pugno attraverso lo strato superiore delle PDMS.
  4. Collegare una siringa di plastica da 1 ml contenente mezzo fresco per l'ingresso attraverso un ago G smussata 23 e tubi in PTFE.
  5. Portata media 120 microlitri fresca nel dispositivo per 5 minuti per sostituire il vecchio mezzo.
  6. Inserire due tappi per sigillare entrata e uscita fori, e restituire il dispositivo per l'incubatore di coltura cellulare.
  7. Aggiornare il terreno di coltura ogni 2 d durante il periodo di coltura rimuovendo le spine di tenuta, seguito ripetendo i punti 5.4 al 5.5.

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Results

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La piattaforma microfluidica per l'isolamento e la coltura singola cella comprende un microcanale (200 micron di altezza) con due serie di matrici di micropozzetti (Figura 2A). Le due serie di array di pozzetti sono definiti come la cattura-bene (25 micron di diametro e 27 micron di profondità) e la cultura-bene (285 micron di diametro e 300 micron di profondità) per l'isolamento a cella singola e cultura, rispettivamente, e ogni cattura-well è posizionata al centro di u...

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Discussion

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Sistemi di dispositivi di pozzetti a base di 6,14 sono stati utilizzati per la manipolazione a cella singola e di analisi, come ad esempio su larga scala singola cellula intrappolando 6 e la proliferazione delle cellule staminali ematopoietiche singolo 15. Sebbene dimensioni ben, il numero e la forma può essere regolata per applicazioni specifiche, l'efficienza di isolamento singola cella è sempre compromessa quando si aumenta la dimensione del pozzo. 9,15

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Disclosures

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Gli autori dichiarano di non avere interessi finanziari concorrenti.

Acknowledgements

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Questo lavoro è stato supportato da una sovvenzione del National Health Research Institutes (03-A1 BNMP11-014).

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Materials

List of materials used in this article
NameCompanyCatalog NumberComments
Software AutoCADAutodeskAutoCAD LT 2011Codice 057C1-74A111-1001
Wafer di silicone SPE0039Eltech corperation
YEONG-SHIN companyovp45
Pulitore al plasmaNordsonAP-300Sistema di trattamento al plasma da banco
SU-8 50 fotoresist negativoMicroChemY131269
SU-8 100 fotoresist negativoMicroChemY131273
Spin coaterSynrex Co., Ltd.SC-HMI 2 "~ 6"
Piastra riscaldanteYOTEC aziendaYS-300S
Msak allineatoreDeya Optronic CO.A1K-5-MDA
SU-8 sviluppatoreGrand Chemical CompaniesGP5002-000000-72GCGlicole propilenico monometil etere acetato
Profilometro laser a scansioneKEYENCEVK-X 100
TrichlorosilaneGelest, IncSIT8174.0Tridecafluoro-1,1,2,2-tetraidroottil. Rischioso. Corrosivo per le vie respiratorie, reagisce violentemente con l'acqua.
EssiccatoreBel-Art ProductsF42020-0000Essiccatore sottovuoto salvaspazio 190  mm base bianca
Kit polidimetilsilossano (PDMS)Dow corningSylgard 184
Harris Uni-Core perforatoreTed Pella Inc.15072con diametro interno di 0,75 mm
Nastro rimovibile3M CompanyScotch Nastro rimovibile 811
StereomicroscopioLeica MicrosystemsLeica E24
Albumina sierica bovina (BSA)Tecnologia BersingALB001.500
DMEM terreno basaleGibco12800-017
Siero fetale bovinoThermo HycloneSH30071.03HI
AntibioticiBiowestL0014-100Glutammina-Penicillina-Streptomicina
Miscela enzimatica ricombinanteTecnologia cellulare innovativaAM-105Accumax
DiIC12 (3) colorante a membrana cellulareBD Biosciences354218Utilizzato come tracker cellulare
Pompa a siringaHarvard Apparecchio703007
siringa (1 ml)BD Biosciences309659
aghi smussati calibro 23Ever Sharp Technology, Inc.TD21
Tubo in politetrafluoroetilene (PTFE)Ever Sharp Technology, Inc.Diametro interno TFT-23T, 0,51  millimetro; diametro esterno, 0,82  millimetro
Forno convenzionale plastica

References

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