JoVE Journal
Chemistry
Chemistry
This Contenuto is Open Access.
Capitoli
Riepilogo
Please note that all translations are automatically generated.
Dit protocol stelt de voorbereiding van U2O5 dunne lagen verkregen in situ onder ultra hoog vacuüm. Het proces omvat oxidatie en reductie van UO2 films met atomaire zuurstof en waterstof atoom, respectievelijk.