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MALDIサンプル調製:超薄層法

DOI:

10.3791/192

April 29th, 2007

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Summary

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このビデオでは、マトリックス支援レーザー脱離イオン化質量分析法(MALDI - MS)でペプチドやタンパク質を解析するための超薄型行列/分析物層の準備を示しています。

Abstract

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このビデオでは、マトリックス支援レーザー脱離イオン化質量分析法(MALDI - MS)1、2によってペプチドやタンパク質を解析するための超薄型行列/分析物層の準備を示しています。超薄層のメソッドは、行列/分析物混合物のその後の結晶化のための播種の地盤となるサンプルプレート、上のマトリックスの結晶の基材層(α-シアノ-4 - ヒドロキシ桂皮酸)の生産を含む。他のサンプルの成膜方法に比べて超薄層法の利点(例えば乾燥液滴)は、(i)は、提供されているような塩や界面活性剤などの不純物、(ⅱ)優れた分解能、及び(iii)より高い空間的均一性に寛容です。このメソッドは、タンパク質の精密質量測定のために特に便利です。プロトコルは、最初に開発され、最適化された膜タンパク質の分析のためにして正常に2と12の膜貫通ドメイン2の間に含まれている、イオンチャネル、代謝産物輸送体、および受容体を分析するために使用されました。初版発行以来、それはまた、可溶性タンパク質の解析にも同様に有用であることが示された。実際、我々は、380 kDaの高い3の分子量を有するものを含む広範囲の特性を、有するタンパク質の多数のためにそれを使用している。それは現在、全てのタンパク質の分子質量分析のための選択の手法です。説明する手順は、一貫して高品質のスペクトルを生成し、それは、敏感な、堅牢で、導入が容易です。

Protocol

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それは、薄層の調製の間にパウダーフリーの手袋を着用することは非常に重要です。

サンプルプレートの清掃

  1. ステンレス鋼や金MALDIサンプルプレートを使用してください。
  2. MeOHで洗浄し、キムワイプで軽く拭いてください。表面を傷つけないように、キムワイプで表面を擦ったり、こすらないでください。
  3. H 2 Oで洗浄し、キムワイプで軽く拭いてください。
  4. MeOHで洗浄し、キムワイプで軽く拭いてください。
  5. 必要に応じて、常にMeOHで終わる、メタノール/ H 2 O / MeOHのクリーニングサイクルを繰り返します。
  6. ないゴーストスポットまたはプレート上の残渣がないことを確認してください。幽霊スポットがある場合はあなたの手袋をはめた手(キムワイプでこすったりしないで下さい)で表面をこすっている間、脱イオン水で皿をすすぐ。のMeOH / H 2 O / MeOHのクリーニングサイクルを繰り返します。
  7. 洗浄後すぐにプレートを使用してください。

薄層の基質溶液の調製

  1. イソプロパノール飽和4 - HCCA(2部ACN、1部の水、および0.1%の最終TFA)と3部の1部を混在させること。

    注:<....

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Materials

それは、すべての試薬は、最高品質(例えば、HPLCグレード)のものであることが重要です。

パウダーフリーの手袋(ラテックスやニトリル)
ステンレス鋼や金MALDIサンプルプレート
メタノール(MeOH)

キムワイプ
α-シアノ-4 - ヒドロキシ桂皮酸(4 - HCCA)
トリフルオロ酢酸(TFA)(H 2 O、0.1%の最終濃度)
アセトニトリル(ACN)
ギ酸
イソプロパノール

References

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$$\rightleftharpoonup{xx}$$ $$\longleftharp{xx}$$, $$\longrightharp{xx}$$,
  1. Xiang, F., Beavis, R. C. A Method to Increase Contaminant Tolerance in Protein Matrix-Assisted Laser Desorption Ionization by the Fabrication of Thin Protein-Doped Polycrystalline Films. Rapid Communications in Mass Spectrometry. 8, 199-204 (1994).
  2. Cadene, M., Chait, B. T.

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MALDI Sample PreparationUltra Thin Layer MethodMatrix Assisted Laser Desorption IonizationProtein Mass AnalysisMembrane Protein AnalysisSoluble Protein AnalysisPlate Cleaning ProtocolThin Layer SubstrateVacuum Aspirator UseContaminant Removal

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