ここでは、フォトリソグラフィーによる高分子マイクロニードルの金型フリー製造プロセスを説明するプロトコルを提示します。
方法論記事
ここでは、フォトリソグラフィーによる高分子マイクロニードルの金型フリー製造プロセスを説明するプロトコルを提示します。
本稿では、フォトリソグラフィ法により、高分子マイクロニードル(MN)アレイの製造を説明しています。これは、埋め込まれたマイクロレンズからなるフォトマスクを用いて、単純な鋳型を含まないプロセスを含みます。埋め込まれたマイクロレンズは、MNジオメトリ(鋭さ)に影響することが見出されました。二つの異なる長さ(193ミクロンと171ミクロン±957ミクロン±1336ミクロン)を作製したと41.5ミクロン±8.4ミクロンと71.6ミクロン±13.7ミクロンの間の範囲の先端径の堅牢MNアレイ、。これらMNアレイは、皮膚を介して、低分子および高分子の治療薬の送達の潜在的なアプリケーションを提供してもよいです。
経皮薬物送達は、特にほぼ独占的に皮下注射によって投与された生体分子のために、薬剤投与のための魅力的な代替的なアプローチを提供しています。しかし、皮膚、特に最上層(角質層)は、人体に侵入する外来性分子を防止手ごわい障壁です。最近では、MNのデバイスは、皮膚を介して薬物を送達するためのツールを有効にするとして浮上しています。 MNデバイスは、薬物分子の通過が改善された患者のコンプライアンスと利便1-3で所望の生理学的活性を達成できるように、角質層内部に一時的な空孔を作成します。
様々な製造方法は、ポリマーのMN 4を製造するために採用されています。しかし、それらは通常のMNのアレイを製造するために長い時間および/ または高い温度を必要とする、複雑で多段階のプロセスを伴う。4製造工程を簡略化するために、単一工程モールドフリープロセスを使用してフォトマスクは5,6、最近開発されました。しかし、この方法では、メカニズムは、フォトリソグラフィに関係する紫外線(UV)光路を変更するための場所ではなかったとしてのMNは、鈍針のヒントを持っていた製作。
本研究では、フォトマスクに埋め込まれたマイクロレンズのMNのジオメトリを定義するために提案されています。埋め込まれたマイクロレンズからなり、その後、フォトマスクを用いて、鋭い先端が報告されていると製作をMNのフォトマスクを製造するためのプロトコル。
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1.フォトマスク製造
2. MNのシャフト製作
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MNの形状は大きくフォトマスクの特性及び埋め込みマイクロレンズによって影響を受けることができます。屈折度は、MNの幾何形状( 図2A)の影響紫外線の伝送路に影響を与えます。各マイクロレンズは350μmの直径を有することが見出された、130ミクロンの凸面を平坦化し、62.3μmの深さ( 図2B-D)。ピタゴラスの定理を用いて、第1の表面の曲率半径は、272.89マイクロメートルであることが見出されました。焦点距離は509.28μmであると計算された(; nは空気 = 1.000; n個のガラス = 1.53627を考慮しλ= 365 nm)のレンズメーカー方程式12を介して以下に述べたように:
1 / F =(N 1 / N M -1)*(1 / R 1 -1 / R 2)
n 1は...
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MNのアレイの製造について上記したプロトコルは、約1 cm 2のMNのアレイを製造するために提示されています。アレイは、大きなサイズの空洞を作成することによって、より大きなフォトマスクを用いてスケールアップすることができます。増加した空洞の大きさは、両側のスペーサの幅を増加させることによって作成することができます。プロトコルでMNアレイを作製するために、各ステップが重要であったが、最も重要なステップは以下の通りであった:フォトマスクの位置、プレポリマー溶液の充填、およびセットアップの照射。フォトマスクの位置決めはCR / Auをコーティングした表面は、フォトマスクに埋め込まれたレンズを不明瞭空洞の内部とキャビティ壁の側面に直面しているようにすべきです。プレポリマー溶液と、金型を充填すると、そうでない場合は変形して低強度MN配列につながることができ、気泡が捕捉されない空気を確保します。気泡が徐々にprepolymeを加えることによって制御さ吸上作用によって防止することができますR液とプレポリマー溶液中に存在する気泡がないことを保証します。照射のためのセットアップの位置付けは、均一なUV露光を確保するために導かれるよ...
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著者は利益相反を宣言しません。
この研究は、シンガポール国立研究財団(NRF)の助成金NRF2012NRF-POC001-043の支援を受けました。
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| 名前 | 会社 | カタログ番号 | コメント |
|---|---|---|---|
| ポリ(エチレングリコール)ジアクリレート(PEGDA Mn=258) | SIGMA | 475629-500ML | |
| 2-ヒドロキシ-2-メチル-プロピオフェノン(HMP) | シグマ | 405655-50ML | |
| ウシコラーゲン1型、FITCコンジュゲート | シグマ | C4361 | |
| UV硬化ステーション | EXFO Photonic Solutions Inc.、カナダ、 | OmniCure S2000-XL | |
| コリメーティングアダプタ | EXFO Photonic Solutions Inc., Canada | EXFO 810-00042 | |
| 24-well plate | Thermo Fisher Scientific, USA | ||
| Nikon SMZ 1500 stereomicroscope | ニコン ディ | ||
| ロン GL-500 デジタルフォースゲージ | 米国 | ||
| A-1R 共焦点顕微鏡 | Nikon, 日本 |
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