Name: Eşzamanlı çoklu yüzey Anodizations ve merdiven gibi ters önyargıları dekolmanı anodik alüminyum oksit içinde sülfürik ve oksalik asit elektrolit (Video) | JoVE Journal
Uploaded: 2017-10-05T14:00:00.000+00:00
Duration: 10 min 27 s
Description: Keşfedin anodik alüminyum oksit üretiminde eşzamanlı çoklu yüzey anodizasyon ve merdiven gibi ters önyargı kullanımı. Bu yöntem toksik kimyasallar içermez ve alüminyum alt tabakayı tekrar kullanma olanağı sunar.

ai_agent_IP

ai_agent

maintenance

instantTrialDurationMinutes

isBiopharma

enableNewMyJoveSectionDesign

educationFeatures

seoMetaApi

ai_copilot_institution_blacklist

ai_chat_institution_blacklist

freeAccessWindow

ssoRoleCapture

scheduledMaintenanceBanner

joveLabsFeatures

disable_autoplay_for_bots

extended_trial_duration

5 minutes

playerTrialDesktop

Yazarlar ifşa gerek yok.

Lütfen tüm ilgili malzeme güvenlik bilgi formları (MSDS) başlamadan unutmayın. Bu iletişim kuralı çevre dostu doğa rağmen birkaç asitler ve oksitleyiciler ilgili yordamları kullanılır. Ayrıca, tüm uygun kişisel koruyucu ekipman (önlük, eldiven, koruyucu gözlük, vb) kullanın.
 1. çözüm hazırlık Not: sonra tam sızdırmazlık çözüm içeren geminin güçlü manyetik karıştırma oda sıcaklığında tüm çözümler için yeterli zamanda uygulandı.
<ol><li>Bir çözüm Perklorik asit hazırlanması <ol><li>Mix Perklorik asit (HClO 4, % 60) 100 mL ile 1-4 hacim oranı mutlak etanol (C 2 H 5 OH, % 100) 400 mL.</li>
	</ol></li> <li>Bir çözüm kromik asit hazırlanması <ol><li>erimesi 9.0 g kromik oksit (CrO 3) ve 20,3 mL fosforik asit (H 3 PO 4, % 85) 479.7 (dı) mL deiyonize su (CrO 3: H 3 PO 4 0,18 M:0.56 M =).</li>
	</ol></li> <li>Sülfürik asit elektrolit hazırlanması <ol><li>Mix 16,2 mL sülfürik asit (H 2 SO 4, % 98'i) 0.3 M. molar konsantrasyon kaynaklanan 983.8 mL dı su</li>
	</ol></li> <li>Oksalik asit elektrolit hazırlanması <ol><li>erimesi 27.012 g susuz oksalik asit (C 2 H 2 O 4) 1 L dı su 0.3 M. molar konsantrasyon kaynaklanan</li>
	</ol></li></ol> 2. Al substrat, tedavi öncesi <ol><li>işleme Al numune <ol><li>arıtılmış Al Numune kesme (&#62; % 99,99 saf) dikdörtgen parallelepiped şekil (genişlik x yükseklik x kalınlık 20.0 x 50.0 x 1.0 mm =) bütün arasında dik açı ile olarak anılacaktır bitişik yüzeyleri &#34; substrat &#34; bundan sonra.</li>
		<li>Lehçe mekanik olarak daha fazla P1000 uygun ISO/FEPA kum atama numarayla zımpara kullanarak Al substrat çoklu yüzeyleri. 
		Not: Ek bilgi daha fazla bilgi için bkz.</li>
	</ol></li> <li>Al substrat çok yüzeylerinde eşzamanlı elektro-parlatma <ol><li>Pour yaklaşık 350 mL Perklorik asit etanol çözeltisi çift ceket kabı maksimum kapasitesini 600 mL. O zaman, Al substrat dört beşte Perklorik asit çözüm sokmak.</li>
		<li>7 ±0.1 ° C banyo sirkülatörün kullanarak çözüm Perklorik asit sıcaklığını bağlı bir çift ceket ölçek küme.</li>
		<li>Al substrat ultrasonication aseton ile 30-40 dk ve durulama aseton ve kimliğim kullanarak birkaç su süreleri Al substrat yüzeylerde organik artıkları kaldırmak için temizlik.</li>
		<li>Kuru hava tabancası veya azot (N 2) gaz darbe kalıntı maddeleri ortadan kaldırılması için kullanarak Al substrat. 
		Not: Doğal kurutma altındaki atmosferik ortamlar olması tavsiye edilmez solvent izlemeler elektro-parlatma etkileri olumsuz etkilediğinden.</li>
		<li>Al substrat çalışma elektrot (biz) pozitif (+) bağlantı noktası ve Platin (Pt) Tel sayaç elektrot (CE) programlanabilir DC güç kaynağı, timsah klipleri kullanarak negatif (-) bağlantı noktasına bağlayın. Al substrat ve Pt tel-meli var olmak birbirine paralel (bkz. Şekil S2).</li>
		<li>Uygula +20.0 V sapması Al biz Pt C.E. ile ilgili olarak 2-4 dakika için ortalama olarak iletin. Kirlenme veya pürüzlülük, gibi yüzey durumuna bağlı olarak uygulanan saat 5 dk. artıkları yüzeyi soyulmak ve çözüm içine aşağı slayt denetlemek için çözüm içine tüm yüzeyler dalmış Inspect muhafaza olabilir. Bu adım sırasında manyetik karıştırma muayene karıştırma altında zor olduğu ve çözüm akışı elektro-parlatma etkisi etkisi tavsiye edilmez. 
		Not: değil daha--dan 5 hangi yüzeyleri bozulmaya min için cila mı. 
		Seçenek: Kayıt geçerli saat (ı-t) özellikleri PC arayüzü üzerinden davranıştır varsa anormal Puan dahil elektro-parlatma yordamı izlemek için yararlı.</li>
		<li>Önyargı uygulamaya son ve timsah klipleri kesin. Al substrat ve Pt elektrot elektro-parlatma çözümden dikkatle almak. Sonra bir kaç kez etanol (% 95) ve kimliğim su kullanarak Al substrat yüzeyinde kalan çözüm kaldırın. Elektro-parlatma düzgün gerçekleştirilirse, ayna gibi bitmiş yüzeyleri Al substrat belirlenebilir (bkz: Şekil S1 ve Şekil S3).</li>
		<li>Al substrat etanol (% 95), elektro-parlatma yüzey oksidasyon en aza indirmek için bir sonraki yordamda kadar saklamak.</li>
	</ol></li></ol> 3. Büyük imalat AAOs oksalik asit elektrolit altında Not: için AAOs nanopores uzun menzilli bir düzenleme ile &#39; periyodik olarak, iki adım SMSAs yordam kullanılmıştır, hangi düzenli olarak dokulu Al çoklu yüzeyleri edildi Pre-SMSA ile elde etmek ve daha sonra ana-SMSA yüksek nitelikli AAOs imalatı için yapılmıştır. Kadar Al substrat kalır bir birim sırasında tekrarlayan uygulama çoğul ve hemen hemen aynı AAOs üreten tutmak. &#34; n &#34; uygulanan sırasının gösterir.
<ol><li>n th Pre-SMSA <ol><li>Pour yaklaşık 650 mL oksalik asit sulu çözeltisi 0,3 M molar konsantrasyon içine bir çift ceket ölçek ile maksimum kapasitesini 1.0 L. O zaman, Al substrat yaklaşık dörtte üçü oksalik asit çözüm içine sokmak.</li>
		<li>15 ±0.1 ° C banyo sirkülatörün kullanarak oksalik asit elektrolit sıcaklığı bağlı bir çift ceket ölçek küme.</li>
		<li>Elektro-parlatma Al substrat etanol üzerinden almak ve bir hava tabancası veya N 2 gaz darbe kullanarak kalan solvent kaldırın.</li>
		<li>Al substrat biz (+) ve Pt tel bir timsah klip kullanarak programlanabilir DC güç kaynağı (-) C.E. parlatılmış bağlayın. Al substrat ve Pt tel birbirine paralel olmalıdır. O zaman, Al substrat elektro-parlatma bölümü oksalik asit elektrolit sokmak. 
		Not: yeterli alan (örneğin, yaklaşık 1 cm) asidik elektrolit üst ve alt için Al substrat, aksi halde timsah klip bağlı konumunda ağır korozyon oluşur bağlı timsah Clip arasında var olduğundan emin olun.</li>
		<li>Uygulansın anodik +40.0 V sapması C.E. ile ilgili olarak biz daha 1-2 h 100-150 elektrolit sıcaklığı korumak için rpm manyetik ılımlı karıştırma altında için. 
		Not: Pre-SMSA zaman çok kısa ise, Al substrat çoklu yüzeyleri düzgün dokulandırılması değil. 
		Seçenek: Ben kayıt-t özellikleri PC arayüzü üzerinden davranıştır SMSA tipik davranışları anlamak için yararlı.</li>
		<li>Anodik uygulama stop af önyargıPre-SMSA, bitirme ter ve timsah klipleri kesin. Asidik elektrolit dikkatle örnekten almak ve pre-SMSAed durulayın birkaç kez aseton ve kimliğim su kullanarak Al substrat.</li>
	</ol></li> <li>n th Pre-AAOs asitle <ol><li>kromik asit sulu çözüm 60-65 ° c sıcaklık ayarlayın</li>
		<li>Bırakın pre-SMSAed Al substrat içine 1-2 h pre-AAOs Al substrat üzerine çıkarmak için kromik asit çözüm.</li>
		<li>Durulama pre-AAOs Al substrat aseton ve dı su ile bir kaç kez kaldırıldı. Pre-AAOs yüzeyde tamamen kaldırılmış olup olmadığını onaylamak için Al substrat dayanıklılığını ölçmek. Aksi takdirde, (Adım 3.2.2) tekrar gravür yordamı yineleyin.</li>
	</ol></li> <li>n th ana-SMSA <ol><li>tüm deneysel koşullar ve 3.1. adımda kullanılan bağlantıları yeniden kurmak. 
		Not: Bu oksalik asit elektrolit dizileri birkaç içinde kullanılabilir ve bu ana AAOs nitelikleri etkilemez olması gerekmektedir. Ancak, nicel karşılaştırmalar için bu elektrolit bir bütün sırayla kullanılır ve yeni bir ile değiş tokuş olduğunu önerilir.</li>
		<li>Biz C.E. ile ilgili olarak +40.0 V anodik sapması uygulamak; zaman uygulama AAO arzu kalınlığına bağlı olarak değiştirilebilir. AAO büyüme oranı sırasıyla yaklaşık 8.0 ve 7,5 mikron/h ön ve Geri Al substrat 15 ° C, elektrolit sıcaklığı, yüzey için tahmini ( 57 daha fazla ayrıntı için başvurmak için Öner).</li>
	</ol></li> <li>n th SRBs dekolmanı <ol><li>anodik önyargı uygulamak ve ana SMSA bitirdikten sonra karıştırarak durdurmak ve ana SMSAed bağlanmak Al substrat C.E. (-) ve Pt tel programlanabilir DC biz (+) güç kaynağı her timsah klip geçerek.</li>
		<li>SRBs uygulamak ve ana-AAOs ile kaplı Al substrat çok kenarları boyunca tipik kabarcıklanma etkileri incelemek. Başlangıç RB, merdiven ve her merdiven süredeki yoğunluğu gibi SRBs durum ayrıntılarını ana-AAOs kalınlığı ile yakından ilişkili. Ana-AAOs için 60 mikron kalın, SRBs merdiven -21 V -24 V-1 V ve bitişik merdiven arasındaki zaman aralığını olmadan artışı ile için kontrol ediliyordu. -21 V ve V -22 -23 V süresince 10 min tespit edildi ve -24 V son merdiven tamamlandı ayırmayı yordamı (bkz: başvuru 57 ince AAOs olgusu da dahil olmak üzere daha fazla bilgi için) kadar devam edildi. 
		Not: Bu son derece SRBs kontrolünü senitehlikeye PC kullanmak ve ben kaydetmek yeni başlayanlar için tavsiye edilir-bu yordamı sırasında t karakteristik eğrileri.</li>
		<li>SRBs dekolmanı bitirdikten sonra uygulamadan çıkın ve timsah klipleri kesin. Asidik elektrolit dikkatle örnekten almak ve onları dikkatle kez yeterli sayıda aseton ve kimliğim su ile durulama.</li>
		<li>Her AAO karşılık gelen Al yüzeyden tamamen ayrı. Şu adım 3.4.3 sonra üst kısımları müstakil AAOs hala el ile sarsılmamalı Al substrat için bağlı.</li>
	</ol></li> <li>n th kalan Alümina asitle <ol><li>bir çözüm kromik asit sıcaklık 60-65 ° C'de ayarlayın ve kalan Alümina ortadan kaldırmak yaklaşık 30 dk AAOs müstakil Al substrat bırakın.</li>
		Bir kaç kez su <li>pick up kazınmış Al substrat ve durulama aseton ve Dedektif. Artık Alümina tümüyle kaldırılmasını onaylamak için direnç ölçmek. Aksi takdirde, adımları yineleyin 3.5.2.</li>
	</ol></li> <li>n + 1 inci sıra <ol><li>Adım 3.1 ve kalan Alümina kazınmış Al substrat kullanarak tüm sıra tekrar.</li>
	</ol></li></ol> 4. Büyük imalat AAOs sülfürik asit elektrolit altında Not: Bu bölümde o 3. adımda açıkça farklı koşullar dikkat çekti.
<ol><li>n th Pre-SMSA <ol><li>Pour yaklaşık 650 mL sülfürik asit sulu çözeltisi (0,3 M) bir çift ceket ölçek maksimum kapasitesini 1.0 L. O zaman, Al substrat yaklaşık dörtte üçü sülfürik asit çözüm içine dalmış.</li>
		<li>0 ±0.1 ° C. elektrolit sıcaklığı ayarla</li>
		<li>Elektro-parlatılmış bir hava tabancası veya N 2 gaz darbe, kullanarak Al yüzey üzerinde kalan solvent kaldırmak ve timsah klipleri (Adım 3.1.4 bakın) kullanarak programlanabilir bir DC güç kaynağı için Al substrat bağlanmak</li>
		<li>+25.0 V C.E. ile ilgili olarak biz için daha ılımlı manyetik karıştırma (100-150 devir/dakika) altında 1-2 h için Uygula anodik sapması.</li>
		<li>Anodik önyargı uygulamadan çık sonra pre-SMSA bitirme ve timsah klipleri kesin. Pick up ve pre-SMSAed durulama aseton ve kimliğim su kullanarak birkaç kez Al substrat. 
		Not: n için th Pre-AAOs aşındırma, bakın adım 3.2.</li>
	</ol></li> <li>n th ana-SMSA <ol><li>tüm deneysel koşullar ve 4.1 adımda kullanılan bağlantıları yeniden kurmak.</li>
		<li>Aynı anodik önyargı uygulanır. Zaman uygulama arzu AAO kalınlığa bağlı olarak farklı olabilir. AAO büyüme oranı yaklaşık 5,3 mikron/h ( 56 daha fazla ayrıntı için başvurmak için Öner) tahmini.</li>
	</ol></li> <li>n th SRBs dekolmanı <ol><li>anodik önyargı uygulamak ve ana SMSA bitirdikten sonra karıştırarak çıkın ve ana SMSAed bağlanmak Al substrat C.E. (-) ve Pt tel programlanabilir DC güç biz (+) arz her timsah klip değiştirme'yi.</li>
		<li>SRBs, uygulamak ve örnek çoklu kenarları boyunca tipik kabarcıklanma etkileri incelemek. SRBs merdiven -15 V -17 V-1 V ve bitişik merdiven arasındaki zaman aralığını olmadan artışı ile kontrol ediliyordu. -15 V ve -16 V süresince 10 min tespit edildi ve son merdiven -17 V ayırmayı yordamı tamamlandı kadar saklanır. 
		Not: sülfürik asit elektrolit altında fabrikasyon AAOs daha kırılgan doğası bağlı olarak, geçerli düzey aniden fark tıklayarak sesleri eşliğinde ayırmayı anlarda arttı.</li>
		<li>SRBs dekolmanı bitirdikten sonra uygulamadan çıkın ve timsah klipleri kesin. Asidik elektrolit dikkatle örnekten almak ve dikkatli bir şekilde yeterli birkaç kez aseton ve kimliğim su ile durulama.</li>
		<li>Ayrı her AAO karşılık gelen Al yüzeyden mekanik müstakil AAOs üst kısımları kırarak. 
		Not: n th kalan Alümina için gravür bakın adım 3.5.</li>
	</ol></li> <li>n + 1 inci sıra <ol><li>Adım 4.1 ve kalan Alümina kazınmış Al substrat kullanarak tüm sıra tekrar.</li>
	</ol>
	</li>
</ol>

Bu araştırma kısmen Kore hükümeti (MSIP) (No 2016R1C1B1016344 ve 2016R1E1A2915664) tarafından finanse edilen Ulusal Araştırma Vakfı, Kore (NMG) grant tarafından desteklenmiştir.

Bu yazıda, biz başarıyla facile, yüksek verim ve çevre temiz yöntem nanoporous AAOs SMSA ve mass-producibility olarak önemli ölçüde artırılması için aynı Al substrat için tekrar edilebilir SRBs-dekolmanı imal için gösterdi iyi sınırlı doğal kaynak kullanılabilirliğini. Şekil 1aakışı grafikte gösterildiği gibi AAO imalatı stratejimiz çok yüzeyler durumuna güncellenmiştir geleneksel iki adım anodization dayanır. Elektro-parlatma ve iki adım SMSAs yordamlar elektrik alanlarında normal yönde ele...

Asidik bir elektrolit Al substrat Eloksal tarafından kuruldu AAOs çeşitli temel bilim ve sanayi, örneğin, sabit Şablonlar nanotüpler/nanowires1,2,3 için yoğun ilgi çekici , 4 , 5, enerji depolama aygıtları6,7,8,9, uygulamaları12,13 filtreleme biyo algılamalı10,11, , 14, buharlaşan ve/veya15,16,17ve kapasitif nem sensörleri18,19,20,21 aşındırma için maskeler ,22, onların kendi kendine sıralı petek yapısı sayesinde, nanopores ve üstün mekanik özellikleri23yüksek en-boy oranı. Bu çeşitli uygulamalar için nanoporous AAOs uygulamak için duran formlarla olması gerektiği bir çok ve sıralı dizi uzun menzilli nanopores. Bu bağlamda, AAOs elde etmek için stratejiler yordamları (ayırma) (Eloksal) oluşumu ve ayrılık düşünmek gerekir.
Bakış açısı AAO oluşumu (bundan sonra anne anılacaktır) hafif anodization sülfürik, kuzukulağı ve fosforik asitli elektrolit23,24,25altında,26 iyi kurulmuş ,27. Ancak, MA işlemler nedeniyle onların yavaş büyüme oranı nispeten düşük yoğunluklarda bağlı olarak AAO imalatı nanopores'periodicity28 geliştirmek için bir iki adım Anne sürecinde daha da bozulabilir anodik voltaj düşük verimleri sergiledi ,29. Böylece, sabit anodization (HA) teknikleri Ma alternatif olarak yüksek anodik voltaj (kuzukulağı/sülfürik asit elektrolit) uygulamak veya daha yoğun elektrolit (fosforik asit)30,31kullanarak teklif edildi, 32,33,34,35,36,37,38,39,40. HA işlemlerini büyüme oranları hem de periyodik düzenlemeler, farklı donanımlar sonuçlanan, ancak AAOs daha kırılgan oldu ve nanopores yoğunluğu azaltılmış30olduğunu göster. Buna ek olarak, pahalı bir soğutma sistemi yüksek akım yoğunluğu31tarafından neden Joule Isıtma gondererek için gereklidir. Bu sonuçlar AAOs HA süreçleri yoluyla potansiyel uygulanabilirliği kısıtlayın.
Bir AAO karşılık gelen Al plaka yüzeyinden ayırmak için kalan Al substrat seçmeli kimyasal aşındırma en çok bakır klorür35,39 gibi zehirli kimyasallar kullanarak hem anne hem de HA süreçlerde kullanılmıştır ,41,42 ya da civa klorür16,17,43,44,45,46, 47 , 48 , 49. ancak, bu yöntem indükler dezavantajlı yan etkileri, örneğin, daha uzun bir reaksiyon zaman Al, kirlenme AAO heavy metal iyonları tarafından insan vücut/doğal ortamlara zararlı kalıntı kalan kalınlığı orantılı ve değerli kaynakların verimsiz kullanımı. Bu nedenle, birçok girişimde bir AAO doğrudan müfreze fark için yapılmıştır. Her ne kadar Katodik voltaj Delaminasyon50,51 ve anodik gerilim dekolmanı7,41,42,52, nabız 53,54,55 mevcut yüzey yeniden olabilir, kalan Al Eski tekniği bu kimyasal aşındırma yöntemleri50ile hemen hemen benzer zaman alır bir hak. Rağmen açık azaltma, uzun işlem süresi, zararlı ve büyük ölçüde reaktif kimyasallar, örnekler butanedione ve/veya Perklorik asit, elektrolit ikinci teknikleri55yılında bir ek temizlik nerede ayırma olarak kullanılmıştır Eloksal ve ayırmayı yordamı arasında değişen elektrolit nedeniyle yordam kullanılır. Özellikle, ayırmayı davranışları ve müstakil AAOs kalitesini ciddi kalınlığını etkiler. Söz konusu olduğunda AAO ile nispeten ince kalınlık, müstakil bir çatlaklar ve/veya diyafram içerebilir.
Yukarıda listelenen tüm deneysel yaklaşımlar bir "tek-yüzey için" Al numune yüzey koruma/mühendislik amaçları ve bu özellik geleneksel teknolojileri sergiler kritik sınırlamaları AAO imalat hariç, uygulanmış olan verim hem de işlenebilirliği açısından hangi de AAOs56,57potansiyel uygulanabilirliği etkiler.
AAO-ilgili alanlarda facile, yüksek verim ve yeşil teknolojik yaklaşımlar açısından artan taleplerini karşılamak için biz daha önce SMSA ve sülfürik56 ve57 kuzukulağı asidi altında SRBs aracılığıyla doğrudan dekolmanı rapor elektrolit, anılan sıraya göre. Çoğul AAOs asidik elektrolit dalmış Al substrat birden çok yüzeylerinde oluşmuş olması iyi bilinen bir gerçektir. Ancak, bu AAOs Al substrat yetişkinlerin, sadelik ve yeşil teknolojik gösteren SMSAs için kullanılan aynı asidik elektrolit içinde karşılık gelen çok yüzeylerden dekolmanı SRBs, bizim yöntemlerden önemli bir ayrım etkinleştirmek özellikleri. Biz dekolmanı SRBs tabanlı çoğul AAOs SMSAs56,57 tarafından ve ne zaman karşılaştırmak ile AAOs57 nispeten ince kalınlıkları için bile geçerli fabrikasyon için en uygun bir strateji olduğuna işaret etmek istiyorum tek-yüzey üzerinde Katodik Delaminasyon (Yani, sürekli geriye doğru önyargı)f "> 51. Son olarak, sırayla SRBs tabanlı dekolmanı ile kombine SMSAs oluşan bir birim sıra art arda karmaşık prosedürler ve avantajları güçlendiriyor toksik/reaktif kimyasallar kaçınarak aynı Al substrat için uygulanabilir bizim stratejileri ve doğal kaynakların verimli kullanımı garanti eder.

<table><tbody><tr><td>Sülfürik Asit >% 98</td> <td>DUKSAN reaktifi</td><td>5950</td><td></td></tr><tr><td>Oksalik Asit Susuz,% 99.5-100.2</td> <td>KANTO kimyasal</td><td>31045-73</td><td></td></tr><tr><td>Fosforik Asit,% 85</td> <td>SAMCHUN kimyasalı</td><td>P0463</td><td></td></tr><tr><td>Perklorik Asit,% 60</td> <td>SAMCHUN kimyasalı</td><td>P0181</td><td>Yüksek Reaktif</td></tr><tr><td>Krom (VI) Oksit</td><td>Sigma Aldrich</td><td>232653</td><td>Güçlü Oksitleyici</td></tr><tr><td>Etanol, %95</td> <td>SAMCHUN kimyasal</td><td>E0219</td><td></td></tr><tr><td>Mutlak Etanol, %99,9</td> <td>SAMCHUN kimyasal</td><td>E1320</td><td></td></tr><tr><td>Çift Ceketli Beher</td><td>iNexus</td><td>27-00292-05</td><td></td></tr><tr><td>Düşük Sıcaklık Banyo Sirkülatörü</td><td>JEIO TECH</td><td>AAH57052K</td><td></td></tr><tr><td>Programlanabilir DC Güç Kaynağı</td><td>PNCYS</td><td>EDP-3001 ve nbsp;</td><td></td></tr><tr><td>Alüminyum Levha, >99.99%</td> <td>Goodfellow Platin</td><td></td><td></td></tr><tr><td>Silindir</td><td>Whatman</td><td>444685</td><td></td></tr><tr><td>Saf & Ultra Saf Su Sistemi (Deiyonize Su)</td><td>İnsan Bilimi</td><td>Pwer II & HIQ II</td><td></td></tr></tbody></table>

eşzamanlı çoklu yüzey anodizations ve merdiven gibi ters önyargıları dekolmanı anodik alüminyum oksit içinde sülfürik ve oksalik asit elektrolit

Simultaneous Multi-surface Anodizations and Stair-like Reverse Biases Detachment of Anodic Aluminum Oxides in Sulfuric and Oxalic Acid Electrolyte

İki adım anodization üzerinde raporlama sonrasında, nanoporous anodik alüminyum oksit (AAOs) yaygın olarak temel bilimler ve endüstriyel uygulamalar nanopores ile kendi periyodik düzenleme sayesinde, çok yönlü alanlarında kullanılmıştır nispeten yüksek En boy oranı. Ancak, şimdiye kadar teknikleri bildirdi hangi olabilir sadece mono-yüzey anodization için geçerli, göstermek önemli dezavantajları, Yani, toksik kimyasallar gerektiren ve değerli doğal kaynakların boşa zaman alıcı gibi karmaşık prosedürleri, . Bu yazıda, nanoporous AAOs geleneksel AAO yöntemleri imalatı neden sınırlamalar üstesinden gelebilir kuzukulağı ve sülfürik asit elektrolit olarak imal etmek facile, verimli ve çevre temiz bir yöntemi göstermektedir. İlk, çoğul AAOs AAOs benzer nitelikleri ile mass-producibility gösteren eşzamanlı çoklu yüzeyleri anodization (SMSA), bir kez de üretilmektedir. İkinci olarak, bu AAOs alüminyum (Al) substrat merdiven gibi ters önyargıları (SRBs) uygulayarak sadelik ve yeşil teknolojik özellikleri ima SMSAs için kullanılan aynı elektrolit olarak ayrılabilir. Son olarak, sırayla SRBs tabanlı dekolmanı ile kombine SMSAs oluşan bir birim sıra hangi bu strateji avantajları güçlendiriyor ve doğal kaynakların verimli kullanımı garanti eder aynı Al substrat için art arda uygulanabilir.

Akış şeması ninci sıra esas olarak iki adım SMSAs, SRBs-dekolmanı, oluşan imalatı ve kimyasal aşındırma ile ilgili AAO şematik Şekil 1a' sunuldu. Her iç metin karşılık gelen yüzey morfolojisi bireysel her yordam ve hemen SRBs-dekolmanı sonra çekilen bir fotoğraf bir Taramalı elektron mikroskobu (SEM) görüntüsünü göster. Sonra birim sıra toplam 5inci tekrarı SMSA ve SRBs tabanlı stratejileri (Şekil 1b</strong...

Eşzamanlı çoklu yüzeyleri anodization merdiven gibi ters önyargıları sökümleri tarafından takip yoluyla nanoporous anodik alüminyum oksit imalatı için bir protokol sunulmuştur. Art arda bir facile sergilenmesi aynı alüminyum substrat, yüksek verim ve çevre temiz strateji uygulanabilir.

Eşzamanlı çoklu yüzey Anodizations ve merdiven gibi ters önyargıları dekolmanı anodik alüminyum oksit içinde sülfürik ve oksalik asit elektrolit

After reporting on the two-step anodization, nanoporous anodic aluminum oxides (AAOs) have been widely utilized in the versatile fields of fundamental ...

Bu prosedürün genel amacı, merdiven benzeri ters önyargıların uygulanması yoluyla eşzamanlı çok yüzeyli anotlamayı doğrudan AAO ayrılması ile birleştirerek anodik alüminyum oksitleri veya AAO'ları verimli bir şekilde imal etmektir. Bu yöntem, eloksallamadaki temel sorunu değiştirmeye yardımcı olabilir ve normal teknolojik uygulamalar için AAO'ların geliştirilmesine katkıda bulunabilir. Bu prosedürün başlıca avantajları şunlardır: mutluluk içindedir, kaynakların verimli kullanılmasıdır ve cıva diklorür gibi toksik kimyasalların kullanımından kaçınır.Bu teknik, alüminyum alt tabakanın açıkta kalan tüm yüzeylerinde AAO'lar oluşturur. AAO'nun ayrılmasından sonra, kalan alüminyum alt tabaka yeniden kullanılabilir ve bu da tek bir alüminyum numunesinden birçok AAO'nun üretilmesine izin verir. İlk olarak, bir alüminyum numuneyi paralel yüzlü bir şekilde kesin ve parlatın.350 mililitre dört ila bir mutlak etanol ve% 60 perklorik asit çözeltisini, düşük sıcaklıktaki bir banyo sirkülatörüne bağlı çift cidarlı bir behere dökün. Sahte alüminyum numuneye dayanarak, çözelti seviyelerini, alt tabakanın 4 / 5'i daldırılacak şekilde ayarlayın. Banyo sıcaklığını yedi santigrat derecenin biraz altına

simultaneous-multi-surface-anodizations-stair-like-reverse-biases

Research

JoVE Journal

Engineering

Mühendislik

Biz dikey olarak sipariş küçük moleküler organik nanotellerin bir ultra yüksek yoğunluklu dizi imalatı için basit bir yöntem rapor. Bu yöntem ucuz keyfi yüzeylerde yetiştirilebilir karmaşık heterostructured hibrid nanotel geometri, sentezi sağlar. Bu yapılar organik elektronik, optoelektronik, kimyasal algılama, fotovoltaik ve spintronics potansiyel uygulamalar var.

Keyfi Yüzeyler üzerinde Dikey dizilmiş Küçük-moleküler Organik Nanoteller bir ultra yüksek Yoğunluk Dizi

Doğal, düşük sıkma film sönümleme koşulları ve uzun yerleşme zamanlarda saçak alan elektrostatik MEMS aktüatörler sonuçlarının cihaz sağlam tasarımı, geleneksel adım toplamanın kullanarak geçiş işlemleri yaparken. Arasında geçiş yaparken DC-dinamik dalga ile zaman iyileşme anahtarlama Gerçek-zamanlı saçak-alan yerleşme zamanını azaltır aktüatörler MEMS için aşağı-yukarı ve aşağı-yukarı devletler.

Real-Time DC-dinamik Öngerilimlenmesi Yöntem Ciddi Underdamped saçak-alanında Elektrostatik MEMS Eyleyiciler Zaman İyileştirme Anahtarlama

Bir elektrolit içindeki sıvı metalin arayüzey enerjisini, bir yüzey oksit tabakasının elektrokimyasal birikimi (veya uzaklaştırılması) yoluyla kontrol etmek için bir yöntem sunuyoruz. Bu basit yöntem, arayüzey enerjisini mütevazı voltajlar kullanarak hızlı, önemli ölçüde ve geri dönüşümlü olarak ayarlayarak galyum bazlı sıvı metallerin kılcal davranışını kontrol edebilir.

Bir Yöntem Yüzey Oksidasyon ve İndirgeme yoluyla Sıvı Metal Yüzey Gerilim işleyin

Biz bir lazer biriktirme ve in situ magnetron SAÇTIRMA kullanarak metal/LaAlO3/SrTiO3 heterostructures imal. Magnetotransport ve in situ x-ışını photoelectron spektroskopisi deneyler, bu sistemde oluşan yarı iki boyutlu elektron gaz Elektrostatik ve kimyasal olayların arasındaki etkileşimi araştırıyoruz.

Büyüme ve Elektrostatik/kimyasal özellikleri Metal/LaAlO3/SrTiO3 Heterostructures

Burada, degrade nanopattern plakaları termal nanoimprinting ile imalat ve insan endotelyal progenitor hücreler yanıt taşınımı için eleme yöntemi için bir iletişim kuralı mevcut. Açıklanan teknolojisini kullanan, hücre davranış fiziksel uyaranlara tarafından işleyebilirsiniz bir iskele üretmek mümkündür.

Termal Nanoimprinting teknik ve insan endotel hücreleri koloni oluşturan yanıt testi ile taranması degrade Nanopattern imalatı

Sunulan bir anodik alüminyum oksit filtresini kullanarak fabrikasyon nanofibers toplayarak, fonksiyonel yüzeyler için nano-mikro multiscale yapılar imal etmek kolay bir yöntemdir.

Fonksiyonel yüzeyler için baskılı Nanofibers tarafından toplanan multiscale yapıları

Bu çalışma, fotolitografi ve kuru gravür kullanarak SiO2/Si gofretlerinde reentrant ve iki kat reentrant profilleri ile boşlukları ve sütunları elde etmek için mikroüretim protokolleri sunmaktadır. Ortaya çıkan mikrodokulu yüzeyler, silikanın içsel ıslaklığına rağmen, ıslak sıvılar altında havanın sağlam uzun süreli tuzaklanması ile karakterize olağanüstü sıvı repellence göstermektedir.

Reentrant ve İki Kat Reentrant Boşlukları veya Sütunlardan Oluşan Gaz-Entrapping Mikrodokuları Oyarak SiO2/Si Yüzeylerin Omnifobik Hale Getirilmesi

Çinko-oksit ince film transistörlerinin (TFT) alüminyum-oksit dielektrik tabakasının büyümesi için anodizasyon parametreleri, elektriksel parametre yanıtları üzerindeki etkilerini belirlemek için çeşitlidir. Varyans analizi (ANOVA), optimize edilmiş cihaz performansıyla sonuçlanan üretim koşullarını belirlemek için Plackett-Burman deney tasarımına (DOE) uygulanır.

İnce Film Transistörlerinin Alüminyum Oksit Dielektrik Tabakasına Anodizasyon Parametrelerinin Etkisi

Burada, istiflenmiş metal-yalıtkan-metal yapısı için iletim elektron mikroskopisi (TEM) ile yerinde önyargı sırasındaki nanoyapısal değişikliklerin analiz edildiği bir protokol sunulmaktadır. Yeni nesil programlanabilir mantık devreleri ve nöromimicking donanımları için dirençli anahtarlama çapraz çubuklarında, temel çalışma mekanizmalarını ve pratik uygulanabilirliklerini ortaya çıkarmak için önemli uygulamalara sahiptir.

Karışık Fazlı a -VOx'e Dayalı Asimetrik Çapraz Çubukların Önyargılı ve İmalatlı Yerinde İletim Elektron Mikroskopisi

Hiyerarşik ve bimodal gözenek boyutu dağılımına sahip nanogözenekli altın, elektrokimyasal ve kimyasal alaşım gidermeyi birleştirerek üretilebilir. Alaşımın bileşimi, alaşım giderme işlemi ilerledikçe EDS-SEM incelemesi ile izlenebilir. Malzemenin yükleme kapasitesi, malzeme üzerindeki protein adsorpsiyonunu inceleyerek belirlenebilir.

Nanogözenekli Altın'da Hiyerarşik Bir Tasarım Üretmek için Çok Yönlü Teknik

Keşfedin anodik alüminyum oksit üretiminde eşzamanlı çoklu yüzey anodizasyon ve merdiven gibi ters önyargı kullanımı. Bu yöntem toksik kimyasallar içermez ve alüminyum alt tabakayı tekrar kullanma olanağı sunar.

Eşzamanlı çoklu yüzey Anodizations ve merdiven gibi ters önyargıları dekolmanı anodik alüminyum oksit içinde sülfürik ve oksalik asit elektrolit (Video) | JoVE Journal

Eşzamanlı çoklu yüzey Anodizations ve merdiven gibi ters önyargıları dekolmanı anodik alüminyum oksit içinde sülfürik ve oksalik asit elektrolit

Daha fazla video keşfet