Waiting
Login-Verarbeitung ...

Trial ends in Request Full Access Tell Your Colleague About Jove
JoVE Journal
Bioengineering

Ein Abonnement für JoVE ist erforderlich, um diesen Inhalt ansehen zu können. Melden Sie sich an oder starten Sie Ihre kostenlose Testversion.

Fokuseret Ionstrålithografi til etch Nano-arkitekturer i Mikroelektroderne
 
Click here for the English version

Fokuseret Ionstrålithografi til etch Nano-arkitekturer i Mikroelektroderne

Article DOI: 10.3791/60004-v 13:49 min January 19th, 2020
January 19th, 2020

Kapitel

Summary

Please note that all translations are automatically generated.

Click here for the English version.

Vi har vist, at ætsning af Nano-arkitektur i intracortical mikroelektrode enheder kan reducere den inflammatoriske respons og har potentiale til at forbedre elektrofysiologiske optagelser. Metoderne beskrevet heri skitserer en tilgang til etch Nano-arkitekturer i overfladen af ikke-funktionelle og funktionelle enkelt skaft silicium intracortical mikroelektroder.

Tags

Bioteknik fokuseret ionstråle litografi intracortical mikroelektrode Nano-arkitektur Elektrofysiologi neuroinflammation biokompatibilitet
Read Article

Get cutting-edge science videos from JoVE sent straight to your inbox every month.

Waiting X
Simple Hit Counter