Soft litografi funksjonalisering og Mønster Oxide-free Silisium og Germanium

Her beskriver vi en enkel metode for mønster oksid-free silisium og germanium med reaktive organiske monolayers og demonstrere funksjonalisering av mønstrede substrater med små molekyler og proteiner. Tilnærmingen beskytter fullstendig overflater fra kjemisk oksidasjon, gir presis kontroll over funksjonen morfologi, og gir lett tilgang til kjemisk diskriminert mønstre.