Waiting
登录处理中...

Trial ends in Request Full Access Tell Your Colleague About Jove
Journal / Engineering / Selectieve Area Wijziging van Silicon Surface…
JoVE Journal
Engineering

需要订阅 JoVE 才能查看此 内容. 登录或开始免费试用。

JoVE Journal Engineering
Selectieve Area Wijziging van Silicon Surface Bevochtigbaarheid door Pulsed UV Laser bestraling in Liquid Milieu
Casting Protocols for the Production of Open Cell Aluminum Foams by the Replication Technique and the Effect on Porosity
Journal (Engineering)
Casting Protocols for the Production of Open Cell Aluminum Foams by the Replication Technique and the Effect on Porosity
High-resolution Thermal Micro-imaging Using Europium Chelate Luminescent Coatings
Journal (Engineering)
High-resolution Thermal Micro-imaging Using Europium Chelate Luminescent Coatings
 
Click here for the English version

Selectieve Area Wijziging van Silicon Surface Bevochtigbaarheid door Pulsed UV Laser bestraling in Liquid Milieu

Article DOI: 10.3791/52720-v • 08:48 min • November 9th, 2015
November 9th, 2015 •
1, 1, 1
1Laboratory for Quantum Semiconductors and Photon-based BioNanotechnology, Interdisciplinary Institute for Technological Innovation, Laboratoire Nanotechnologies Nanosystèmes (LN2)- CNRS UMI-3463, Faculty of Engineering, Université de Sherbrooke

章节

总结概括
Automatic Translation

Please note that all translations are automatically generated.

Click here for the English version.

We rapporteren op een werkwijze in situ verandering van HF behandelde Si (001) oppervlak in een hydrofiel of hydrofoob toestand door bestralen monsters microfluïdische kamers gevuld met H 2 O 2 / H2O-oplossing (0,01% -0,5%) en methanol oplossingen met behulp van UV-gepulste laser van een relatief lage hartslag Fluence.

Tags

Engineering Silicon oppervlakte bevochtigbaarheid interactie laser-oppervlakte selectieve gebied verwerking excimerlaser X-ray foto-elektron spectroscopie contact hoek
Read Article

Get cutting-edge science videos from JoVE sent straight to your inbox every month.

Waiting X
Simple Hit Counter