二氧化钒的原子层沉积及温度依赖性光学模型

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2018年5月23日

10.3791/57103-v

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通过原子层沉积(ALD)在蓝宝石衬底上制备了二氧化钒(VO2)的薄膜(100–1000 Å)。随后,表征了VO2在金属-绝缘体相变过程中的光学性质。基于测得的光学性质,建立了描述VO2可调折射率的模型。

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0:04

Title

0:56

Atomic Layer Deposition (ALD) of Amorphous Vanadium Dioxide (VO2 ) on Sapphire Substrates

3:06

Annealing Amorphous VO2 Thin Films

4:45

Characterization of VO2 Films by Raman Spectroscopy

5:43

Characterization of VO2 Films by X-Ray Photoelectron Spectroscopy (XPS)

7:31

Morphological Characterization by Atomic Force Microscopy (AFM)

9:06

Results: Characterization of Amorphousand Crystalline VO2 Films

10:49

Conclusion

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