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2023年6月13日
2023年6月13日
•ナノスケールの分解能による大規模なサンプル検査は、特にナノ加工された半導体ウェーハにおいて、幅広い用途があります。原子間力顕微鏡は、この目的のための優れたツールとなり得ますが、イメージング速度によって制限されます。本研究では、AFMに並列アクティブカンチレバーアレイを採用し、ハイスループットかつ大規模な検査を可能にしています。
Chapters in this video
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Introduction
1:23
Instrument Calibration, Experimental Setup, and Parameter Tuning for Semiconductor Wafer Topography Imaging with AFM
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