후 각 디스플레이 대 한 표면 어쿠스틱 웨이브-분무기 효율의 향상 방법

이 방법은 인적 인터페이스 필드의 주요 질문에 답하는 데 도움이 될 수 있습니다. 예를 들어 후각 가상 현실과 관련된 많은 사람들이 있습니다. 우리 시스템에서 마이크로 디스펜서는 나노 리터 방울몇 방울을 표면에 대고 있습니다.

그런 다음 표면 음향 파가 분할되어 물방울을 분화하여 냄새를 빠르게 제시합니다. 이 메서드의 시각적 데모는 최적화 동작을 표시하는 데 매우 중요합니다. 후각 디스플레이에 대한 표면 음향 파 장치를 준비합니다.

이 장치에는 압전 기판의 한쪽 끝에 반사판이 있는 서로 구분된 트랜스듀서가 있습니다. 추가 세부 사항은이 회로도에 있습니다. 트랜스듀서 영역에는 21개의 손가락 쌍이 있습니다.

반사판에는 32개의 손가락 쌍이 있습니다. 원자화 영역은 파란색으로 표시됩니다. 아미노 기반 의 질레인 커플링 에이전트를 준비하고 옆으로 넣어.

격리하기 전에 아세톤에 젖은 면봉으로 장치를 청소하십시오. 완료되면 장치를 딥 코터에 가져가서 부착하십시오. 원자화 영역이 침지되도록 장치를 방향을 지정합니다.

다음으로, 딥 코터와 함께 사용할 수있는 시레인 커플링 솔루션을 배치합니다. 그런 다음 장치를 낮추어 원자화 영역을 침지합니다. 균일한 필름 코팅을 얻기 위해 침지 속도를 느리고 일정하게 유지하는 것이 중요합니다.

장치를 5분 동안 솔루션에 보관하십시오. 솔루션을 벗어나 장치를 올립니다. 장치를 5분 동안 공중에 두십시오.

그런 다음 딥 코터에서 장치를 제거하고 1 분 동안 순수한 물로 헹구습니다. 그런 다음 장치를 동일한 방향으로 딥 코터로 전환합니다. 딥 코터에서 사일리제이스 제를 제거합니다.

용매에서 비정질 테프론 재료를 준비하기 위해 계속 이동합니다. 딥 코터에 용액을 가져 가서 사용하기 위해 위치에 놓습니다. 원자화 영역을 침지하기 위해 장치가 장착되어 있는지 확인합니다.

모든 것이 준비되면 장치를 낮춥춥습니다. 원자화 영역을 15초 동안 솔루션에 보관합니다. 솔루션을 벗어나 장치를 올립니다.

장치를 5분 동안 공중에 두십시오. 장치를 두 번째로 솔루션으로 낮추고 15초 기다립니다. 그런 다음 장치를 들어 올리고 30 분 동안 공중에 둡니다.

다음으로 딥 코터에서 장치를 제거합니다. 60분 동안 굽기 위해 섭씨 180도의 핫 플레이트에 놓습니다. 실험을 위해 SAW 장치를 준비합니다.

알루미늄 호일과 전도성 페이스트를 사용하여 알루미늄 인쇄 회로 기판에 장착합니다. 다음으로, 장치와 함께 회로 기판을 플랫폼에 장착합니다. 기능을 발전기에 의해 구동되는 RF 전원 증폭기에 장치를 연결합니다.

RF 버스트 신호의 파형을 10%의 듀티 사이클로 죄파로 설정합니다. 파 주파수를 표면 음향 파 장치 진동 주파수로 설정합니다. 다음으로 버스트 사각 파 발생기를 연결하여 24볼트 펄스 신호를 마이크로 디스펜서로 사용되는 솔레노이드 밸브에 연결할 수 있습니다.

마이크로 에어 펌프를 설치하여 저수지에서 마이크로 디스펜서로 유체를 구동합니다. 공기 펌프를 사용하여 마이크로 디스펜서가 최적화를 위해 액체로 채워지도록 보장합니다. 장치로 원자화를 공부하십시오.

유리병에 액체를 넣고 셋업에 넣습니다. 공기는 마이크로 에어 펌프의 동작을 통해 유리병에 들어갑니다. 유리병의 유체는 솔레노이드 밸브로 이동합니다.

밸브는 장치의 원자화 영역에 액체를 분배하도록 설정됩니다. 솔레노이드 밸브에 적용된 펄스 신호의 파형을 설정합니다. 함수 생성기를 사용하여 10%의 듀티 사이클을 사용하여 제곱파 펄스 서열을 설정합니다.

장치의 표면을 관찰합니다. 시간이 지남에 따라 펄스 서열은 원자화를 위한 큰 액적을 형성합니다. 액적을 원자화하기 위해 필요한 기간 동안 장치에 RF 버스트 신호를 적용합니다.

장치의 표면을 관찰하고, 원자화를 목격하고, 나머지 액체 방울을 검사한다. 시스템이 준비되면 향기를 감지할 사람을 모집하십시오. 사람이 원자화 영역 앞에 20~30센티미터 의 코를 가지고 앉게 하십시오.

분무기의 높이를 참가자의 코 수준으로 조정합니다. 액체를 장치에 분배하고 원자화합니다. 참가자가 향기를 감지하도록 허용합니다.

베어 리튬 니오바테 표면의 이 상단 보기에서 에탄올의 마이크로리터 하나가 박막으로 퍼졌습니다. 대조적으로, 코팅된 장치 표면의 이 측 뷰는 액적의 형성을 보여줍니다. 이것은 맨표면에 있는 물의 마이크로리터 액적입니다.

그것은 결국 얇은 필름으로 확산. 코팅 된 표면에 물 방울이 지속되었습니다. 이 순서에서 라벤더의 박막은 코팅되지 않은 표면에 원자화됩니다.

강한 원자화는 액체의 중앙에서 발생하지만 가장자리에서는 발생하지 않습니다. 결국 액체의 일부가 남아 있습니다. 코팅된 표면에 형성된 라벤더 드롭과 유사한 시퀀스는 원자화 중에 농축된 미스트를 나타낸다.

코팅되지 않은 표면과 비교하여 원자화 후 액체가 더 작은 부위에 훨씬 적게 남아 있었습니다. 비정질 테플론 표면의 액체 액적은 거의 완전히 원자화되어 코팅되지 않은 장치에 비해 원자화 효율이 향상되었음을 나타냅니다. 효율성 향상으로 인해 남은 물방울이 적어지므로 가상 환경 후각 디스플레이에서 냄새 지속성 문제를 해결하는 데 도움이 됩니다.

이것은 후각 가상 현실을 실현하는 기본 기술이지만, 다른 감사의 다양한 등장 할 수 있습니다.