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Fabricación de alta densidad, Contacto-Interface plana Electrodos nerviosas para aplicaciones de registro y estimulación
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Fabrication of High Contact-Density, Flat-Interface Nerve Electrodes for Recording and Stimulation Applications
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Fabricación de alta densidad, Contacto-Interface plana Electrodos nerviosas para aplicaciones de registro y estimulación

DOI:
10.3791/54388-v

•

09:35 min

•

October 04, 2016

•

, , , ,
1Neural Engineering Center,Case Western Reserve University, 2Advanced Platform Technology Center,U.S. Department of Veterans Affairs, 3Jordan University of Science and Technology

Chapters

  • 00:05Title
  • 01:02Contact Placements
  • 03:35Embedding the Electrode Components
  • 05:36Applying Shielding and Completing the Electrode
  • 07:45Results: 7.5-Month Study of FINE Electrode Functionality
  • 08:58Conclusion

Summary

Automatic Translation

Automatic Translation

Este artículo proporciona una descripción detallada sobre el proceso de fabricación de un electrodo del nervio interfaz plana de contacto alta densidad (FINA). Este electrodo está optimizado para la grabación y la estimulación de la actividad neuronal selectiva dentro de los nervios periféricos.

Tags

Flat-interface Cuff ElectrodesNeural InterfaceNeuroprostheticsCAD SoftwareLaser CuttingSpot WelderSilicon SheetVacuum ChamberIsotemp OvenReference Contacts

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