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Fabrication of High Contact-Density, Flat-Interface Nerve Electrodes for Recording and Stimulation Applications

Fabricação de alta Contact densidade, eletrodos nervosas Plano de Interface para gravação e estimulação Applications

DOI:
10.3791/54388-v

•

09:35 min

•

October 04, 2016

•

, , , ,
1Neural Engineering Center,Case Western Reserve University, 2Advanced Platform Technology Center,U.S. Department of Veterans Affairs, 3Jordan University of Science and Technology

Chapters

  • 00:05Title
  • 01:02Contact Placements
  • 03:35Embedding the Electrode Components
  • 05:36Applying Shielding and Completing the Electrode
  • 07:45Results: 7.5-Month Study of FINE Electrode Functionality
  • 08:58Conclusion

Summary

Automatic Translation

Automatic Translation

Este artigo fornece uma descrição detalhada sobre o processo de fabricação de um eletrodo de nervo de interface plana de alta contato densidade (FINE). Este eletrodo é otimizado para gravação e estimular a atividade neural seletivamente dentro de nervos periféricos.

Tags

Flat-interface Cuff ElectrodesNeural InterfaceNeuroprostheticsCAD SoftwareLaser CuttingSpot WelderSilicon SheetVacuum ChamberIsotemp OvenReference Contacts

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