Caratteristiche di incapsulamento e di permeabilità di plasma particelle polimerizzate Hollow

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August 16th, 2012

10.3791/4113-v

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Abbiamo usato maggiore plasma deposizione di vapore chimico per depositare pellicole sottili che variano da pochi nm a 100 nm su diverse particelle nanodimensionate di vari materiali. Abbiamo successivamente etch del materiale del nucleo per produrre nanoshells cave cui permeabilità è controllata dallo spessore del guscio. Abbiamo caratterizzano la permeabilità di questi rivestimenti piccoli soluti e dimostrano che queste barriere possono fornire un rilascio prolungato del materiale del nucleo più giorni.

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Plasma Polymerization

Chapters in this video

0:05

Title

1:37

Preparation of Silica Nanoparticles for Deposition

2:23

Preparation of the Vacuum System

2:47

Plasma Deposition Process

4:27

Preparation of Hollow Particles by Dissolution of Core Material

5:36

Characterization of Permeability (Rate of Core Release)

6:56

Results: Plasma Polymerized Hollow Particles

8:40

Conclusion

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