Charakterystyka enkapsulacji i przepuszczalności pustych cząstek polimeryzowanych plazmowo

10.2K views

Cited by 1

09:27 min

August 16th, 2012

10.3791/4113-v

August 16th, 2012

10.2K views

Użyliśmy plazmowego chemicznego osadzania z fazy gazowej do osadzania cienkich warstw o długości od kilku nm do kilku 100 nm na nanocząstkach różnych materiałów. Następnie wytrawiamy materiał rdzenia, aby wytworzyć puste w środku nanopowłoki, których przepuszczalność jest kontrolowana przez grubość powłoki. Charakteryzujemy przepuszczalność tych powłok dla małych substancji rozpuszczonych i wykazujemy, że bariery te mogą zapewnić trwałe uwalnianie materiału rdzenia przez kilka dni.

Explore More Videos

Plasma Polymerization

Chapters in this video

0:05

Title

1:37

Preparation of Silica Nanoparticles for Deposition

2:23

Preparation of the Vacuum System

2:47

Plasma Deposition Process

4:27

Preparation of Hollow Particles by Dissolution of Core Material

5:36

Characterization of Permeability (Rate of Core Release)

6:56

Results: Plasma Polymerized Hollow Particles

8:40

Conclusion

Related Videos