Summary
미 끄 러운 표면 접착 문제를 해결 하기 위해 새로운 방법을 제공 합니다. 이 프로토콜에는 높은 온도에서 미 끄 러운 표면 조작 하는 방법을 설명 합니다. 결과 미 끄 러운 표면 액체 및 높은 온도에서 부드러운 조직에 대 한 놀라운 방지 접착 효과가 반대로 일로 보여 보여 줍니다.
Abstract
높은-온도 저항와 반대로 접착 표면 electrosurgical 악기, 엔진, 및 파이프라인에 잠재적인 넓은 신청이 있다. 전형적인 안티 일로 superhydrophobic 표면 쉽게 과열 액체에 노출 되 면 실패 합니다. 최근, 네-영감 을된 미 끄 러운 표면 접착 문제를 해결 하는 새로운 방법을 설명 했다. 미 끄 러운 표면에 윤 활 유 레이어 격퇴 재료와 표면 구조 사이의 장벽으로 작동할 수 있다. 그러나, 이전 연구에서 미 끄 러운 표면 거의 높은-온도 저항을 보였다. 여기, 우리는 높은-온도 저항와 미 끄 러운 표면의 준비에 대 한 프로토콜을 설명합니다. 포토 리소 그래피를 이용한 방법은 스테인레스 스틸 기둥 구조를 조작 하 사용 되었다. 식 염 수와 표면, functionalizing에 의해 미 끄 러운 표면 실리콘 오일을 추가 하 여 준비 되었다. 준비 미 끄 러운 표면 표면 300 ° c.에가 열 되었다 하는 경우에, 물에 대 한 안티 일로 속성 유지 또한, 미 끄 러운 표면 높은 온도에서 부드러운 조직에 큰 방지 접착 효과 전시. 이 유형의 스테인리스에 미 끄 러운 표면 응용 의료 기기, 기계 장비, 등등있다.
Introduction
액체와 부드러운 조직 사용 하기 위해 높은 온도에서 방지 접착 표면 electrosurgical 악기에 잠재적인 그들의 광범위 한 응용 프로그램 때문에 상당한 관심을 받은 엔진, 파이프라인 등 1 , 2 , 3 , 4. Bioinspired 표면, 특히 superhydrophobic 표면, 그들의 우수한 젖 음 방지 능력 및 셀프 클리닝 속성5이상적인 선택으로 간주 됩니다. Superhydrophobic 표면 방지 습윤 능력 표면 구조에 잠긴된 어 관찰 한다. 그러나 캐시 박스 상태6,7에 있기 때문에, superhydrophobic 상태가 안정 되지 않습니다. 또한, 높은 온도에서 액체 작은 물방울에 대 한 안티 일로 Wenzel 상태8캐시 백스터에서 습윤 상태 전환 때문에 실패할 수 있습니다. 이 일로 전환 작은 액체 방울 젖 음 구조, 장소에서 공기를 잠그려면 실패 귀착되는 의해 유도 된다.
최근, 투 수 식물, 네의 peritome의 미 끄 러운 속성에 의해 영감 왕 외. 보고 표면 구조9,10에 윤활제를 주입 하 여 미 끄 러운 표면을 구성 하는 개념 ,11. 모 세관 힘으로 인해 구조는 superhydrophobic 표면에 잠긴된 공기 주머니와 마찬가지로 장소에 단단히 윤 활 유를 저장할 수 있습니다. 따라서, 윤활제 및 표면 구조는 안정적인 고체/액체 표면을 형성할 수 있다. 복합 표면에 액체 작은 물방울만 매우 낮은 접촉 각 히스테리시스 쉽게 슬라이드 수 윤 활 유는 표면 구조에 대 한 특혜 선호도 때 (예를 들어, ~ 2 °)12. 이 윤 활 유 레이어는 또한 놀라운 안티 일로 기능13, 의료 기기14,15을 위한 큰 잠재력을 보여주는 하 표면 수 있습니다. 그러나, 미 끄 러운 표면에 이전 연구는 주로 상 온 또는 저온에서 응용 프로그램에 대 한 준비에 집중. 높은-온도 저항와 미 끄 러운 표면 준비에 매우 몇 가지 연구 있다. 예를 들어 장 외. 윤활제의 급속 한 증발 빠르게도 약간 높은 온도16미 끄 러운 속성의 실패 원인으로 나타났다.
높은-온도 저항와 미 끄 러운 표면 잠재적인; 응용 프로그램 확대 수 있습니다. 예를 들어 그들은 부드러운 조직 접착 electrosurgical 악기 팁 감소 액체 장벽으로 사용할 수 있습니다. 외과 수술 중 심한 연 조직 접착 electrosurgical 악기 팁의 높은 온도 때문에 발생합니다. 부드러운 조직, 다음 팁17,,1819주위 연 조직 눈물 악기 끝에 그것을 일으키는 까맣게 수 있습니다. Electrosurgical 악기 끝에 준수 부드러운 조직 작업에 부정적인 영향을 하 고 또 hemostasis19,20의 실패를 일으킬 수 있습니다. 이러한 효과 크게 해 사람들의 건강 및 경제 관심사를. 따라서 electrosurgical 악기 연 조직 접착의 문제 해결은 매우 긴급입니다. 사실, 미 끄 러운 표면이이 문제를 해결 하는 기회를 제공 합니다.
여기, 선물이 미 끄 러운 표면 고온에서 사용할 수를 조작 하는 프로토콜. 스테인레스 스틸 표면 물자로 그것의 높은-온도 저항 때문에 선정 되었다. 스테인레스 스틸은 포토 리소 그래피를 이용한 화학 에칭에 의해 roughened. 다음, 표면 했다 기능성 생체 소재, 염 분 octadecyltrichlorosilane (OTS)21,22,,2324. 미 끄 러운 표면 실리콘 오일을 추가 하 여 준비 되었다. 이러한 자료는 높은-온도 저항을 달성 하기 위해 미 끄 러운 표면을 사용할 수 있습니다. 높은 온도 부드러운 조직에 방지 접착 효과에서 반대로 흐른다 속성 조사 되었다. 결과 높은 온도에서 방지 접착 문제 해결 하기 위해 미 끄 러운 표면 사용의 잠재력을 보여.
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Protocol
1입니다. 스테인레스 스틸 사진 평판
- 기계 드로잉 소프트웨어를 사용 하 여 포토 마스크를 디자인 하 고 디자인 포토 마스크 프린터4에 그것을 제출 하 여 조작.
- 워시 스테인레스 스틸 (316 SS; 길이 x 폭: 4 cm x 4 cm, 두께: 1mm) 알카라인 솔루션 (50 g/L NaOH와 40 g/L Na2CO3) 기름 오염 물질을 제거 하는 15 분 동안 실내 온도에서 그것을 rinsing 하 여.
- 철저 하 게 초음파 청소 초음파 청소 기계에 수행 하 여 스테인리스를 청소 (작동 주파수: 40 KHz 초음파 전력: 500 W). 순차적으로 이온된 수, n-헥 산, 아세톤, 그리고 10 분에 대 한 에탄올으로 씻어.
- 에 배치 하 여 그것은 뜨거운 접시 30 분 보호에 대 한 150 ° C에서 스테인리스 알루미늄 (Al) 호 일의 시트와 함께 그것을 취재 하 여 스테인레스 스틸을 건조.
- 스테인리스 스틸 스핀 coater의 중앙에 놓습니다. Dropper를 사용 하 여는 포토 레지스트를 완전히 스테인레스 스틸 커버까지 가장자리에 센터에서 스테인레스 스틸에 긍정적인 감광 제 (약 1 mL)을 입금. 포토 레지스트에 거품 형성을 하지 마십시오.
- 스핀-코팅, 처음 6 700 rpm/min의 속도와 수행 s, 스핀 사이클을 시작 하 고 다음 15 1500 rpm/min의 속도 s는 포토 레지스트를 균등 하 게 확산.
- 진공 밸브를 해제 하 고 스테인리스 핀셋의 쌍을 사용 하 여 검색 합니다. 구워는 포토 레지스트를 2 분 동안 120 ° C에서 핫 플레이트에 스테인리스 스틸을 놓습니다.
- 장소는 포토 리소 그래피 시스템의 진공 밸브에 스테인리스. 사진 평판 컴퓨터의 노출 시간을 25로 설정 s.
참고: 여기, 사진 평판 기계는 254의 자외선 (UV) 빛 파장 연락처 aligner 및 13 mW/cm2의 광도. - 스테인레스 스틸 놓고 개발자 솔루션 UV 빛에 노출 하지 않고는 포토 레지스트를 제거 하는 1 분 동안에. 개발자 솔루션에서 스테인레스 스틸을 제거 하 고 이온을 제거 된 물으로 씻어 N2 가스에서 건조.
- 2 분 동안 120 ° C에서 구워 뜨거운 플레이트에 스테인리스 스틸을 놓습니다.
- 100 x의 확대와 함께 똑바로 현미경을 사용 하 여 얻은 감광 텍스처를 검사 하는 스테인리스의 표면 관찰.
2. 스테인레스 스틸의 화학 에칭
- 화학 에칭 솔루션 500 mL 비 커에 200ml (400 g/L FeCl3, 인산 20 g/L, 및 100 g/L 염 산)의 볼륨을 준비 합니다.
- 10 분 동안 화학 솔루션에 감광 텍스처와 스테인리스를 놓습니다. 스테인리스 스틸 조각 서로 연결할 수 없습니다. 한 번에 최대 4 개의 스테인리스 조각 놓습니다.
- 핀셋을 사용 하 여 화학적으로 에칭된 스테인레스 스틸에서가지고 가십시오, 조각 1 분, 이온을 제거 된 물으로 세척 하 고 N2 가스와 함께 그들을 건조.
- 5 분 동안 초음파 청소 아세톤에 스테인리스 물속 여 감광 텍스처를 제거 합니다. 그런 다음, N2 가스를 화학적으로 에칭된 스테인레스 스틸 건조.
3. 화학적 에칭된 스테인레스 스틸에 자기 조립을 OTS
- 이온된 수의 꾸준한와 화학적 에칭된 스테인리스를 청소 하 고 N2 가스로 건조 완전히 표면 건조 30 분 100 ° C에서 뜨거운 접시에 놓습니다.
- RF 플라즈마 기계, 10 분, 100 mbar의 시스템 압력 및 유량 20 sccm의 100 W의 RF 전력에 O2 플라즈마 치료와 화학적 에칭된 스테인레스 스틸 hydroxylate
- 비 커에 무수 톨루엔에 1mm OTS 솔루션을 준비 합니다. 솔루션 준비 하기 전에 철저 하 게 비 커를 건조.
- 상 온에서 화학적으로 에칭된 스테인레스 스틸 4 h에 대 한 OTS 솔루션 린스. 봉인된 된 봉투에 비 커를 놓습니다. 스테인레스 스틸 조각을 서로 연결할 수 없습니다.
- 스테인레스 스틸을 제거, 10 분, 초음파 청소를 수행 하 여 무수 톨루엔으로 그것을 청소 하 고 N2 가스 건조.
4. 미 끄 러운 표면 준비
- 보증금 약 10 mL/cm2 실리콘 오일 (점도: 350 중부 표준시, 표면 장력: 21.1 mN/m)에 OTS 코팅, 화학적 에칭 스테인리스 dropper를 사용 하 여.
- (10 배 확대) 스테인리스 스틸 표면에 실리콘 오일의 일로 과정을 관찰 하는 광학 stereomicroscope를 사용 합니다.
- 1 시간에 대 한 수직 위치에 스테인리스 스틸을 배치 하 여 초과 실리콘 기름을 제거 합니다.
5. 물 미 끄 러운 표면에 행동을 슬라이딩의 조사
- 미 끄 러운 표면에 물방울 4 µ L를 입금. 광학 현미경 스테인리스 놓고 기판 ~ 2 ° 기울기.
- 미 끄 러운 표면에는 쉬운 슬라이딩 속성이 확인 낮은 확대 (50 x)에 미 끄 러운 표면에 슬라이딩 하는 물방울을 시각화.
6. 높은 온도에서 미 끄 러운 표면에 반대로 일로의 분석
- 미 끄 러운 표면 가진 스테인리스 핀셋을 사용 하 여 뜨거운 접시에 놓습니다. 다른 높은 온도 (즉, 200 ° C, 250 ° C, 및 300 ° C) 다른 온도에 안티 일로 동작 분석 하에 핫 플레이트를 설정 합니다.
참고:는 직접 손으로 높은 온도 스테인리스 만지지 마십시오. - 마이크로 주사기를 사용 하 여 미 끄 러운 표면에 10 µ L 물방울을 입금.
참고: 물 방울을 삭제 하기 전에 미 끄 러운 표면 온도 평형을 도달 한다. - 고속 카메라를 사용 하 여 500 Hz의 프레임 속도로 물 방울 움직임을 기록.
- 삼각대에 카메라를 수정 하 고 스테인레스 스틸으로 카메라의 렌즈를 직접. 맑은 물 물방울 이미지를 카메라의 초점을 조정 합니다. 카메라의 시작 버튼을 누르면 스테인리스 스틸 표면에 물방울의 움직임을 기록 합니다. 때 물 방울 슬라이드에서 녹음을 완료 스테인레스 스틸 카메라의 끝 버튼을 눌러.
7. 미 끄 러운 표면 연 조직에의 반대로 접착 효과의 분석
- 조작자를 사용 하 여, 그림 3a에서와 같이 측정 플랫폼4를 강제 하는 동력 계, 핫 플레이트 및 고정 기구는 접착을 설정 하려면.
- 핫 플레이트에 테스트 표면을 놓습니다. 클램프를 사용 하 여 접시에 스테인레스 스틸을 해결 하기 위해. 특정 높은 온도 테스트 표면이 열 (예를 들어, 300 ° C).
참고: 테스트 표면 밀접 하 게 미 끄 러운 표면에 효율적인 열 전송 되도록 핫 플레이트를 문의 해야 합니다. - 조작자에 동력을 수정 합니다. 실린더의 테이블 연결 (직경: 2 cm) 부드러운 조직으로 힘 머리 고정 플랫폼.
- 부드러운 조직 수정 (예를 들어, 닭 가슴살, 길이: 5 cm, 폭: 2cm, 두께: 3mm) 얇은 와이어를 사용 하 여 실린더 테이블에. 연 조직 표면 인지 확인 대략도.
- 동력 계는 조작자의 모션 버튼을 회전 하 여 특정 최대 힘 (예를 들어, 4.5 N)에 도달할 때까지 1 m m/s의 속도에서 테스트 표면에 부드러운 조직을 로드 합니다. 그런 다음, 같은 속도로 부드러운 조직 언로 드.
- 데이터 전송 라인을 사용 하 여 동력 계에 컴퓨터를 연결 하 고 부드러운 조직 및 테스트 표면 사이 실시간 힘을 기록 합니다.
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Representative Results
미 끄 러운 표면 실리콘 기름 OTS 코팅, 화학적 에칭 스테인레스 스틸에 추가 하 여 준비 되었다. 때문에 그들의 유사한 화학 속성을 표면 완전히 실리콘 오일에 의해 접촉 되었다. 일로 과정 그림 1a에 표시 됩니다. 빨간 점선 일로 라인을 표시합니다. 젖 음, 후 눈에 보이는 기름 층 건조 표면에서 구별 될 수 있습니다. 준비 미 끄 러운 표면에의 미 끄 러운 속성 약 2 °의 각도와 미 끄 러운 표면에는 물방울을 입금 하 여 조사 했다. 그림 1b 미 끄 러운 표면에 제자리에서 물 물방울 움직임을 보여줍니다. 노란 점선 표시 연락처 선 고 결과 보여 물방울 부동 하 고 미 끄 러운 표면에 슬라이딩.
높은 온도에서 물방울에 준비 미 끄 러운 표면의 안티 일로 행동 조사 했다. 미 끄 러운 표면은 다른 온도에 열 하 고 물방울은 표면에 예금 되었다. 200 ° C (그림 2a)에서 물 물방울 먼저 단단히 표면 접촉 하 고 드롭릿에 표면 사이의 접촉 영역 감소. 약 6200 ms 후 물 방울 표면에서 슬라이드 시작 했다. 250 ° C (그림 2b)에서 물 물방울 표면으로 아주 작은 초기 접촉 영역을 했다. 약 800 ms 후 물 방울 표면에서 슬라이드 시작 했다. 300 ° c (그림 2c), 물 방울 불안정 접촉 후 즉시 입금 하 고 급속 하 게 미 끄 러운 표면에서 그냥 250 ms 후 미 끄 러 했다.
반대로 접착 효과의 부드러운 조직에 미 끄 러운 표면 접착 힘을 측정 하 여 평가 되었습니다. 우리는 (그림 3a) 난방 및 조작 시스템을 결합 하 여 접착 힘 측정 플랫폼을 설정 합니다. 부드러운 조직 조작자에 연결 되었다, 동력 계에 고정 하 고 테스트 표면 핫 플레이트에 고정 되었다. 닭 가슴살은 순수한 조직 때문에 대표로 선정 되었다. 4.5 N의 압력에서 테스트 표면에 부드러운 조직, 로드 후 언로드 프로세스 사이의 부드러운 조직 및 테스트 표면 접착 힘 생성. 결과 그림 3b에 표시 됩니다. 접착 힘 각각 0.80 ± 0.04와 0.18 N ± 0.02 N 매끄러운 스테인리스 스틸 및 미 끄 러운 표면에 있었다. 원활한 스테인레스 스틸 표면에 그에 비해 미 끄 러운 표면에 크기 순서에 의해 감소 접착 힘.
그림 1입니다. 미 끄 러운 표면 및 그것의 미 끄 러운 속성의 형성 과정. (A) 화학적 에칭 과정 OTS 코팅에 실리콘 오일의 일로 스테인리스. 표면은 OTS 분자 레이어와 실리콘 기름 사이 유사한 화학 속성으로 인해 실리콘 오일에 의해 완전히 접촉 될 수 있다. (B) 물방울 실리콘 기름에 및 그것의 쉬운 슬라이딩 속성을 보여주는. 스테인리스는 약 2 °의 기울기 각도가 있다. 이 그림의 더 큰 버전을 보려면 여기를 클릭 하십시오.
그림 2입니다. 높은 온도에서 물 물방울과 미 끄 러운 표면의 안티 일로 동작. 물 물방울 운동 다른 높은 온도에서 수평 미 끄 러운 표면에 예금 되 고 후: (A) 200 ° C, (B) 250 ° C, 및 (C) 300 ° c. 모든 물방울 미끄러져 미 끄 러운 표면에서 특정 시간 및 슬라이드 물방울에 대 한 필요한 시간 후 멀리 표면 온도 증가 함께 감소. 이 그림의 더 큰 버전을 보려면 여기를 클릭 하십시오.
그림 3입니다. 높은 온도에서 부드러운 조직으로 미 끄 러운 표면 방지 접착 평가. 접착 힘 측정 플랫폼의 (A) 회로도 부드러운 조직 한 동력 계에 연결 된 조작자를 사용 하 여 테스트 표면에 로드 되었습니다. 접착 힘 컴퓨터에 전송 되었습니다. (B) 접착 연 조직 및 테스트 표면 사이 힘. 300 ° c 표면 온도에서 테스트 표면에 부드러운 조직을 로드 미 끄 러운 표면에 접착 힘에 매끄러운 스테인리스 스틸 표면에 비해 크기는 순서에 대 한 감소 했다. 오차 막대 표시 평균 표준 편차 (SD) 있습니다. 이 그림의 더 큰 버전을 보려면 여기를 클릭 하십시오.
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Discussion
이 원고는 높은-온도 저항와 미 끄 러운 표면 날조를 위한 프로토콜을 자세히 설명 합니다. 우리의 준비 된 표면의 미 끄 러운 속성은 물방울의 쉬운 슬라이딩 동작을 관찰 하 여 시연 했다. 그런 다음, 다른 높은 온도에 준비 미 끄 러운 표면의 안티 일로 뜨거운 표면에는 물방울을 입금 하 여 조사 했다. 결과 표시 준비 미 끄 러운 표면에 그것의 미 끄 러운 속성 유지 그것 300 ° c.의 위가 열 하는 경우에 우리는 또한의 부드러운 조직에 미 끄 러운 표면 방지 접착 효과 결정합니다.
Superhydrophobic 표면 달리 미 끄 러운 표면에 표면 구조 생긴된 윤 활 유에 대 한 지주 구조 역할을 합니다. 에 따르면 이전 연구25의 경우, 실리콘 오일에 대 한 OTS 코팅 표면의 우선 선호도 때문에 물 방울 것 플 로트 실리콘 오일 주입 표면 구조에, 그림 1B에서 시연으로. 게다가,이 액체/액체/고체 인터페이스 제공 표면 매우 낮은 접촉 각 히스테리시스 혼합할 수 없는 액체 작은 물방울 실리콘 오일 합니다. 따라서, 물 방울으로 준비 미 끄 러운 표면에 쉽게 슬라이드 수 있습니다.
스테인리스 기판, 기능성된 레이어 OTS, 그리고 주입된 실리콘 오일의 우수한 높은-온도 저항, 때문에 준비 미 끄 러운 표면에 매우 높은 온도에서 미 끄 러운 속성을 유지할 수 있습니다. 높은 온도에서 물 방울 표면에 미 끄 러 지지 않는 그러나, 그것은 표면에 롤 수 있습니다. 결과는 Leidenfrost 효력26에 관찰 될 수 있다. 높은 온도에서 실리콘 기름 및 물 증발, 그리고 수증기는 물방울과 실리콘 오일 층 사이 증기 층을 형성 수 있습니다. 사실, 실리콘 기름과 물 방울의 증발 온도 증가 함께 증가. 따라서, 더 높은 온도에서 공기 층은 물 방울와 실리콘 오일 사이의 직접 접촉을 방지 하기 위해 향상 된 기능이 있습니다. 마찬가지로 300 ° C (그림 2C)에서 표면에 물방울, 물 방울 거의에 떠내려 공기 레이어. 접촉은 매우 안정 하 고 따라서 그것은 빠르게 미끄러져 표면.
윤 활 유 레이어 또한 부드러운 조직에 대 한 방지 접착 장벽으로 작동할 수 있습니다. 접착 힘 측정 플랫폼의 부드러운 조직에 미 끄 러운 표면 방지 접착 효과 조사 하기 위해 세워졌다. 순수한 조직 때문에 닭 가슴살 실험 부드러운 조직으로 선정 됐다. 연 조직 및 미 끄 러운 표면에 매끄러운 스테인리스 스틸 표면에 로드 되었습니다. 결과 접착의 상당한 감소를 입증 (즉, 0.80 ± 0.18 N에 매끄러운 표면에서에서 미 끄 러운 표면에 0.04 ± 0.02 N) 미 끄 러운 표면에 강제로. 이 개념은 electrosurgical 악기에 부드러운 조직 접착 문제 해결에 대 한 새로운 통찰력을 제공 합니다. 때문에 실리콘 오일과 OTS 생체22,27, 우리의 방법은 monopolar 메스 등 초음파 메스 electrosurgical 악기에 적용할 수 있습니다.
또한, 우리의 방법은 매우 간단 합니다, 그리고 그것은 더 단순화 될 수 있다. 기둥 구조를 더 실리콘 오일, 표면 수 있습니다 그리고 더 많은 실리콘 오일 부드러운 조직에 대 한 장벽으로 효율적으로 작동할 수 있습니다. 그러나, 경우에 물방울의 방지 습윤에 대 한 사용 하는 경우 등 많은 실리콘 오일에 대 한 필요가 없습니다 스테인리스 수 수 직접 roughened 화학 에칭에 의해. 단순화 된 방법 간단 이며 곡선된 표면을 포함 하 여 다양 한 표면 종류에 적용할 수 있습니다. 그것은 실리콘 기름 표면 높은 온도에 열 하 고 미 끄 러운 속성은 특정 시간 후 실패 마지막으로 증발 할 것 이다 주목 해야한다. 하지만 표면에 실리콘 오일을 추가 하 여 미 끄 러운 속성을 되 찾을 것입니다. 우리의 프로토콜의 중요 한 단계는 미 끄 러운 표면의 최종 미 끄 러운 속성 결정 표면 구조에 OTS 코팅의 준비 합니다. 따라서, OTS 어셈블리 단계는 신중 하 게 수행 되어야 한다.
미 끄 러운 표면 자정, 반대로 접착, 착 빙 방지를 달성 하기 위해 신흥 기능 표면, 등등있습니다. 그것은 쉬운 제작, 다른 액체, 좋은 압력 안정성, 및 치유에 대 한 강력한 repellence를 포함 하는 많은 이점이 있다. 우리의 간단한 방법은 높은-온도 저항와 미 끄 러운 표면을 구성 하는 방법을 제공 합니다. 우리는 제안된 된 방법에서 의료 기기, 엔진, 뜨거운 물 파이프라인 등 미 끄 러운 표면 응용 하면 믿는다
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Disclosures
저자는 공개 없다.
Acknowledgments
이 일과 국립 자연 과학 재단의 중국 (보조금 번호 51290292)에 의해 지원 되었다 박사 학위 학생 들을 위한 BUAA의 학문적 우수성 재단에 의해 또한 지원 되었다.
Materials
| Name | Company | Catalog Number | Comments |
| Stainless steel | Hongtu Corporation | 316 | Use as received |
| Octadecyltrichlorosilane | Huaxia Reagent | 112-04-9 | Use as received |
| Photoresist | Kempur Microelectronic Corporation | 317S | Use as received |
| Silicone oil | Beijing Chemical Works | 350 cst | Use as received |
| Anhydrous toluene | Beijing Chemical Works | 108-88-3 | Use as received |
| Phosphoric acid (H3PO4) | Tianjin Chemical Corporation | 7664-38-2 | Use as received |
| Hydrochloric acid (HCl) | Tianjin Chemical Corporation | 7647-01-0 | Use as received |
| Ferric chloride (FeCl3) | Tianjin Chemical Corporation | 7705-08-0 | Use as received |
| Optical upright microscope | Olympus | BX51 | |
| Optical stereo microscope | Olympus | SZX16 | |
| High speed camera | Olympus | i-SPEED LT | |
| Ultrasonic cleaner | KUNSHAN ULTRASONIC INSTRUMENTS CO. LTD | KQ-500E | |
| Dynamometer | Yueqing Handapi Instruments Co. Ltd | HP-5 | |
| Manipulator | Yueqing Handapi Instruments Co. Ltd | HLD | |
| Hot plate | Shenzhen Jingyihuang Corporation | DRB-1 |
References
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