Summary
Aquí, presentamos un protocolo para ilustrar los procesos de fabricación y verificar los experimentos de un semi-three-dimensional (semi-3D) enfoque flujo microfluídicos chip para la formación de gotas.
Abstract
Gotitas de diacrylate (PEGDA) uniforme y tamaño controlables poly (glicol de etileno) podrían ser producidas por el flujo que centra el proceso en un dispositivo de microfluidos. Este trabajo propone un semi-three-dimensional (semi-3D) enfoque flujo microfluídicos chip para la formación de gotas. El chip de polidimetilsiloxano (PDMS) se fabricó utilizando el método de litografía blanda en múltiples capas. Hexadecano que contiene surfactante se utilizó como fase continua, y PEGDA con el ultravioleta (UV) foto iniciador fue la fase dispersa. Tensioactivos permitieron la tensión de superficie local a y forman una punta más lobulada que se rompe en pequeñas gotitas de micro. Como constante la presión de la fase dispersa, el tamaño de las gotas se convirtieron en más pequeño con la creciente presión de la fase continua antes de la fase dispersa flujo fue interrumpido. Como resultado, gotas con variación de tamaño de 1 μm a 80 μm de diámetro podrían lograrse selectivamente cambiando el cociente de la presión en dos canales de entrada, y se estimó el coeficiente promedio de variación por debajo de 7%. Además, las gotas podrían convertirse en micro cuentas por la exposición Ultravioleta para foto polimerización. Conjugación de biomoléculas en tal superficie micro cuentas tienen muchas aplicaciones potenciales en los campos de la biología y la química.
Introduction
Sistemas microfluídicos basada en gotas tienen la capacidad de producir altamente monodispersa gotitas de nanómetros a micrómetro de diámetro rango1 y gran potencial en el alto rendimiento drogas discovery2, síntesis de biomoléculas3 ,4y el diagnóstico de pruebas5. Debido a las ventajas únicas de gotitas más pequeñas, como la mayor área superficial al cociente del volumen y las aplicaciones a gran escala con el consumo de unos pocos microlitros de muestra, la tecnología ha atraído interés extenso en una amplia gama de campos. La emulsificación de dos líquidos inmiscibles es uno de los métodos más típicos para generar gota. En informes anteriores en el campo, los investigadores han desarrollado una variedad de geometrías de la formación de gotas diferentes, incluyendo cruce, enfoque flujo y flujo Co geometrías. En la geometría del cruce, la fase dispersa se entrega a través de un canal de la perpendicular en el canal principal, en la que la fase continua fluye6,7. En la típica bidimensional (2D) enfoque flujo8,9 geometría, el flujo de la fase dispersa es esquilado de la lateral; y para el co que fluye geometría10,11, por el contrario, un capilar introducción el flujo de la fase dispersa se coloca co-axialmente dentro de un tubo capilar más grande para la geometría que fluye conjuntamente, para que el flujo de la fase dispersa es esquilado de todas las direcciones.
El tamaño de la gota se controla ajustando la proporción de la tasa del flujo y tamaño del canal, y el tamaño mínimo producido por el co que fluye o cruce se limita a decenas de micrómetros. Para flujo de enfoque sistema de formación de gotas, tres modos de desintegración de la gota forman ajustando la relación de presión de dos fases y la concentración de surfactante, incluyendo el goteo régimen, régimen que echa en chorro y streaming de punta15. Modo de transmisión punta también se llama formación del hilo de rosca y la aparición de un fino hilo sacar desde la punta del cono de flujo de la fase dispersa se observará. Estudios anteriores han demostrado gotas menos se podrían generar unos pocos micrómetros aunque streaming punta proceso en 2D o semi-3D enfoque flujo dispositivo8,12. Sin embargo, como una solución acuosa que contiene una concentración muy baja de PEGDA fue utilizada como la fase dispersa, el cociente de la contracción de las partículas PEGDA fue alrededor del 60% de las gotas originales de diámetro después de foto-polimerización, mientras PEGDA sin dilución como el fase dispersa condujo a inestable flujo punta modo12. Tensión interfacial es un parámetro importante del proceso de emulsión y disminuirá debido a la adición de tensioactivo en el líquido de fase continua, conduce a disminución en el tamaño de las gotas, mayor frecuencia de generación13, punta muy curvada, y prevención de la inestabilidad14. Además, cuando la concentración de surfactante a granel es mucho mayor que la concentración micelar crítica, la tensión interfacial es aproximadamente invariable en el estado saturado13 y el modo de transmisión punta puede ocurrir15.
Basado en las observaciones anteriores, en este trabajo, desarrollamos un enfoque simplista para la generación de gotitas PEGDA utilizando un semi-3D enfoque flujo microfluídicos dispositivo, fabricado por el método de litografía blanda en múltiples capas. Diferente del típico enfoque flujo dispositivo 2D, el dispositivo de enfoque de flujo de semi-3D tiene un canal poco profundo fase dispersa y un canal de fase profunda continua, para que la fase dispersa puede ser esquilada de arriba y abajo al lado lateral. Esto proporciona mayor rango de ajuste para modo de enfoque de flujo reduciendo la energía y la presión necesaria para la ruptura de la gota. A diferencia de la anterior informe12, la fase dispersa es puro PEGDAcontaining foto iniciador, asegurándose de que el cociente de la contracción de las partículas PEGDA es menor que 10%16; y la fase continua es la mezcla de hexadecano disolución con una concentración de alto bulto del surfactante no iónico a base de silicona. Gotas de tamaño controlable y uniformes fueron producidas por ajustar la relación de presión de dos fases. El diámetro de las gotitas cambia de 80 μm a 1 μm como la ruptura de la gota procesos de cambios de modo que echa en chorro a modo streaming de punta. Además, la partícula PEGDA fue sintetizada a través de proceso de foto polimerización bajo la exposición Ultravioleta. El sistema de microfluidos de generación de gotas con facilidad de la fabricación ofrecerá más posibilidades para aplicaciones biológicas.
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Protocol
1. fabricación del molde
- Diseño de dos patrones utilizando un software de dibujo. Describir el esquema de la estructura de la MCP y use dos capas separadas, 1 y 2 en el mismo archivo de dibujo de la máscara, así que asegurar todas las conexiones entre diferentes canales. Imprimir diferentes capas independientemente para cromo placa de vidrio por un proveedor con una resolución de 1 μm. Asegúrese de que los patrones son oscuras con estructuras de diseño transparentes, como una polaridad negativa.
Nota: La máscara 1 contiene el canal de entrada de fase dispersa y un orificio. La máscara 2 contiene el canal de entrada de fase continua, el filtro y la salida. - En el laboratorio de Fotolitografía señalado, limpie la oblea de silicio de un diámetro de 3 pulgadas. Colocar la oblea en un recubridor spin, girar en el vacío para fijar la oblea para el mandril de giro. Spin-capa 2-3 mL de photoresist negativo SU-8 2025 sobre la oblea para 10 s a 1.000 rpm, después de 30 s a 3.000 rpm, proporcionando el primer grueso de la capa de 20 μm.
- Suave cuece al horno en una placa de 95 ° C durante 6 minutos. Después de la oblea cubierta se enfríe a temperatura ambiente (RT), exponerlo a través de la máscara 1 bajo una colimación 15 mW/cm2, 365 nm de UV de 18 s. posterior a la exposición, cueza al horno en una placa de 95 ° C durante 6 min., a continuación, permita que la oblea se enfríe a RT.
- Repita el proceso de spin-coating. Aplicar 2-3 mL de SU-8 2100 photoresist negativo sobre la oblea para 10 s a 1.000 rpm, después de 30 s a 2.000 rpm, proporcionando el grueso de la segunda capa de 130 μm. Después de suave cuece al horno en una placa de 95 ° C durante 35 minutos, coloque la máscara 2 en la segunda capa fotoresistencia para exponer durante 30 s, que fue alineada con la capa de canal de fase dispersa de un alineador de rayos UV. Posterior a la exposición, cueza al horno en una placa de 95 ° C por 7 min.
- Desarrollar la oblea por inmersión en un baño agitado de 50 mL de acetato de propilenglicol metil Eter hasta características llegan a estar claras en la oblea, luego lavan con alcohol etílico. Por último, colocar la oblea en la plataforma termostática para hornear durante 2 horas.
2. semi-3D enfoque de flujo de fabricación de Chip de microfluidos
- Monómero de PDMS de mezcla y su agente endurecedor en una proporción ligeramente diferentes para la parte superior y las capas de fondo, típicamente 10:1 para la capa superior y 8:1 para la capa inferior, utilizando agitador automático ungüento durante 4 minutos.
Nota: Las losas superior e inferior PDMS son preparadas en una proporción ligeramente diferente (10:1 y 8:1 respectivamente) de base PDMS para agente de curado, mejorando la fuerza de Unión. Proporción 5:1 es elegido para la capa inferior, la losa PDMS inferior más rígida dificulta la alineación y reduce la fuerza de adhesión debido a la falta de flexibilidad. Además, el espesor de la losa inferior PDMS es aproximadamente de 1 mm para adaptar la distancia de trabajo de microscopio. El chip se deforma fácilmente bajo alta presión cuando se elige la proporción 15:1. - Vierta la mezcla en el molde de silicona terminado en un plato de petri de 90 mm y proporcionan un grueso de 2 ~ 3 m m. colocarlo en una cámara de vacío y desgasificación hasta que desaparezcan todas las burbujas de aire. La curación a 80 ° C por 1 h en un horno.
- Permita que el PDMS enfriar RT. uso de un bisturí para cortar el dispositivo al menos 3 mm de las características y lentamente retire la capa PDMS de la oblea de silicio. Perfore la entrada de la fase dispersa, la entrada de la fase continua y la salida de la capa superior de PDMS con un punzón de diámetro 0,75 mm.
- Limpie el PDMS con cinta adhesiva para quitar las partículas de polvo. Plasma tratar capas PDMS de la parte superior e inferior simultáneamente durante 2 min en un plasma W 300 limpiador. Coloque la capa superior sobre la superficie de capa inferior y deslice las superficies relativamente hasta características están alineadas viendo a través de un microscopio estéreo.
- Curar el dispositivo en un horno a 120 ° C durante un día para mejorar la fuerza y completa la vinculación.
3. preparación de reactivos
- Preparar la solución de la fase continua: hexadecano disolviendo 18 vol % silicón-basado agente tensioactivo no iónico.
- Preparar la solución de la fase dispersa: diacrylate hidrofílico poly (glicol de etileno) (PEGDA, 255 MW,) que contiene 2-hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone (98%, 224 MW) a una concentración de 5 mg/mL como el foto iniciador, rodamina B ( 95%, 479.01 MW) a una concentración de 1 mmol/L como los tintes fluorescentes.
- Se llenan los embalses 1 mL de regulador de presión neumática de la fase continua. Llenan la punta de carga de gel de 200 μL de la fase dispersa.
4. sistema preparación
- Coloque el dispositivo de microfluidos semi-3D en el escenario de un microscopio óptico invertido, con una cámara de alta velocidad.
- Conecte el tubo de fluorado etileno propileno (FEP) en el agujero perforado de la fase continua colocando un tubo de acero inoxidable corto, luego inserte el extremo de una punta de carga de gel en el agujero perforado de la fase dispersa. Introduzca una longitud de 20 cm de tubo de FEP en la salida del dispositivo y coloque el extremo de un tubo de centrífuga de 15 mL.
Nota: La configuración del sistema se ilustra en la figura 1.
5. formación de gotas
- Coloque el dispositivo sobre la mesa de trabajo de un microscopio invertido y asegúrese de que el cruce de canales está situado aproximadamente en la posición de la fuente de luz del microscopio. Enfocar el microscopio invertido en una región que contiene la intersección de dos fases, la región del orificio y el canal aguas abajo.
- Ajustar las presiones de dos fases con controlador de presión neumática para entregar el líquido lentamente a la región de intersección, con 15 mbar para la fase dispersa y de 30 mbar para la fase continua. Esperar 3 minutos para la estabilización y equilibrado hasta el estable flujo no llevando burbujas y residuo PDMS.
- Los parámetros en la interfaz de usuario del software de control de entrada. Ajuste la presión de la fase dispersa como la presión a nivel de base del sistema a una constante, por ejemplo, mantener a 45 mbar. Aumento de la presión de la fase continua hasta el modo de desintegración de la emulsión cambia del chorro en el modo de transmisión punta, espere 5 minutos para la estabilización.
- Coloque el extremo del tubo de FEP el orificio de salida de conexión para el tubo de la centrífuga para recoger las gotas.
6. PEGDA partículas colección y caracterización
- Fijar el tubo de centrífuga oblicuamente en la luminaria. Obtener las partículas PEGDA a través de la solidificación rápida por la exposición Ultravioleta cuando el flujo de la fase líquida en el tubo.
- Al terminar el proceso de recogida, de la muestra y observar las partículas PEGDA a través del microscopio de fluorescencia con 20 X y 60 X objetos respectivamente.
Nota. Se analizan las imágenes fluorescentes digitales captadas por la cámara por una rutina de software a medida. La imagen es primer deconvolución basado en el algoritmo de L R17 para eliminar el efecto difuminado de la luz fuera de enfoque y la esfera se extraen los objetos de la imagen basado en el método de detección Canny del borde; por último, se puede calcular el diámetro de cada objeto de la esfera usando Hough transformación18. Como resultado, se pueden calcular media y desviación estándar de los diámetros de los objetos de la esfera en cada imagen.
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Representative Results
El chip de microfluidos enfoque flujo semi-3D fue fabricado mediante técnicas de litografía blanda en múltiples capas como se describió anteriormente. El proceso de fabricación y los resultados para el molde principal en protocolare que se muestra en la figura 2. La primera capa, que proporciona un canal de ancho de 65 μm para la introducción de la fase dispersa y una 50 μm ancho del orificio (figura 2a), es de 20 μm de espesor. Una capa de espesor de 130 μm de adición se utiliza para proporcionar el canal de la fase continua y el canal de salida (figura 2b). Figura 2 c muestra un molde de acabado. Un filtro en la entrada está diseñado para evitar que los residuos de los agujeros perforados en el PDMS entren. Esto se hace para superar la obstrucción en el orificio (figura 2d).
Después de la fabricación de los moldes principales, el proceso de fundición y los resultados en el Protocolo se muestran en la figura 3. Piezas de mitad superior e inferior con estructuras de espejos se preparan con PDMS. Con un punzón de 0,75 mm para perforar los agujeros de entrada y salida en la capa superior de PDMS. Después del tratamiento plasma de oxígeno al mismo tiempo, las características de la parte superior y las losas de fondo PDMS se alinean con menos error de alineación que no afecta significativamente el rendimiento del dispositivo. La longitud del dispositivo conjunto semi-3D es unos 5 cm. Probamos los chips largo 10 cm agregar el canal descendente. Sin embargo, cuanto mayor sea el chip, la más difícil proceso de la alineación debido a la creciente región de alineación. Además, el chip más corto (como el chip largo 2,5 cm usamos) también dificulta el proceso de alineación debido a la falta de flexibilidad.
El dispositivo de microfluidos enfoque flujo semi-3D y el proceso de formación de gota típicos son ilustrados en la figura 4. Debido a la diferencia de profundidad de los canales de fase dispersa y la fase continua, se espera que el flujo de la fase dispersa se presionados desde todas las direcciones por el flujo de la fase continua. Como resultado, líquido cónica simétrica punta formas para producir gotas continuamente. El tamaño de las gotas es cambiado por el cociente de la presión de flujo de fases continua y dispersa. Para nuestros experimentos, la presión de la fase dispersa (PD) se mantiene constante la presión a nivel de base, como la presión de la fase continua (PC) se modifica para afectar la fuerza de corte, por lo que los procesos de desintegración de gotas cambian de el modo de chorro en el modo de transmisión de punta, como se muestra en la figura 5. Las gotitas se solidifican formando partículas de foto polimerización. La exposición Ultravioleta polimeriza el monómero de las gotas. La figura 6 muestra imágenes fluorescentes de partículas con ratio de presión; y análisis de la imagen revelan el tamaño de las gotas, que se traza en función de la relación de presión en la figura 7un. Por analogía con el circuito eléctrico método24, en la siguiente figura 7bse muestra el circuito equivalente fluídico. Se calculó aproximadamente la resistencia hidráulica de tres partes: el canal de la fase dispersa es 1.26 X 1014Pa • s • m-3 (R3); la suma del orificio y el canal descendente es 6.08 X 1012Pa • s • m-3 (R4 + R5); el canal de la fase continua y el filtro son 2.19 X 1012Pa • s • m-3 (R2) y 1.10 X 1012Pa • s • m-3 (R1). Las relaciones entre todas las resistencias hidráulicas y las tasas de flujo se muestran como sigue:
PB es la presión de la intersección de dos fases con microcanales. Cuando la presión de la fase dispersa (PD) se mantiene a 45 mbar, el cociente de la presión se convierte en la proporción correspondiente de la tasa de flujo:
QC = 0.8859PC - 1.62891
QD = 2.1302 - 0.0217PC
El tamaño de la gotita se grafica como una función de la proporción de la tasa de flujo en la Figura 7c. La figura indica que la creciente relación de la presión (PC / PD) conduce al flujo de fase dispersante está cortado en la punta spindlier y la gotita de la disminución. El rango de tamaño de las partículas PEGDA varía de 1 μm a 80 μm con un media coeficiente de variación (CV) por debajo del 7%. Las gotitas más pequeñas fueron observadas mediante el microscopio de fluorescencia con objeto de X 60, por lo que sólo había una docena o más gotas en la vista del microscopio. Además, gotitas más pequeñas eran aproximadamente veinte o treinta píxeles de radio. Fue difícil caracterizar los coeficientes de variación de gotitas más pequeñas, y la pequeña base daría lugar a un cálculo inexacto, por lo que no se indicaban los CVs de las gotitas más pequeñas.
Figura 1 : La configuración del sistema experimental de Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Figura 2: Mater moldes para litografía blanda en múltiples capas. (a) la máscara 1 utilizado para formación de 20 μm características. El Máster contiene el canal de la fase dispersa y un orificio. (b) la máscara 2 utilizado para la formación de 130 μm características. El Máster contiene el canal de la fase continua y el canal de salida. (c) master monolítico. (d) dibujo del CAD y SEM del filtro, situado en la entrada para evitar que se atasque. Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Figura 3: procesos de del bastidor y de la vinculación para el chip de microfluidos PDMS. (a) diagrama esquemático de la Asamblea de la dispositivo PDMS de semi-3D. (b) estructuras de PDMS losa bajo dispositivo de microfluidos monolítico SEM.(c) . Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Figura 4: Un ilustrativo trabajo a principio de los sistemas de microfluidos enfoque flujo semi-3D. Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Figura 5 : Magos de fluorescencia una ilustrativa de diversos procesos de desintegración de la gotita. (a-d) el modo de chorro y (e-f) el modo de transmisión de punta. PC es la presión de la fase continua, yD de P es la presión de la fase dispersa. Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Figura 6 . Las partículas PEGDA bajo cociente de la presión diferentes. Imágenes de fluorescencia de las partículas de diferentes tamaños y bajo (a-b) al microscopio óptico y (c-d) confocal laser microscopía. PC es la presión de la fase continua, yD de P es la presión de la fase dispersa. Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
Figura 7 . Tamaño de la gota. (a) tamaños correspondientes sobre la base de la relación de presión. Cuadrado negro representa la distribución de tamaño de gota, y los números superíndices son el correspondiente coeficiente de variación. Gotas más pequeñas son difíciles de caracterizar los coeficientes de variación de gotitas más pequeñas, por lo que no se indicaban lo CV de las gotitas más pequeñas. (b) ilustración del circuito neumático. (c) la relación entre la razón de tasas de flujo y tamaño de gota. Haga clic aquí para ver una versión más grande de esta figura.
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Discussion
La generación de gotitas en el modo de enfoque de flujo utilizando dispositivo microfluídico semi-3D y 2D se ha desarrollado previamente en una variedad de informes8,9,15,19,20, 21. En estos sistemas, el líquido acuoso que no puede ser solidificado fue elegido como la fase dispersa, como agua desionizada8,15,20,21, una solución acuosa de sodio hidróxido19 y la formación del modo de transmisión punta estable necesita el apoyo de campo eléctrico de alta tensión8,21. Además, dicho sistema de formación de gota enfoque caudal es similar a del agua pura, con una solución acuosa de concentración baja de PEGDA12, que es más estable que el de usar PEGDA sin dilución como la fase dispersa.
En nuestro semi-3D enfoque flujo microfluídicos sistema sin campo eléctrico de alta tensión, sin diluir solución PEGDA fue utilizado como el líquido de la fase dispersa, aumentando la dificultad al proceso de desintegración de forma estable de la gotita. Encontramos que el modo de transmisión punta era más estable al aumentar la concentración de surfactante; y también, aumentando la concentración de surfactante disminuye la tensión superficial local y formaron una punta más lobulada, llevando a la disminución de tamaño de gota. Como resultado, tamaño controlable gotitas (1 μm a 80 μm de diámetro) pueden obtenerse ajustando solamente la relación de presión, en una facilidad de fabricación y forma de alta reproducibilidad.
Sin embargo, hay una restricción importante para nuestro sistema de microfluidos enfoque flujo semi-3D. PDMS es una clase de material flexible para que el modo de enfoque de flujo sería inestable a alta presión debido a la deformación de la MCP. Además, aunque se informó que hexadecano causaría inflamación22de PDMS, no observamos deformaciones de nuestra MCP causando por tal efecto. Fueron seleccionados los 80 μm y 100 μm amplia para la fase dispersa, y deformación leve fue observada cuando la presión aumenta. Por lo tanto, sugerimos que la tasa de flujo en la región del orificio es demasiado elevada a tan alta presión, lleva a la inevitable deformación, pero no por el efecto hinchazón de hexadecano. Un dispositivo conjunto plano se dobla ligeramente después de uso continuado durante 7 horas. Tarda unas 4 horas para medir un grupo de datos prácticos, y el dispositivo no se ha deformado notable. Además, merece la pena explorar si el proceso de ruptura feroz con cruce dio como resultado el modo de enfoque de flujo inestable. Y Unión, la estructura de flujo de enfoque con un ángulo entre los dos canales de fase (incluyendo 15°, 45°, 65°) fue seleccionado para hacer un suave flujo de enfoque de un modo más estable. Sin embargo, no hay modo de transmisión de punta se produjo bajo los dispositivos microfluídicos, y sólo grandes gotas forman bajo modo de chorro. También se informó de que el ancho total del flujo de la fase dispersa era cerca de 30 μm bajo alta presión relación con Unión Y23. Finalmente, fue algo baja la presión a nivel de base aplicada en la fase dispersa, y baja presión reduce la frecuencia de generación, especialmente para las gotas más pequeñas. Se espera que la tasa de producción ser adquiridas a través de la estructura en paralelo en nuestro futuro trabajo.
Gota más pequeño causa mayor relación superficie-volumen, conduce a la eficiencia y mayor velocidad de reacción. En biología, se utilizará la gota pequeña para detección de anticuerpos y descubrimiento de fármacos por la decoración superficial, encapsulación por adición de moléculas biológicas, tales como objetivo genético las células y produce partículas funcionales agregando magnético y fluorescente material. Esperamos que nuestros protocolos, relativos a la fabricación de dispositivo PDMS enfoque flujo semi-3D y la generación de pequeñas gotas, va a contribuir a la continuados y más profundos estudios en campo y se utiliza en amplia gama de aplicaciones biológicas.
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Disclosures
Los autores no tienen nada que revelar.
Acknowledgments
Este trabajo fue apoyado por la investigación fundamental de Shenzhen financiación (subvención no. JCYJ 20150630170146829, JCYJ20160531195439665 y JCYJ20160317152359560). Los autores desean agradecer Prof. Y. Chen en el Shenzhen institutos de tecnología de avanzada, Academia China de Ciencias para las ayudas.
Materials
| Name | Company | Catalog Number | Comments |
| Silicon wafer | Huashi Co., Ltd | ||
| SU-8 2025, 2100 | Microchem Co. | Y111069 | |
| SU-8 developer | Microchem Co. | Y020100 | |
| Chromium mask | Qingyi Precision Mask Making Co., Ltd | ||
| polydimethylsiloxane(PDMS) | Dow Corning | Sylgard 184 | |
| poly(ethylene glycol) diacrylate (PEGDA) | Sigma | 26570-48-9 | |
| 2-hydroxy-40-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone | TCI | H1361-5G | photoinitiator |
| Hexadecane | Sigma | 544-76- 3 | |
| ABIL EM 90 | CHT | 144243-53-8 | surfactants |
| Rhodamine B | Aladdin | 81-88-9 | fluorescent dye |
| Spin Coater | |||
| Lithography machine | |||
| Automatic ointment agitator | Thinky | ARV-310 | |
| Oven | BluePard | ||
| Optical microscope | OLYMPUS | IX71 | |
| High-speed camera | Hamamatsu, Japan | ORCA-flash | |
| MAESFLO Microfluidic Fluid Control System | FLUIGENT | MFCS-EZ | |
| UV lamp | FUTANSI | 365 nm UV light, 8000 MW/CM2 |
References
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