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Micropunching Lithographie zur Erzeugung von Mikro-und Submikron-Muster auf Polymersubstrate
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Micropunching Lithography for Generating Micro- and Submicron-patterns on Polymer Substrates
DOI:

09:24 min

July 02, 2012

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Chapters

  • 00:05Title
  • 01:05Cutting Operation in MPL: Overview and Initial Steps
  • 01:57Cutting Operation in MPL: Single-layer Microstructures on a Substrate
  • 02:36Cutting Operation in MPL: Multi-layer Microstructures on a Substrate
  • 04:44Drawing Operation in MPL: Making PDMS Micropillars on HDPE Channel Sidewalls
  • 06:25Microstructures Formed by Cutting and Drawing, and Their Application
  • 09:00Conclusion

Summary

Automatic Translation

Ein micropunching Lithographie Ansatz wurde entwickelt, um Mikro-und Submikron-Muster auf der Oberseite, Seitenwand-und Bodenflächen der Polymer-Substraten zu erzeugen. Sie überwindet die Hindernisse der Strukturierung leitfähiger Polymere und Erzeugung Seitenwand Muster. Diese Methode ermöglicht eine schnelle Fertigung von mehreren Funktionen und ist frei von aggressiven Chemie.

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