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Hypodermic सुई की नोक पर ठीक इलेक्ट्रोड का निर्माण Photoresist स्प्रे कोटिंग और जैव चिकित्सा अनुप्रयोगों के लिए लचीले Photomask का उपयोग
Standardized Data Acquisition for Neuromelanin-Sensitive Magnetic Resonance Imaging of the Substantia Nigra
Journal (Neuroscience)
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Dual-Task Stroop Paradigm for Detecting Cognitive Deficits in High-Functioning Stroke Patients
Journal (Neuroscience)
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Hypodermic सुई की नोक पर ठीक इलेक्ट्रोड का निर्माण Photoresist स्प्रे कोटिंग और जैव चिकित्सा अनुप्रयोगों के लिए लचीले Photomask का उपयोग

Article DOI: 10.3791/56622-v • 08:15 min • November 28th, 2017
November 28th, 2017 •
1, 2, 1,2
1Department of Biomedical Science and Engineering, Gwangju Institute of Science and Technology (GIST), 2School of Mechanical Engineering, Gwangju Institute of Science and Technology (GIST)

Chapters

Summary
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ठीक interdigitated इलेक्ट्रोड के लिए निर्माण विधि (अंतर और चौड़ाई: 20 µm) एक hypodermic सुई की नोक पर (व्यास: ७२० µm) photomask प्रक्रिया में एक स्प्रे कोटिंग और लचीली फिल्म photolithography का उपयोग कर प्रदर्शन किया है.

Tags

तंत्रिका विज्ञान अंक १२९ Hypodermic सुई interdigitated इलेक्ट्रोड स्प्रे कोटिंग लचीली फिल्म photomask विद्युत प्रतिबाधा स्पेक्ट्रोस्कोपी EIS
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