Engineering
A subscription to JoVE is required to view this content. Sign in or start your free trial.
Chapters
Summary
Please note that all translations are automatically generated.
Enhetlig storlek nanopartiklar kan ta bort svängningar i kontakt håldimensioner mönstrade i poly (metylmetakrylat) (PMMA) fotoresistfilmer från elektronstråle (E-stråle) litografi. Processen omfattar elektro kanalisera till centrum och inlåningsnanopartiklar i kontakt hål, följt av fotoresist återflöde och plasma och våt-etsningsstegen.