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L'utilizzo di nanoparticelle sacrificali per eliminare gli effetti del colpo-rumore in fori di contatto fabbricato da E-litografia a fascio
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Use of Sacrificial Nanoparticles to Remove the Effects of Shot-noise in Contact Holes Fabricated by E-beam Lithography
DOI:

07:47 min

February 12, 2017

,

Chapters

  • 00:05Title
  • 01:20Derivatization and Characterization of Silicon Wafer Surfaces
  • 02:14Gold Nanoparticle (GNP) Deposition into E-beam-patterned Holes
  • 03:46Pol(methyl methacrylate) (PMMA) Photoresist Reflow and Dry- and Wet-etching
  • 04:50Results: Reduction of Shot-noise by Deposition and Subsequent Etching of Sacrificial GNPs
  • 06:29Conclusion

Summary

Automatic Translation

Uniformemente nanoparticelle di dimensioni in grado di rimuovere le fluttuazioni dei contatti dimensioni dei fori di fantasia in poli (metacrilato di metile) film (PMMA) fotoresistente per fascio di elettroni (E-beam) litografia. Il processo prevede di focalizzazione elettrostatica al centro e deposito nanoparticelle in fori di contatto, seguita da fotosensibile riflusso e passi plasma e bagnato-incisione.

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