Journal
/
/
Bruk av Offernanopartikler å fjerne effekten av Shot-støy i kontakt med Holes fabrikkert av E-beam Litografi
JoVE Journal
Engineering
A subscription to JoVE is required to view this content.  Sign in or start your free trial.
JoVE Journal Engineering
Use of Sacrificial Nanoparticles to Remove the Effects of Shot-noise in Contact Holes Fabricated by E-beam Lithography
DOI:

07:47 min

February 12, 2017

,

Chapters

  • 00:05Title
  • 01:20Derivatization and Characterization of Silicon Wafer Surfaces
  • 02:14Gold Nanoparticle (GNP) Deposition into E-beam-patterned Holes
  • 03:46Pol(methyl methacrylate) (PMMA) Photoresist Reflow and Dry- and Wet-etching
  • 04:50Results: Reduction of Shot-noise by Deposition and Subsequent Etching of Sacrificial GNPs
  • 06:29Conclusion

Summary

Automatic Translation

Jevnstore nanopartikler kan fjerne svingninger i kontakthulldimensjoner mønstret i poly (metylmetakrylat) (PMMA) fotoresist filmer av elektronstråle (E-stråle) litografi. Prosessen innebærer elektrotrakt til sentrum og innskuddsnanopartikler i kontakt hull, etterfulgt av fotoresist reflow og plasma- og våt-etsing trinn.

Related Videos

Read Article