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एयरोसोल-सहायता धातु ऑक्साइड संरचनाओं के रासायनिक वाष्प जमाव: जिंक ऑक्साइड छड़
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Aerosol-assisted Chemical Vapor Deposition of Metal Oxide Structures: Zinc Oxide Rods
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एयरोसोल-सहायता धातु ऑक्साइड संरचनाओं के रासायनिक वाष्प जमाव: जिंक ऑक्साइड छड़

DOI:
10.3791/56127-v

•

06:39 min

•

September 14, 2017

•

, , , ,
1Instituto de Microelectrónica de Barcelona (IMB-CNM, CSIC), 2SIX Research Centre,Brno University of Technology, 3Institute of Physics of Material,Academy of Science of Czech Republic, 4Institute of Physical Engineering and Central European Institute of Technology,Brno University of Technology

Chapters

  • 00:05Title
  • 00:51Preparation of Substrates and Set-up of Deposition Temperature
  • 02:08Preparation of Solution for Aerosol Generation
  • 03:02Chemical Vapor Deposition Process
  • 04:00Results: Characterization of Zinc Oxide Rods Deposited on Silicon Substrates via Chemical Vapor Deposition
  • 05:39Conclusion

Summary

Automatic Translation

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छड़ के रूप में स्तंभ जस्ता ऑक्साइड संरचनाओं पूर्व जमा उत्प्रेरक बीज कणों के उपयोग के बिना एयरोसोल की सहायता से रासायनिक वाष्प जमाव के माध्यम से संश्लेषित कर रहे हैं । इस विधि या तो सिलिकॉन, क्वार्ट्ज या पॉलिमर पर आधारित विभिंन सब्सट्रेट के साथ स्केलेबल और संगत है ।

Tags

Aerosol-assisted Chemical Vapor DepositionMetal Oxide StructuresZinc Oxide RodsSilicon SubstrateCatalyst-free GrowthLow-temperature DepositionGas Sensors

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