Login processing...

Trial ends in Request Full Access Tell Your Colleague About Jove
JoVE Journal
Engineering

A subscription to JoVE is required to view this content.
You will only be able to see the first 20 seconds.

С помощью плазмы молекулярно-лучевой эпитаксии N-полярная InAlN-барьерные Транзисторы высокого электронно-мобильности
 
Click here for the English version

С помощью плазмы молекулярно-лучевой эпитаксии N-полярная InAlN-барьерные Транзисторы высокого электронно-мобильности

Article doi: 10.3791/54775
November 24th, 2016

Summary November 24th, 2016

Please note that all translations are automatically generated.

Click here for the English version.

Молекулярно-лучевой эпитаксии используется для расти N-полярные транзисторы InAlN барьер высокой подвижности электронов (HEMTs). Контроль подготовки пластин, условий роста слоя и структура эпитаксиальных приводит к гладкой, композиционно однородных слоев InAlN и HEMTs с подвижностью достигает 1,750 см 2 / В ∙ сек.

Read Article

Get cutting-edge science videos from JoVE sent straight to your inbox every month.

Waiting X
simple hit counter