/
/
Plasma-assisterad Molecular Beam epitaxi av N-polära InAlN barriär hög elektron rörlighet transistorer
A subscription to JoVE is required to view this content. Sign in or start your free trial.
Chapters
- 00:05Title
- 00:53RF-assisted Plasma-assisted Molecular Beam Epitaxy (PAMBE) System and Sample Preparation
- 04:36N-polar InAIN-barrier High-electron-mobility Transistor (HEMT) Growth
- 08:03Results: N-polar InAIN-barriers High-electron-mobility Transistors Grown with PAMBE
- 09:30Conclusion
Molekylär balk epitaxi används för att odla N-polära InAlN-barriär med hög elektronrörlighet transistorer (HEMTs). Kontroll av skiv förberedelse, lager tillväxtförhållanden och epitaxiella strukturen resulterar i släta, sammansättnings homogena InAlN lager och HEMTs med rörlighet så hög som 1750 cm2 / V ∙ sek.
