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マイクロ電極へのエッチングナノアーキテクチャへの集束イオンビームリソグラフィー
JoVE Journal
Bioengineering
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JoVE Journal Bioengineering
Focused Ion Beam Lithography to Etch Nano-architectures into Microelectrodes
DOI:

13:49 min

January 19, 2020

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Chapters

  • 00:04Title
  • 00:51Aligning the Focus Ion Beam (FIB) to the Silicon Probes
  • 09:46Writing an Automated Process for Etching
  • 11:28Results: FIB Etched Nano-architecture on the Surfaces of Intracortical Probes and Microelectrodes Affects Neuron Density and Electrophysiology
  • 13:08Conclusion

Summary

Automatic Translation

我々は、皮質内マイクロ電極デバイスへのナノアーキテクチャのエッチングは、炎症反応を減少させ、電気生理学的記録を改善する可能性を有することを示した。本明細書に記載される方法は、非機能的かつ機能的な単一シャンクシリコン皮質内マイクロ電極の表面にナノアーキテクチャをエッチングするアプローチを概説する。

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