Journal
/
/
Сосредоточенная литография Ионного Луча для наноархитектур etch в микроэлектроды
JoVE Journal
Bioengineering
A subscription to JoVE is required to view this content.  Sign in or start your free trial.
JoVE Journal Bioengineering
Focused Ion Beam Lithography to Etch Nano-architectures into Microelectrodes
DOI:

13:49 min

January 19, 2020

, , , ,

Chapters

  • 00:04Title
  • 00:51Aligning the Focus Ion Beam (FIB) to the Silicon Probes
  • 09:46Writing an Automated Process for Etching
  • 11:28Results: FIB Etched Nano-architecture on the Surfaces of Intracortical Probes and Microelectrodes Affects Neuron Density and Electrophysiology
  • 13:08Conclusion

Summary

Automatic Translation

Мы показали, что травление наноархитектуры в внутрикортикальные микроэлектродные устройства могут уменьшить воспалительные реакции и имеет потенциал для улучшения электрофизиологических записей. Описанные в нем методы намечают подход к наноархитектуре на поверхности нефункциональных и функциональных однохвостового кремния интракортикальных микроэлектродов.

Related Videos

Read Article