/
/
Etch Nano mimarilerine mikroelektrotlara odaklanmış iyon ışını Litografisi
A subscription to JoVE is required to view this content. Sign in or start your free trial.
1Department of Electrical Engineering and Computer Science,University of Michigan, 2Veteran Affairs Ann Arbor Healthcare System, 3Department of Neurology, School of Medicine,University of Michigan, 4Department of Biomedical Engineering,University of Michigan, 5Michigan Center for Materials Characterization,University of Michigan, 6Carl Zeiss SMT, Inc.
Chapters
- 00:04Title
- 00:51Aligning the Focus Ion Beam (FIB) to the Silicon Probes
- 09:46Writing an Automated Process for Etching
- 11:28Results: FIB Etched Nano-architecture on the Surfaces of Intracortical Probes and Microelectrodes Affects Neuron Density and Electrophysiology
- 13:08Conclusion
Nano-mimarinin intrakortikal mikroelektrot cihazlarına aşındırmalarının inflamatuar yanıtı azaltabileceğini ve elektrofizyolojik kayıtları iyileştirme potansiyeline sahip olduğunu gösterdik. Burada açıklanan yöntemler, nano-mimarileri işlevsel olmayan ve fonksiyonel tek saplı silikon intrakortikal mikroelektrotların yüzeyine aşındırmak için bir yaklaşımı ortaya çıkarmaktadır.
