Waiting
Login processing...

Trial ends in Request Full Access Tell Your Colleague About Jove
JoVE Journal
Bioengineering

A subscription to JoVE is required to view this content.

Сосредоточенная литография Ионного Луча для наноархитектур etch в микроэлектроды
 
Click here for the English version

Сосредоточенная литография Ионного Луча для наноархитектур etch в микроэлектроды

Article DOI: 10.3791/60004-v 13:49 min January 19th, 2020
January 19th, 2020

Chapters

Summary

Please note that all translations are automatically generated.

Click here for the English version.

Мы показали, что травление наноархитектуры в внутрикортикальные микроэлектродные устройства могут уменьшить воспалительные реакции и имеет потенциал для улучшения электрофизиологических записей. Описанные в нем методы намечают подход к наноархитектуре на поверхности нефункциональных и функциональных однохвостового кремния интракортикальных микроэлектродов.

Tags

Биоинженерия выпуск 155 сфокусированная ионная лучевая литография интракортикальные микроэлектроды наноархитектура электрофизиология нейровоспаление биосовместимость
Read Article

Get cutting-edge science videos from JoVE sent straight to your inbox every month.

Waiting X
Simple Hit Counter