U2O5 Film préparation via UO2 dépôt par pulvérisation de courant continu et l’oxydation Successive et réduction avec l’oxygène atomique et de l’hydrogène atomique
Ce protocole présente la préparation de U2O5 couches minces obtenues in situ sous ultravide. Le processus implique oxydation et réduction des films2 UO avec l’oxygène atomique et de l’hydrogène atomique, respectivement.