Preparazione di U2O5 Film via UO2 deposizione di corrente continua Sputtering e successiva ossidazione e riduzione con ossigeno atomico e idrogeno atomico
Questo protocollo presenta la preparazione di U2O5 film sottili ottenuti in situ ad ultra-alto vuoto. Il processo coinvolge l'ossidazione e riduzione di UO2 film con ossigeno atomico e idrogeno atomico, rispettivamente.